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1電子探針顯微分析
ElectronProbeMicro-Analysis
2概述(1)電子探針:它是在電子光學(xué)和X射線光譜學(xué)原理的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的一種高效率、綜合分析的儀器。功能:在觀察微觀形貌的同時(shí),進(jìn)行微區(qū)成分分析。
原理:是用細(xì)聚焦電子束入射樣品表面,激發(fā)出樣品元素的特征X射線,①分析特征X射線的波長(zhǎng)(或特征能量),可對(duì)樣品中所含元素的種類進(jìn)行定性分析;②分析X射線的強(qiáng)度,則可對(duì)應(yīng)元素含量進(jìn)行定量分析。構(gòu)造:主機(jī)部分與SEM相同,只增加了檢測(cè)X射線的信號(hào)的譜儀,用于檢測(cè)X射線的特征波長(zhǎng)或特征能量。
3第一節(jié)
電子探針儀的結(jié)構(gòu)與工作原理
4電子探針儀的結(jié)構(gòu)電子探針儀的結(jié)構(gòu)示意圖:
電子探針儀:信號(hào)檢測(cè)系統(tǒng)是X射線譜儀。1.波長(zhǎng)分散譜儀:(WDS)
用來測(cè)定特征X射線波長(zhǎng)的譜儀,簡(jiǎn)稱為波譜儀。2.能量分散譜儀:(EDS)
用來測(cè)定X射線特征能量的譜儀,簡(jiǎn)稱為能譜儀。
圖13-l電子探針儀的結(jié)構(gòu)示意圖
5電子探針接收到的信號(hào)6法國CAMECA公司電子探針儀的結(jié)構(gòu)圖7法國CAMECA公司電子探針儀法國Cameca公司
SX100型EPMA8日本電子公司JXA-8100電子探針儀
JXA-81009一、波長(zhǎng)分散譜儀(WDS)(1)一、工作原理:
1.當(dāng)電子束轟擊樣品時(shí),由表面下μm或nm級(jí)的作用體積內(nèi)激發(fā)出特征X射線,若作用體積內(nèi)含有多種元素,則可激發(fā)出各相應(yīng)元素的特征波長(zhǎng)X射線。10一、波長(zhǎng)分散譜儀(WDS)(2)2.若樣品上方放置一塊面間距為d的平面晶體,當(dāng)X射線波長(zhǎng)λ、入射角θ和面間距d符合2dsinθ=λ
時(shí),則特征X射線就發(fā)生強(qiáng)烈衍射。圖13-2分光晶體對(duì)X射線的衍射平面晶體:各特征X射線,只從特定入射角進(jìn)入晶體時(shí),才能發(fā)生較強(qiáng)衍射。如:
λ1→θ1
λ2→θ2
等。11一、波長(zhǎng)分散譜儀(WDS)(3)3.不同波長(zhǎng)X射線以不同入射角入射,將產(chǎn)生各自衍射束。平面晶體:如同一個(gè)單色器,具有分光的作用。它可使不同波長(zhǎng)X射線分散開來。分光晶體對(duì)X射線的衍射在面向衍射束安置探測(cè)器,便可記錄下各波長(zhǎng)X射線。但各波長(zhǎng)X射線強(qiáng)度極低。故需將一定角度內(nèi)某波長(zhǎng)X射線進(jìn)行聚焦,增加強(qiáng)度。12一、波長(zhǎng)分散譜儀(WDS)(4)4.要使X射線聚焦,需將晶體彈性彎曲,使X光源S、晶體表面和檢測(cè)器D位于同一圓周上。此時(shí),整個(gè)晶體接收某波長(zhǎng)X射線,強(qiáng)度將大大提高。圖13-3兩種聚焦方法a)約翰型聚焦法(b)約翰遜型聚焦法羅蘭圓或聚焦圓13一、波長(zhǎng)分散譜儀(WDS)(5)5.X射線聚焦的兩種方法:①約翰(Johann)型聚焦法:將單晶體彎曲,使它衍射晶面的曲率半徑等于聚焦圓半徑R的兩倍,即2R。約翰型聚焦法則X光入射到晶體表面任意點(diǎn)A、B、C,入射角都相等,故發(fā)生衍射;但因晶體表面A、B、C點(diǎn)不在聚焦圓上,故衍射線只能在D點(diǎn)附近聚焦(近似聚焦)。14一、波長(zhǎng)分散譜儀(WDS)(6)②約翰遜(Johansson)型聚焦法:把衍射晶面曲率半徑彎成2R,再將晶體表面外形磨制成和聚焦圓相合(即晶體表面的曲率半徑和R相等)。約翰遜型聚焦法這可使晶體表面各點(diǎn)衍射束正好聚焦在D點(diǎn)(全聚焦法)。分光晶體雖可彈性彎曲,但不易磨制,故不大可能達(dá)到理想聚焦條件。15一、波長(zhǎng)分散譜儀(WDS)(7)6.兩種常見的譜儀布置形式:直進(jìn)式和回轉(zhuǎn)式。直進(jìn)式波譜儀①直進(jìn)式波譜儀工作原理:晶體:沿直線運(yùn)動(dòng),并轉(zhuǎn)動(dòng),則各波長(zhǎng)λ1、λ2和λ3的X射線以各角度θ1、θ2和θ3入射而發(fā)生衍射。檢側(cè)器:在聚焦圓上協(xié)調(diào)滑動(dòng),就接收到經(jīng)聚焦各波長(zhǎng)衍射線。16一、波長(zhǎng)分散譜儀(WDS)(8)
分光晶體直線運(yùn)動(dòng),檢測(cè)器能在各位置上接收到衍射束,表明試樣被激發(fā)體積內(nèi)存在著相應(yīng)的幾種元素。衍射束強(qiáng)度大小和元素含量成正比。17一、波長(zhǎng)分散譜儀(WDS)(8)②直進(jìn)式波譜儀優(yōu)點(diǎn):對(duì)給定d晶體,L與λ間成線性關(guān)系。圖13-4直進(jìn)式波譜儀
L-譜儀長(zhǎng)度。
L↑→λ↑由短變長(zhǎng)。通常:R=20cm,
θ=150~650L=10~36cm
由幾何關(guān)系可得:
發(fā)射源S
到晶體的距離L
與聚焦圓半徑R
滿足:18一、波長(zhǎng)分散譜儀(WDS)(9)直進(jìn)式波譜儀的另一優(yōu)點(diǎn):
X射線照射分光晶體的方向是固定的,即出射角ψ不變。出射角ψ不變:使X射線穿出樣品表面過程中所走的路線相同,即吸收條件相等,這定量分析有利。19一、波長(zhǎng)分散譜儀(WDS)(10)回轉(zhuǎn)式波譜儀的工作原理圖:
聚焦圓的圓心O不動(dòng),
分光晶體和檢測(cè)器在聚焦圓的圓周上以1:2的角速度運(yùn)動(dòng),以保證滿足布拉格衍射條件。圖13-5回轉(zhuǎn)式波譜儀20一、波長(zhǎng)分散譜儀(WDS)(11)回轉(zhuǎn)式波譜儀特點(diǎn):回轉(zhuǎn)式波譜儀結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,但X射線出射ψ有較大變化。導(dǎo)致X射線在樣品內(nèi)行進(jìn)路線不同,往往會(huì)因吸收條件變化而造成定量分析上的誤差。在表面不平度較大時(shí),更為明顯。21一、波長(zhǎng)分散譜儀(WDS)(12)直進(jìn)式波譜儀:某分光晶體衍射晶面間距d一定。因L和θ成L=2Rsinθ關(guān)系。但因結(jié)構(gòu)上的限制,L不能做得太長(zhǎng)??梢?,一個(gè)分光晶體d能夠測(cè)量得波長(zhǎng)范圍有限,只能測(cè)定某一原子序數(shù)范圍的元素。若要分析Z=4~92內(nèi)的元素,須用幾塊晶面間距d不同的晶體,因此,一個(gè)譜儀中常裝兩塊以上晶體可互換。電子探針儀:往往裝有2~6個(gè)譜儀,一起工作時(shí)可同時(shí)測(cè)定幾個(gè)元素。22一、波長(zhǎng)分散譜儀(WDS)(13)常用的分光晶體:PET:異戊四醇(C5H12O4),RAP:鄰苯二酸銣(C3H6O4Rb),KAP:鄰苯二酸鉀(C3H6O4K),TAP:鄰苯二甲酸氫(TlHC8H404)STE:硬脂酸鉛(C18H35O2)2M,(人造偽晶體)。23一、波長(zhǎng)分散譜儀(WDS)(14)分光晶體及其元素分析范圍:24一、波長(zhǎng)分散譜儀(WDS)(15)陶瓷材料的波譜儀分析結(jié)果
例如:陶瓷材料的分析結(jié)果含有Al,Si,Fe,Zr,Sn
等元素。使用的分光晶體:
TAP、PET。25二、能量分散譜儀(EDS)(1)
一、能譜儀工作原理:當(dāng)電子束轟擊樣品時(shí),在作用體積內(nèi)各種元素激發(fā)出具有各自波長(zhǎng)的特征X射線(或具各能量ΔE的X光子)。X光子能量ΔE:則取決于電子能級(jí)躍遷過程中不同能級(jí)的能量差。能譜儀:利用不同元素發(fā)射的X射線光子特征能量不同來進(jìn)行成分分析的。X射線能量檢測(cè)器:目前常用鋰漂移硅固態(tài)X射線能量探測(cè)器,即Si(Li)檢測(cè)器。它是能譜儀的關(guān)鍵部件。26Si(Li)檢測(cè)器能譜儀探頭Si(Li)固體探測(cè)器27二、能量分散譜儀(EDS)(2)二、Si(Li)檢測(cè)器工作原理:當(dāng)X光子通過8~25μm厚的Be(或BN或有機(jī)膜)窗進(jìn)入檢測(cè)器,在Si(Li)晶體內(nèi)激發(fā)出一定數(shù)目的電子-空穴對(duì)。Be窗圖13-7鋰漂移硅能譜儀方框圖
Si(Li)晶體兩端偏壓收集電子-空穴對(duì)→前置放大器→電流脈沖→主放大器積分→電壓脈沖→多道脈沖高度分析器→按高度分類并計(jì)數(shù),就可得到特征
X射線按能量大小分布的圖譜。
(能譜圖)
28二、能量分散譜儀(EDS)(3)Si(Li)檢測(cè)器工作原理圖:29二、能量分散譜儀(EDS)(4)X光與Si(Li)晶體相互作用產(chǎn)生一個(gè)電子-空穴對(duì)所需能量ε≈3.8eV(100K下),則能量為E光子產(chǎn)生電子-空穴對(duì)數(shù)目為:
如:EFeKα=6.4keV
,則一個(gè)光子產(chǎn)生1684個(gè)電子-空穴對(duì),相應(yīng)電荷量為2.7×10-16C,在電容CF上積分,形成電壓脈沖信號(hào)為:V=Q/CF,若CF=1PF,則V=0.27mV。此信號(hào)雖小,但與X光子能量成正比。則相應(yīng)的電荷量:30二、能量分散譜儀(EDS)(5)入射X光子能量越高→產(chǎn)生電子-空穴對(duì)數(shù)目N就越多;經(jīng)偏壓收集→前置放大器→電流脈沖高度就越高,經(jīng)主放大器→電壓脈沖→多道脈沖高度分析器;脈沖高度分析器:按脈沖高度分類并計(jì)數(shù),描出特征X射線按能量大小分布的圖譜。
18-8不銹鋼成份能譜圖31二、能量分散譜儀(EDS)(6)三、能譜儀成分分析優(yōu)點(diǎn):(和波譜儀相比)①分析速度快:可在同一時(shí)間內(nèi)對(duì)分析點(diǎn)內(nèi)所有元素X射線光子的能量進(jìn)行測(cè)定和計(jì)數(shù),在幾分鐘內(nèi)可得到定性分析結(jié)果??蓹z測(cè)元素范圍:帶Be窗的探測(cè)器:
11Na~92U;新型超薄窗口材料:4Be~92U;波譜儀:只能逐個(gè)測(cè)量每種元素的特征波長(zhǎng)。32二、能量分散譜儀(EDS)(7)②能譜儀:結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單,無機(jī)械傳動(dòng)部分,穩(wěn)定性和重復(fù)性都好,且不必聚焦,對(duì)樣品表面無特殊要求,適合于粗糙表面的分析。波譜儀:需光滑平坦表面,在此方面仍顯不足。③能譜儀:探測(cè)X射線效率及靈敏度高。因Si(Li)探頭接近樣品,收集立體角大,信號(hào)直接由探頭收集,不必由分光晶體衍射,信號(hào)幾乎無損失,其靈敏度比波譜儀高一個(gè)數(shù)量級(jí)。④能譜儀:可在低入射電子束流(10-11A)下工作,這有利于提高分析的空間分辨率。而波譜儀須很大電子束流。33二、能量分散譜儀(EDS)(8)四、能譜儀成分分析缺點(diǎn):(和波譜儀相比)①分辨率比波譜儀、峰背比低,即儀器分辯不同能量特征X射線的能力差,波峰比較寬,重疊現(xiàn)象嚴(yán)重。一般地:探測(cè)器能量分辨率:能譜儀:約127eV,而波譜儀可達(dá)5eV。
②工作條件要求嚴(yán)格
Si(Li)探頭須用液氮冷卻,保持低溫而不間斷。否則,晶體內(nèi)Li擴(kuò)散,改變分布狀態(tài),探頭功能下降,甚至破壞。34第二節(jié)
電子探針儀的分析方法及應(yīng)用35一、EPMA的定性分析(1)1.定點(diǎn)成分分析:電子束固定在需要分析的微區(qū)上。①波譜儀分析:改變分光晶體和探測(cè)器位置,即可得分析點(diǎn)的X射線成份譜圖;波譜儀定點(diǎn)分析36一、EPMA的定性分析(1)②能譜儀分析:電子束固定在要分析微區(qū),收集X射線信號(hào),幾分鐘內(nèi)即可得微區(qū)內(nèi)所含元素的譜圖。37一、EPMA的定性分析(2)2.成分線分布分析:①波譜儀線分析:將波譜儀分光晶體移到要測(cè)量元素的特征X射線信號(hào)(波長(zhǎng)或能量)的位置上,使電子束沿指定路徑作直線軌跡掃描,便可得某元素含量的變化曲線。
改變譜儀的位置,便可得另一元素含量的變化曲線。②能譜儀線分析:將電子束沿指定路徑作直線軌跡逐點(diǎn)掃描,能譜儀探頭接收逐點(diǎn)上各元素的X射線信號(hào)強(qiáng)度(含量),再將各點(diǎn)元素含量繪成曲線,即為成份含量線分布。38高速鋼表面滲氮+鍍TiN的N線分布圖39Nb-Cu釬焊焊縫EPMA的成分線分布分析40一、EPMA的定性分析(3)3.成分面分布
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