干膜制程課件

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承技藝傳導(dǎo)

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術(shù)傳藝科技傳藝科技股份有限公司FPC工藝部

干膜制程~

張超

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術(shù)傳藝科技目錄2、前處理1、線路目的及圖形轉(zhuǎn)移的工藝方法23、壓膜4、曝光5、DES

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術(shù)傳藝科技1.線路目的及圖形轉(zhuǎn)移工藝方法

3一、目的：

在絕緣基材上制作電路圖形；二、圖形轉(zhuǎn)移的工藝方法：

1：線路制作：

貼干膜/涂覆液態(tài)光致抗蝕劑+光致+DES傳

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術(shù)傳藝科技2.前處理

3一、目的：

在線路板行業(yè)中，銅面的清潔與粗化的效果，會(huì)直接影響后續(xù)制程的成敗。二、工藝方法：1.有哪些工藝方法：1.磨刷2.噴砂3.化學(xué)清洗(目前我司用的是化學(xué)清洗）4.超粗化2.評(píng)價(jià)銅面處理的效果：1.表面清潔度：反應(yīng)的是銅表面的雜質(zhì)元素的多寡：2.表面粗糙度：反應(yīng)的是銅面表面的粗化效果；傳

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三、銅面處理的一般流程：

化學(xué)清洗流程

除油水洗微蝕水洗抗氧化水洗吸水熱風(fēng)干冷風(fēng)干化學(xué)清洗流程傳

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五、除油

在線路板行業(yè)中,每一條前處理線一般都配油除油槽,尤其是化學(xué)處理線在整個(gè)生產(chǎn)流程中,銅面/板面與皮膚接觸,以及空氣中的油性物質(zhì)等接觸,都會(huì)在板面上形成一層油性物質(zhì),而該油性物質(zhì)會(huì)在化學(xué)處理阻礙其與內(nèi)層銅面的反應(yīng).

在微蝕處理中,微蝕的作用主要是粗化和對(duì)板面無(wú)機(jī)物污染的清潔,而對(duì)板面的有機(jī)物污染(油性物質(zhì)),則是通過(guò)除油來(lái)實(shí)現(xiàn)的.

目前除油有兩個(gè)方式：a.過(guò)脫膜線:強(qiáng)堿有助于油性物質(zhì)分解為可溶于水的有機(jī)酸堿

b.超聲波清洗:超聲波清洗通過(guò)洗衣粉/洗潔精和超聲波的水泡沖擊作用清洗板面的污染傳

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3.壓膜

1.貼膜機(jī)與濕法壓膜：貼膜機(jī)壓膜方式如右圖所示:

由于銅箔表面存在凹凸不平,針孔,凹陷,劃傷等缺陷,貼膜時(shí),該部位與干膜吻合不好,形成界面空洞,蝕刻時(shí)會(huì)出現(xiàn)缺口,開(kāi)路等不良濕法貼膜可在銅箔的表面形成一層水膜,可增加干膜在受壓時(shí)的流動(dòng)性,降低干膜的粘度,從而提高干膜的填充效果.為提高精細(xì)線路品質(zhì),需在萬(wàn)級(jí)以上環(huán)境中作業(yè),溫度:23±3℃,濕度:50%RH±5%聚乙烯膜傳

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術(shù)傳藝科技83.曝光

1.曝光曝光機(jī)的分類:

手動(dòng)與自動(dòng)平行光與散射光

LDI鐳射曝光

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3.平行光與散光曝光效果比較：散射光平行光

由左圖可以看出,散射光會(huì)有曝光側(cè)移的出現(xiàn),所以在生產(chǎn)細(xì)線路產(chǎn)品時(shí)，應(yīng)將其盡量放置在曝光框的中央另外,抽真空度,雜質(zhì)顆粒,板面平整度等,在其透光效果以及光的折射.衍射等特性的影響下,都會(huì)造成曝光不良傳

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術(shù)傳藝科技84.曝光的控制真空度臺(tái)面溫度曝光能量(曝光尺確認(rèn),曝光燈的壽命)

定量清潔臺(tái)面與Mylar(粘塵滾輪/菲林清潔劑)

曝光放板方式曝光尺是用來(lái)簡(jiǎn)單測(cè)試曝光能量的工具,我司目前使用Stouffer21級(jí)曝光尺.

我司干膜產(chǎn)品的曝光能量為5-7格,（細(xì)線路除外）綠油產(chǎn)品為9-11格.5.曝光尺傳

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6.菲林

黑片:由CAM資料通過(guò)光繪/顯影制作出來(lái),成本較高棕片:由黑片作為母片,通過(guò)曝光/顯影的方式制作出來(lái),成本較低,壽命較短藥膜面:黑片與棕片都是在片基上涂覆藥膜,一般此藥膜面必須與干膜或者棕片的藥膜面相對(duì),以減少光折射產(chǎn)生的影響.

菲林受保存方式,溫度和濕度的影響,會(huì)產(chǎn)生變形或者漲縮溫度每改變1℃,菲林變形量為:(0.1～0.2)%%

濕度每改變1%RH,菲林變形量為:(0.09～0.15)%%傳

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7.對(duì)位

對(duì)位按以下原則進(jìn)行:

方向孔確認(rèn)方向菲林上的字符確認(rèn)面向,(GBL/GTL;L1/L2)

以最小孔/防偏孔與軟板對(duì)正(中間正.兩邊可適當(dāng)偏,以不破孔為準(zhǔn))

以陰陽(yáng)PAD對(duì)正,防止正反面錯(cuò)位定量清潔菲林,防止垃圾影響(粘塵滾輪清潔/菲林水清潔)

不同漲縮菲林不可混用傳

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術(shù)傳藝科技88.光致的環(huán)境要求

8.1.光源干膜區(qū)光源為黃光,否則,以避免其它光源造成干膜感光

8.2.溫濕度由于溫濕度對(duì)菲林,干膜燈的影響,必須控制溫濕度度在一個(gè)穩(wěn)定的區(qū)間之內(nèi)

8.3.潔凈度(萬(wàn)級(jí)以下)

無(wú)塵室的潔凈度直接關(guān)系到細(xì)密線路產(chǎn)品的電測(cè)良率裸露的皮膚,毛發(fā);各種易脫落的纖維;外界帶入的垃圾灰塵……傳

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術(shù)傳藝科技83.顯影顯影是通過(guò)弱堿將未發(fā)生聚合反應(yīng)的抗蝕單體清洗掉,已發(fā)生聚合反應(yīng)的抗蝕劑高分子則因無(wú)法溶于弱堿溶液之內(nèi),留在銅面上形成抗蝕膜

3.1.顯影點(diǎn)顯影點(diǎn)是考量顯影效果的測(cè)試方法,其顯影點(diǎn)應(yīng)控制在50-60%.

顯影過(guò)度,會(huì)使已聚合好的干膜被浸蝕,出現(xiàn)毛邊顯影不足,會(huì)使未聚合的抗蝕單體殘留于板上

3.2.顯影液溫度顯影液溫度過(guò)高會(huì)使干膜變脆,失去韌性,過(guò)低,會(huì)顯影不足傳

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3.3.板面殘膠的檢測(cè)方法:

浸5%氯化銅/1%甲基紫酒精液/2%硫化鈉(硫化鉀)溶液

3.4.顯影不良

※部分區(qū)域顯影不足曝光不良/噴嘴堵塞

※干膜剝離軟板前處理不良/貼膜不良/干膜不良

※板面干膜屑割膜殘留/顯影液位過(guò)高/過(guò)濾失效/清洗失效※白點(diǎn)曝光時(shí)的半透明垃圾

※干膜脆顯影/烘干溫度過(guò)高/曝光過(guò)度

※顯影毛邊過(guò)顯影/曝光能量低

※干膜破孔對(duì)偏/孔內(nèi)有水/顯影機(jī)壓力過(guò)大/曝光能量過(guò)低傳

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4.2.蝕刻蝕刻液中的Cu2+具有氧化性,它能夠?qū)u氧化成Cu+(化學(xué)式①),但是其形成的CuCl是不溶于水的,它將在銅的表面形成一層薄膜,這層薄膜能夠在Cl-過(guò)量的情況下,形成溶于水的Cu(Cl3)2-(化學(xué)式②).

隨著反應(yīng)的進(jìn)行,蝕刻液中的Cu2+和Cl-會(huì)越來(lái)越少,Cu+越來(lái)越多,其蝕刻能力很快就會(huì)下降,直至失去效能,所以要時(shí)刻將Cu+重生為Cu2+,并且補(bǔ)加HCl4.3.蝕刻液的再生蝕刻液的再生是將亞銅離子還原為銅離子,常用的方法有:

通過(guò)氧氣或者壓縮空氣/氯氣再生/電解再生/雙氧水再生/氯酸鈉再生傳

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術(shù)傳藝科技84.4蝕刻因子與蝕刻速率理想狀態(tài)下的蝕刻效果如右圖:

側(cè)蝕量:D

蝕刻因子=(B-A)/h*2

蝕刻因子決定了蝕刻液所能生產(chǎn)產(chǎn)品的導(dǎo)線精細(xì)程度蝕刻速率是指銅的腐蝕速率,它決定了蝕刻時(shí)的傳送速度,也就是產(chǎn)能BAhD傳

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b.亞銅離子的影響銅離子與銅的反應(yīng),實(shí)際上是一個(gè)電化學(xué)反應(yīng),亞銅離子含量的升高,會(huì)阻礙銅的繼續(xù)腐蝕,研究表明,亞銅離子的含量在小于0.4g/L時(shí)(銅離子含量120g/L),蝕刻液能夠提供較高的,穩(wěn)定的蝕刻速率在實(shí)際生產(chǎn)中,我們通過(guò)控制氧化還原電位(ORP)來(lái)控制亞銅離子的含量,其ORP控制在510-550mV

我司目前未裝在線的氧化還原電位監(jiān)測(cè)裝置,我們通過(guò)添加氯酸鈉后蝕刻液的顏色變化來(lái)控制:循環(huán)均勻后蝕刻液的顏色剛好變?yōu)榫G色.

另外,還可以通過(guò)與鹽酸的按比例添加緩解亞銅離子急劇升高的現(xiàn)象,我司目前可以按照鹽酸:蝕刻子液=3:1來(lái)進(jìn)行添加傳

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c.銅離子的影響蝕刻速率隨著銅離子的含量的逐漸升高而升高,到達(dá)一定量后,其蝕刻速率急劇下降,一般銅離子的含量在120～150g/L時(shí),蝕刻速率比較穩(wěn)定在生產(chǎn)中,我們通過(guò)控制蝕刻液的比重來(lái)控制銅離子的含量,銅離子的比重在1.28～1.295(31～33°Be)的時(shí)候,其銅離子含量在120～150g/L.d.溫度的影響隨著溫度的升高,蝕刻速率可以加快,但是溫度過(guò)高,會(huì)引起鹽酸的分解,所以,蝕刻液的溫度一般控制在50±5℃?zhèn)?/p>

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4.6蝕刻均勻性與水池效應(yīng)