微流控芯片制作與修飾ppt

微流控芯片制作與修飾1微結(jié)構(gòu)的形成

1．經(jīng)典的光刻技術(shù)Photolithographproceduresformakingglasstemplate.(a)Spinecoatingofphotoresist,

(b)coveredwithphotomask,

(c)exposure,(d)developing,(e)etching,and(f)removalofphotoresist.

適合硅、玻璃、石英等材料，與傳統(tǒng)的半導(dǎo)體工業(yè)的方法一致。分為濕法和干法兩種，干法的分辨率較濕法高，相應(yīng)的制造成本也高。Analyst,2004,129,305–308芯片制作與修飾22．模版澆注法

（模塑法）Processoverviewformassmanufacturingofplasticmicrofluidicsystems

適合聚合物材料。大批量生產(chǎn)時成本低。Anal.Chem.,2002,74,78A-86A3微結(jié)構(gòu)的形成3．模版熱壓法Schematicrepresentationofthefabricationmethodinvolvinghotembossingofthermoplasticpolymerpelletsandthermalbonding.

適合熱塑性聚合物。AppliedPhysicsLetters,2002,80,3614-36164微結(jié)構(gòu)的形成微結(jié)構(gòu)的形成2023/1/155

用激光直接在聚合物或玻璃上加熱形成微結(jié)構(gòu).Anal.Chem.,1997,69,2035-2042光刻機:光刻機/紫外曝光機（MaskAligner)又名：掩模對準(zhǔn)曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。常用的光刻機是掩膜對準(zhǔn)光刻，所以叫MaskAlignmentSystem.一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、等工序Photolithography（光刻）意思是用光來制作一個圖形（工藝）；在硅片表面勻膠，然后將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時“復(fù)制”到硅片上的過程。2023/1/156等離子清洗機(plasmacleaner):也叫等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔等目的。2023/1/157數(shù)控機床:是數(shù)字控制機床（Computernumericalcontrolmachinetools）的簡稱，是一種裝有程序控制系統(tǒng)的自動化機床。該控制系統(tǒng)能夠邏輯地處理具有控制編碼或其他符號指令規(guī)定的程序，并將其譯碼，用代碼化的數(shù)字表示，通過信息載體輸入數(shù)控裝置。經(jīng)運算處理由數(shù)控裝置發(fā)出各種控制信號，控制機床的動作，按圖紙要求的形狀和尺寸，自動地將零件加工出來。數(shù)控機床較好地解決了復(fù)雜、精密、小批量、多品種的零件加工問題，是一種柔性的、高效能的自動化機床，代表了現(xiàn)代機床控制技術(shù)的發(fā)展方向，是一種典型的機電一體化產(chǎn)品。2023/1/158注射泵：注射泵由步進電機及其驅(qū)動器、絲桿和支架等構(gòu)成，具有往復(fù)移動的絲桿、