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版圖繪制及Virtuoso
工具軟件范鎮(zhèn)淇2011年3月17日2023最新整理收集do
something2023/12/10共41頁2主要內容典型深亞微米工藝流程DesignRule的簡介Virtuoso軟件的簡介及使用PDK簡介2023/12/10共41頁31、典型深亞微米工藝流程這里介紹目前比較普通的N阱CMOS工藝流程,用到的wafer(晶圓)是P型襯底,所以需要用NWELL來構建p溝器件,而n型MOS管就構建在p襯底上。這里以反相器為例簡單的介紹下其制作的基本工藝流程。2023/12/10共41頁4第一張mask定義為n-well(orn-tub)maska)離子注入:制造nwell。b)擴散:在所有方向上擴散,擴散越深,橫向也延伸越多。2023/12/10共41頁5第二張mask定義為activemask。有源區(qū)用來定義管子的柵以及允許注入的p型或者n型擴散的管子的源漏區(qū)。2023/12/10共41頁6忽略版圖中無法體現的一些mask:諸如channelstop、閾值電壓調整等要介紹的第三張mask為polymask:它包含了多晶硅柵以及需要腐蝕成的形狀。2023/12/10共41頁7第四張mask定義為n+mask,用來定義需要注入n+的區(qū)域。2023/12/10共41頁8第五張mask是p+mask。
p+在Nwell中用來定義PMOS管或者NMOS體端引出;p+在Pwell中用來作為歐姆接觸。2023/12/10共41頁9第六張mask就是定義接觸孔了。首先腐蝕SiO2到需要接觸的層的表面。其次要能夠使金屬接觸到擴散區(qū)或者多晶硅區(qū)。2023/12/10共41頁10第七張mask就是金屬1(metal1)了。需要選擇性刻蝕出電路所需要的連接關系。至此,一個反相器的完整版圖就完成了。2023/12/10共41頁112、DesignRule的簡介圖解術語2023/12/10共41頁122023/12/10共41頁132023/12/10共41頁14一個簡單的例子2023/12/10共41頁153、Virtuoso軟件的簡介及使用創(chuàng)建LayoutCellviewFile->New->Cellview2023/12/10共41頁16LayoutEditorWindow2023/12/10共41頁17LayerSelectionWindow(LSW)2023/12/10共41頁182023/12/10共41頁19LayoutEditor菜單(1)Abstract用于版圖抽取,DraculaInteractive用于Dracula工具進行DRC等Verify菜單下的DRC等是用于Diva工具的。2023/12/10共41頁20LayoutEditor菜單(2)2023/12/10共41頁21DisplayControlWindow2023/12/10共41頁22Virtuoso下的快捷鍵的使用(1)Ctrl+A全選Shift+BReturn,升到上一級視圖Ctrl+C中斷某個命令,一般用ESC代替。Shift+C裁切(chop)。C復制,復制某個圖形Ctrl+D取消選擇。亦可點擊空白處實現。Ctrl+F顯示上層等級Shift+F顯示所有等級Ffit,顯示你畫的所有圖形K標尺工具Shift+K清除所有標尺L標簽工具M移動工具Shift+M合并工具,MergeN斜45對角+正交。Shift+O旋轉工具。RotateO插入接觸孔。Ctrl+P插入引腳。PinShift+P多邊形工具。PolygonP插入Path(路徑)Q圖形對象屬性(選中一個圖形先)R矩形工具。繪制矩形圖形S拉伸工具。可以拉伸一個邊,也可以選擇要拉伸的組一起拉伸U撤銷。Undo。Shift+U重復。Redo。撤銷后反悔2023/12/10共41頁23Virtuoso下的快捷鍵的使用(2)V關聯attach。將一個子圖形(child)關聯到一個父圖形(parent)后,若移動parent,child也跟著移動;移動child,parent不會移動。Ctrl+W關閉窗口。Shift+W下一個視圖。W前一個視圖。Y區(qū)域復制Yank。和copy有區(qū)別,copy只能復制完整圖形對象。Shift+Y黏貼Paste。配合Yank使用。Ctrl+Z視圖放大兩倍(也可點住鼠標右鍵拖動)Shift+Z視圖縮小兩倍Z視圖放大ESC鍵撤銷功能Tab鍵平移視圖Pan。按Tab,用鼠標點擊視圖區(qū)中某點,視圖就會移至以該點為中心。Delete鍵刪除BackSpace鍵撤銷上一點。這就不用因為Path一點畫錯而刪除重畫??梢猿蜂N上一點。Enter鍵確定一個圖形最后一點。也可以雙擊鼠標左鍵。Ctrl+方向鍵移動Cell。Shift+方向鍵移動鼠標。方向鍵移動視圖。2023/12/10共41頁244、PDK簡介(1)在以前,PMOS管、NMOS管、電容、電阻以及接觸孔contact等一系列元器件都是手工繪制的,效率比較低。因此為了提高效率,讓設計者有一個流暢的設計環(huán)境,降低開發(fā)周期,許多工藝制造產商都提供了相應尺寸工藝下的PDK。PDK全稱ProcessDesignKit,它主要是由Cadence的Schematic和LayoutTool為主體所組成的,它可以看作是一個工作平臺,在這個工作平臺上可以加載一些模擬軟件和驗證軟件,形成一個完整的設計平臺,這樣的一個設計模式有助于縮短設計者的開發(fā)周期。2023/12/10共41頁25PDK簡介(2)2023/12/10共41頁26PDK簡介(3)PDK不僅提供了MOS管和接觸孔的版圖單元,而且還提供了各類電阻、電容、電感以及三極管等常用器件的Layoutcell,并可以根據具體要求設置器件的相關屬性,參考PDK自帶的說明文件,靈活的使用PDK可以為版圖的繪制帶來了很大的幫助2023/12/10共41頁27PDK建立要想使用PDK首先要創(chuàng)建Library時建立起和Virtuoso軟件之間的鏈接關系:例:建立Library
在建立Library時需要定義techfile,此時應選擇“Attachtoanexistingtechfile”,“TechnologyLibrary”選項中應選擇所采用的PDK,避免以后發(fā)生無法預期的錯誤。2023/12/10共41頁28PDK中的常用元器件版圖NMOS:PMOS:(poly)&(active)&(nplus)&(psub)(poly)&(active)&(pplus)&(nwell)2023/12/10共41頁29電容:這是一個28um×28um的電容,電容值為566fF。跟邊上的MOS管比較起來,可見電容在layout中占用面積比率比較大。電容的計算方式跟平板電容計算方式一樣(C=εS/4πkd)。2023/12/10共41頁30PNP:一般來說PDK中根據三極管發(fā)射極的面積提供了多種可供選擇的三極管2023/12/10共41頁31PNP的橫截面圖2023/12/10共41頁32電阻:2023/12/10共41頁33PDK中的電阻類型比較多,大致可分為三種:擴散電阻、多晶硅電阻、阱電阻。不同類型的電阻其電阻值的取值范圍和阻值精度也是不一樣的。擴散電阻
擴散電阻是在源漏擴散時形成,有N+擴散和P+擴散電阻。在CMOS工藝下,N+擴散電阻是做在PSUB上,P+擴散是在N阱里。這類電阻器的阻值估算為R=RSL/W(RS為薄層電阻,L,W分別為電阻器的寬度和長),其阻值較大,精度一般。2023/12/10共41頁34多晶硅電阻多晶硅電阻結構較簡單,分為兩種類型,一種用POLY1做阻值區(qū),另一種是用POLY2做阻值區(qū)。多晶硅電阻的方塊電阻最小,但精度最高,隨工藝,電壓和溫度的變化較小,適合高精度場合使用。阱電阻
阱電阻就是一N阱條(或P阱條),兩頭進行N+(P+)擴散以進行接觸。其薄層電阻值一般在1-10K歐/方,屬高阻。其電壓系數和溫度系數大,受光照輻射影響也大,但匹配性好,通常可用在精度要求不高的地方,如上拉電阻或保護電阻等。
2023/12/10共41頁35二極管CMOSN阱工藝中二極管結構一般有兩種,一是psub-nwell,另一個是sp-nwell,其中SP即P+重摻雜,在源漏擴散時形成。SP/N-WELL二極管存在寄生PNP三極管和較大的串聯電阻。2023/12/10共41頁36設計中常見的問題找不到相應的Library原因:在FTP主文件夾下的“cds.lib”文件中的Library路徑不對該Library并不存在與cds.lib文件中解決方法編輯相應的cds.lib文件2023/12/10共41頁37不能打開一個Cellview或編輯一個Cellview
有的時候你在一個Library中不能打開一個或編輯Cellview,這種情況的發(fā)生則說明你并沒有權利訪問該Cellview。解決方式:改變你的訪問權利
LibraryManager–Edit–AccessPermissionsform.使用UNIXcommandchmod
來改變你在該Library中的訪問權利(用的很少)2023/12/10共41頁38版圖中的Layout單元消失了Acellviewoftencontainsinstancesofcellsfromotherdesignlibraries.Ifyouopenacellviewthatcontainsinstancesofcellsfromalibrarythatthelayouteditorcannotfind,thefollowinghappens:Whenyoutrytoopenthecellview,youseeawarningdialogboxlistingcellsthatthelayouteditorcannotfindWhenyouclosethedialogbox,thecellviewopens,buteachareacontainingamissingcelldisplaysaflashingboxwithanX2023/12
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