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2、許法施行規(guī)則審查指南審査基準審査指南初步審查(簡稱初審)方式審査補正通知書補正通知書問題、缺陷不備通知書中指出的答復(fù)文件応答書意見陳述書意見書修改文件補正書中日差異主動修改自発補正審查員認為指摘判斷申請人認為思料主張允許認認會晤面接要請受諾電話會晤電話修改(提交申請前的)修正修改(提交申請后的)補正修改(授權(quán)后的)訂正撤回取下視撤取下取下放棄放棄授權(quán)登録権利化專利證書特許証or登録証年費年金納付、支払專利權(quán)的期限、保護期権利期間存続期間保護客體保護対象保護范圍権利範囲(專利權(quán)的)終止消滅駁回、駁回決定拒絶査定復(fù)審請求不服審判請求提起無效宣告請求無効審判請求無効理由請求人請求人書面審理書面審理口
3、頭審理(簡稱口審)口頭審理口頭審議參加口審口頭審理出頭復(fù)審決定不服審判請求審決無效決定無効審判請求審決無効審決、有効審決撤銷取消行政訴訟行政訴訟審決取消訴訟提起侵權(quán)訴訟侵害訴訟訴訟時效提訴時効起訴提訴訴訟提起訴人民法院裁判所中等、高等、最高法官裁判官心證心証舉證責(zé)任証拠挙責(zé)任証明責(zé)任證據(jù)鏈証拠群(?)公證公証認證認証被控侵權(quán)產(chǎn)品號製品號物件侵害被疑品被控侵權(quán)人侵害被疑者侵權(quán)行為侵害行為侵害該當抗辯抗弁現(xiàn)有技術(shù)抗辯公知技術(shù)抗弁自由技術(shù)抗弁現(xiàn)有設(shè)計抗辯公知意匠抗弁在先使用先使用権不侵權(quán)非侵害侵害該當談判交渉和解和解損害賠償損害賠償求駁回訴訟請求原告請求卻下判決判決(決定、判決)生效確定上訴上訴控訴
4、控訴上訴一專利代理人特許弁理士代理人專利代理機構(gòu)特許事務(wù)所委托依頼委托書委任狀包括委任狀接受(委托)引受客戶客様貴公司御社貴所貴所我所弊所指示指示報價見積見積書請款(費用)請求請求書作業(yè)作業(yè)處理対応取扱報告報告制作作成發(fā),發(fā)送送付送咨詢問合答復(fù)回答會談打合檢索調(diào)査檢索式検索式鑒定鑑定監(jiān)控權(quán)利行使権利行使實施許可実施許諾實施許可費実施料料普通實施許可通常実施権許諾獨占實施許可専用実施権排他實施許可獨占的通常実施権排他的実施許諾發(fā)明(帶*詞匯為實用新型通用)中文日文備注發(fā)明特許発明特許發(fā)明專利權(quán)特許権発明特許権發(fā)明人発明者技術(shù)方案発明発明構(gòu)成技術(shù)的*保密審查秘密保持審査機密審査秘密審査*說明書明細
5、書*背景技術(shù)(部分)背景技術(shù)*發(fā)明內(nèi)容(部分)発明開示*具體實施方式実施形態(tài)*實施例実施例*比較例、對比例比較例*說明書附圖図面図1、図2*附圖標記符號、図面符號*摘要要約*摘要附圖選択図權(quán)利要求書特許請求範囲*權(quán)利要求請求項*獨立權(quán)利要求獨立項獨立獨立請求項*主權(quán)項*從屬權(quán)利要求従屬項従屬従屬請求項產(chǎn)品權(quán)利要求物方法權(quán)利要求方法用途權(quán)利要求用途型馬庫什權(quán)利要求*開放式形式開放*封閉式形式閉鎖*多項引多項*技術(shù)特征構(gòu)成要件技術(shù)的特徴(単一性)權(quán)利要求1請求保護的技術(shù)方案請求項1係発明*(權(quán)利要求的)保護范圍技術(shù)的範囲*國際申請國際出願PCT出願30月*國際專利合作條約特許協(xié)力條約PCT條約*國
6、際公布文本國際公開公報*國際局國際事務(wù)局WIPO*國際初審國際予備審査*國際檢索報告國際調(diào)査報告書*進入國家階段國內(nèi)段階移行*譯文更正誤訳訂正(發(fā)明專利)公開公開早期公開發(fā)明專利公開公報公開特許公報公開公報實質(zhì)審查(簡稱實審)実體審査情報提供情報提供細則第48條提實審審査請求行加快審查早期審査(請求)審查意見通知書拒絶理由通知(書)拒絶理由*發(fā)出(通知書)発行*新穎性新規(guī)性*創(chuàng)造性進歩性*實用性産業(yè)上利用可能性実用性*三步法3法*對比文件引用文獻引用例引例先行文獻*公開開示*啟示示唆*現(xiàn)有技術(shù)公知技術(shù)先行技術(shù)従來技術(shù)*最接近的現(xiàn)有技術(shù)最近先行技術(shù)*區(qū)別相違點*區(qū)別技術(shù)特征相違點係構(gòu)成*作用役割
7、*要解決的技術(shù)問題解決課題技術(shù)的課題*所采用的技術(shù)手段課題解決手段技術(shù)的手段*技術(shù)效果効果技術(shù)的効果*預(yù)料不到的技術(shù)效果予想外効果*說明書公開充分(不充分)実施可能要件(違反)*得不到說明書支持明細書裏付要件違反*缺少必要技術(shù)特征必須要件欠*單一性単一性単一性要件満単一性違反該當*分案申請分割出願*對現(xiàn)有技術(shù)作出貢獻的先行技術(shù)対貢獻*相同或相應(yīng)的特定技術(shù)特征同一対応特別技術(shù)的特徴*不屬于專利法保護的客體特許法保護不特許事由*重復(fù)授權(quán)*修改超范圍新規(guī)事項追加該當*(權(quán)利要求)不清楚不明確不明瞭*有括號括弧書發(fā)明專利授權(quán)特許査定特許成立發(fā)明專利授權(quán)公報特許掲載公報特許公報*授權(quán)文本登録書面中間程序
8、中間手続審查過程審査経過*全面覆蓋原則*等同原則均等論*禁止反悔原則禁反言法理*字面侵權(quán)、相同侵權(quán)文言侵害*等同侵權(quán)均等侵害*直接侵權(quán)直接侵害*間接侵權(quán)間接侵害*權(quán)利要求的解釋解釈實用新型(帶*詞匯為外觀設(shè)計通用)實用新型実用新案実案發(fā)明人考案者技術(shù)方案考案技術(shù)的權(quán)利要求書請求範囲權(quán)利要求1請求保護的技術(shù)方案請求項1係考案實用新型的內(nèi)容考案開示*無實審無審査*權(quán)利評價報告権利評価報告書(日本:技術(shù)評価書)外觀設(shè)計外觀設(shè)計意匠設(shè)計人創(chuàng)作者產(chǎn)品物品形狀形狀圖案模様色彩色色彩設(shè)計要點創(chuàng)作要點特徴簡要說明意匠簡単説明相似外觀設(shè)計類似意匠合案申請一出願多意匠一出願附圖図面圖片或照片図面線図寫真六面視圖六面図主視圖正面図后視圖背面図俯視圖平面図仰視圖底面図左視圖左側(cè)面図右視圖右側(cè)面図立體圖斜視図剖視圖斷面図剖面圖端面図參考圖參考図斷面切斷面剖切符號切斷記號虛線破線、點線實線実線現(xiàn)有設(shè)計公知意匠先
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