LCD培訓(xùn)教材(一)ppt課件

1、 LCD培訓(xùn)教材(一)圖案制造LCD根本構(gòu)造(其斷面如以下圖)涂布光阻劑Photoresist Coating顯 影Developing蝕 刻Etching剝 膜Stripe配向膜涂布Polyimide Coating灌 液LC Injection定 向Rubbing印 框Screen Printing印 點(diǎn)Cross-over Printing預(yù) 烤Pre-Curing涂 布Spacer Spray組 合Glass Assembly曝 光Exposure清 洗Clean清 洗Clean貼 片Polarizer AssemblyLCD制程流程圖涂布光阻劑Photoresist Coating顯

2、 影Developing蝕 刻Etching剝 膜Stripe配向膜涂布Polyimide Coating灌 液LC Injection定 向Rubbing印 框Screen Printing印 點(diǎn)Cross-over Printing預(yù) 烤Pre-Curing撒 布Spacer Spray組 合Glass Assembly曝 光Exposure清 洗Clean貼 片Polarizer Assembly清 洗Clean顯 影Developing蝕 刻Etching剝 膜Stripe配向膜涂布Polyimide Coating灌 液LC Injection定 向Rubbing印 框Screen

3、Printing印 點(diǎn)Cross-over Printing預(yù) 烤Pre-Curing撒 布Spacer Spray組 合Glass Assembly曝 光Exposure涂布光阻劑Photoresist Coating涂布光阻劑Photoresist Coating貼 片Polarizer Assembly清 洗Clean涂布光阻劑Photoresist Coating顯 影Developing蝕 刻Etching剝 膜Stripe配向膜涂布Polyimide Coating灌 液LC Injection定 向Rubbing印 框Screen Printing印 點(diǎn)Cross-over Pr

4、inting預(yù) 烤Pre-Curing撒 布Spacer Spray組 合Glass Assembly曝 光Exposure曝 光Exposure清 洗Clean涂布光阻劑Photoresist Coating蝕 刻Etching剝 膜Stripe配向膜涂布Polyimide Coating灌 液LC Injection定 向Rubbing印 框Screen Printing印 點(diǎn)Cross-over Printing預(yù) 烤Pre-Curing撒 布Spacer Spray組 合Glass Assembly曝 光Exposure顯 影Developing顯 影Developing貼 片Pola

5、rizer Assembly清 洗Clean涂布光阻劑Photoresist Coating顯 影Developing剝 膜Stripe配向膜涂布Polyimide Coating灌 液LC Injection定 向Rubbing印 框Screen Printing印 點(diǎn)Cross-over Printing預(yù) 烤Pre-Curing撒 布Spacer Spray組 合Glass Assembly曝 光Exposure蝕 刻Etching蝕 刻Etching貼 片Polarizer Assembly清 洗Clean涂布光阻劑Photoresist Coating顯 影Developing蝕 刻

6、Etching配向膜涂布Polyimide Coating灌 液LC Injection定 向Rubbing印 框Screen Printing印 點(diǎn)Cross-over Printing預(yù) 烤Pre-Curing撒 布Spacer Spray組 合Glass Assembly曝 光Exposure剝 膜Stripe剝 膜Stripe貼 片Polarizer Assembly 導(dǎo)電玻璃資料 就是在普通玻璃(不導(dǎo)電)的一個(gè)膠面層鍍上透明導(dǎo)電膜的玻璃.目前常用的導(dǎo)電玻璃是氧化銦,氧化錫玻璃,通常簡(jiǎn)稱ITO玻璃,在消費(fèi)過(guò)程中,每片玻璃都必經(jīng)過(guò)萬(wàn)用電表檢 測(cè),導(dǎo)電面為ITO正面,不導(dǎo)電面無(wú)ITO面為反

7、面.一、 ITO玻璃的構(gòu)造,如圖1SIO玻璃ITO圖1二、LCD制造用的ITO導(dǎo)電玻璃規(guī)格玻璃厚度: 0.5mm 0.7mm 1.1mm玻璃面積: 14 * 16 (或355.6mm * 406.4mm)300*350SiO2阻撓層: 200 500A (1 A= 1010米)ITO層厚: 250 2000 ASiO2絕緣層厚: 500 1000 AITO導(dǎo)電玻璃的主要技術(shù)透光率8%方塊電阻R R10、15、30 、80相對(duì)R越小越好 假設(shè)R 10/膜厚1000 2000 A R 100-300/膜厚200-300 AITO玻璃的技術(shù)要求平整度好,普通要求平整度0.5um/20mm機(jī)械強(qiáng)度與化

8、學(xué)抗蝕性能,ITO層對(duì)玻璃(SiO2)外表的粘附力要強(qiáng),不易零落,抗劃傷強(qiáng).ITO膜能抗強(qiáng)堿,但易被酸腐蝕.光刻膠性能的主要指針.感亮度.光刻膠對(duì)光敏感的性能. 所以說(shuō),對(duì)于固定光強(qiáng)的曝光機(jī),光刻膠的感亮度越高,那么曝光時(shí)間越短,反之,那么差.分辯率. 光刻精度的標(biāo)志.它不僅與光刻膠本身有關(guān).還與光刻工藝條件和操作技術(shù)等要素有關(guān).抗蝕性 只是在針孔密度小,粘附性能良好的情況下,才干有較強(qiáng)的抗酸.堿才干.接上粘附力 光刻膠與ITO面之間沾附的結(jié)實(shí)程度也直接影響光刻后的精度,光刻膠的沾附力與光膠本身性質(zhì)有關(guān).而且與玻璃面有親密關(guān)系.平整.清潔.枯燥.無(wú)油質(zhì)污染的外表有利于光刻膠的粘附.此外.光刻膠

9、的配比,前烘條件,顯影液配方要素有關(guān).穩(wěn)定性 光刻膠在常溫暖暗房?jī)?nèi)(黃色光).光刻膠不發(fā)生暗反響.針 孔 視其光刻膠膜上針孔構(gòu)成密度盡能夠低,它將直接影響光膠質(zhì)量.粘度和含固率 光刻膠越濃,粘度就越大,涂膜就越厚,反之.就越薄,因此.我們常采用改動(dòng)光膠濃度調(diào)理粘度,控制膜厚度.例中:光刻細(xì)小圖表時(shí),為了提高分辯率,膠層相對(duì)薄些故采用濃度較稀的光刻膠. 溫度高.固含率低.粘度變小,膜薄,反之那么厚. 光刻膠的分類負(fù)性膠在襯底外表將得到與光刻掩蓋版遮光圖形完全相反的圖形(不適用LCD制造業(yè)).正性膠這種膠在曝光前對(duì)某些溶劑是不可溶的,而曝光后就變成可溶性,能與掩模遮光圖形一樣的圖案.接上此膠分辨率

10、高,邊緣整齊,邊緣陡度好,以及反刻時(shí)易對(duì)準(zhǔn)等優(yōu)點(diǎn),較易顯影,常被LCD制造業(yè)采用.正性膠經(jīng)強(qiáng)紫外線照射后,發(fā)生光合反響,經(jīng)光照后的生成物能溶解于弱堿性水溶液中,而顯示出正圖形.主要不良影響：工位缺陷不良原因后制程產(chǎn)生不良PR涂布PR臟點(diǎn)1.玻璃表面臟物2.涂膠輪本身臟3.環(huán)境太差（粒子濃度偏高）4.PR被污染針孔、開(kāi)路PR空洞1.玻璃表面有水汽和油污2.涂膠輪上有臟物和凸點(diǎn)針孔、開(kāi)路亮線1.涂膠輪浸潤(rùn)不夠2.玻璃清洗不干凈3.水汽未干針孔、開(kāi)路PR不均(厚薄不均)1.涂膠輪與勻均膠輪間的間隙不一致2.玻璃表面局部有水汽、油污）3.膠的粘度大小直接與PR膜的厚薄有關(guān)開(kāi)路與短路，對(duì)下一工序造成顯影

11、、蝕刻工位的不足、過(guò)度膠泡1.PR中本身有汽泡2.攪拌中產(chǎn)生汽泡3.涂膠輪上有亮線短路、針孔主要不良影響：工位缺陷不良原因后制程產(chǎn)生不良顯影 工 位顯影不足A噴淋支數(shù)少B蝕刻液溫度低于工藝要求C濃度低于工藝要求D傳送速度太快短路、字體變形顯影過(guò)度A、噴淋太支數(shù)太多B、蝕度溫度、濃度高出工藝要求C、傳送太慢開(kāi)路、針孔多余物A、模板本身多余物B、模板上有臟物C、環(huán)境太差（粒子濃度偏高）字體變形、多點(diǎn)針孔A模板上本身有針孔、臟物B涂膠線臟點(diǎn)、空洞、連線針孔缺口A模板上本身有缺口、臟物B涂膠臟點(diǎn)空洞、連線字體變形、缺口短路A模板刮花、聯(lián)機(jī)、臟物B曝光機(jī)內(nèi)環(huán)境太臟C顯影、曝光不足D顯影水洗沖洗不干凈刮花A、模板刮花；B、機(jī)臺(tái)運(yùn)行不正常、刮花開(kāi)路斷線A、模板本身臟物；B、機(jī)臺(tái)刮花、顯影、曝光過(guò)度開(kāi)路玻璃寸法A、真空不穩(wěn)定；B、調(diào)試不當(dāng)直接影響PI、絲印定位不準(zhǔn)主要不良影響：工位缺陷不良原因后制程產(chǎn)生不良蝕刻針孔、缺口、斷線、短路、多余物同顯影同顯影蝕刻