項目名稱：表面等離子體超分辨成像光刻基礎(chǔ)首席科學家

二、預期目標3.1本項目總體目標本項目以國家在國民經(jīng)濟和國防高科技領(lǐng)域?qū)π畔⒖茖W技術(shù)中新一代微納信息器件的重大需求為牽引，研究SP超衍射光刻中的關(guān)鍵基本物理問題，結(jié)合我國中長期科技戰(zhàn)略發(fā)展規(guī)劃中的“極大規(guī)模集成電路制造技術(shù)及成套工藝”和“核心電子器件、高端通用芯片及基礎(chǔ)軟件產(chǎn)品”兩個重大專項對微納制造技術(shù)的重大戰(zhàn)略需求，重點針對SP超分辨成像光刻技術(shù)中若干關(guān)鍵科學技術(shù)問題（比如衍射極限問題、分辨極限問題、感光機制問題、損耗問題、SP超分辨成像器件設(shè)計、制備技術(shù)、工藝技術(shù)等）開展系統(tǒng)研究，并取得原創(chuàng)性成果，作出系統(tǒng)性和創(chuàng)新性貢獻，建立相應(yīng)的研究基地和人才隊伍，形成具有核心自主知識產(chǎn)權(quán)的SP光刻技術(shù)平臺。通過本項目研究，使我國在SP超分辨成像光刻理論、技術(shù)和應(yīng)用方面，總體達到國際先進水平，部分方面處于國際領(lǐng)先地位，力爭形成新一代光學光刻技術(shù)路線，為采用光學方法突破16nm、甚至10nm以下光刻線寬節(jié)點奠定基礎(chǔ)。1.建立SP超衍射和超分辨成像理論和技術(shù)體系，為16nm線寬節(jié)點以下光學光刻技術(shù)奠定理論和方法基礎(chǔ)。2.形成SP光刻技術(shù)平臺和技術(shù)標準草案，在SP光刻分辨力極限、SP感光機理、損耗及能量利用率、焦深等關(guān)鍵問題研究方面取得突破。3.培養(yǎng)一支該領(lǐng)域高水平研究人才隊伍和一批學術(shù)帶頭人，建立SP超分辨成像實驗平臺與超衍射光學光刻技術(shù)研究基地，為未來5～10年研發(fā)16nm線寬節(jié)點以下的超分辨成像光刻器件和系統(tǒng)奠定理論和技術(shù)基礎(chǔ)。3.2五年預期目標：1.得到SP超分辨成像理論模型，建立超衍射與衍射受限光學成像一體化設(shè)計和分析方法并構(gòu)建相關(guān)軟件。2.建立SP超分辨光刻感光機理模型，并用于研究對比度、焦深、工作距等關(guān)鍵SP光學光刻工藝理論和技術(shù)。3.獲得兩項標志性成果。（1）在365nm波長條件下，獲得32nm線寬分辨力SP超分辨成像器件；（2）制作特征尺寸為32nm的光柵、NEFO字符等集成電路常用典型圖形結(jié)構(gòu)。4.綜合考慮衍射受限成像、超衍射成像和光刻過程，獲得16nm線寬分辨力的SP光學成像設(shè)計結(jié)果。綠5.發(fā)表高遣水平SCI明論文100能篇以上，申艙請發(fā)明專利凡100項以歸上跪，壯培養(yǎng)研究生奪65名左右若。涌三、研究方樂案滅4.1總體叮思路昆瞄準信息產(chǎn)佩業(yè)中光學光棟刻領(lǐng)域?qū)ν缓唐蒲苌錁O限杰成像光刻技尋術(shù)的重大需副求，抓住表盡面等離子體古光刻正處于絹探索性研發(fā)山階段的機遇塔，集成我國餃在光學工程謊、微細加工叨技術(shù)、微納誓集成、物理樸、化學、材念料、信息技倍術(shù)等方面的詞優(yōu)勢，瞄準滔該領(lǐng)域一些牙前沿性重大競理論、核心號工藝問題，容進行多學科捐交叉合作研條究，對相關(guān)貞核心基礎(chǔ)科媽學問題進行倒深入系統(tǒng)地戶探索，以期搞獲得一些具儲有原始創(chuàng)新徒的突破和成抽果，取得一聽批自主知識娃產(chǎn)權(quán)的核心燥技術(shù)，培養(yǎng)恒造就一支具澡有國際水平型的研究隊伍夸，為我國新拴一代微納光盤子功能材料老和器件的長送遠發(fā)展奠定灘堅實的基礎(chǔ)語。個按上述指導缺思想，根據(jù)援項目的總體銳目標和五年兼目標，針對滾基本的關(guān)鍵扒科學問題，族結(jié)合國內(nèi)優(yōu)筑勢力量，在學前期沉973叢項目超衍射許機制、超分缸辨成像以及盟SP看非線性復合宵材料等研究巴基礎(chǔ)上，以小SP徐超衍射行為暫規(guī)律和物理擾機制入手，箏深入和系統(tǒng)芽地米開展表面等渣離子體光學怠成像及光刻稻技術(shù)研究，漲解決限制桌SP毅光刻分辨力灘的物理因素燈、咬SP朱與光刻介質(zhì)比相互作用機仗理、影響奮SP銀光刻效率的還關(guān)鍵物理問全題、超分辨娘成像光刻器希件原理和方艙法以及都SP束超衍射光學旦光刻技術(shù)和括工藝等關(guān)鍵上科學技術(shù)問墾題，征獲得緞32nm線文寬分辨力S訊P珠超仿分辨成像器涼件，制作特獻征尺寸為3先2nm的光詠柵、NEF畢O字符等集求成電路常用治典型圖形結(jié)甲構(gòu)什兩項標志性槐成果，并建其立龜SP遮超分辨成像罩應(yīng)用基礎(chǔ)研氣究的理論和長技術(shù)平臺、嫁研究基地以巴及人才隊伍癢。蜘4.電2技術(shù)路線噸1.簡在超衍射光從學行為的物騰理本質(zhì)、規(guī)棒律和操縱方錘法研究方面嶼：掃（1）翻繼續(xù)發(fā)展矢諒量楊顧算法養(yǎng)，使其能適填用于分析亞隱波長范圍的圓超衍射電磁察行為和超分仍辨成像理論撕計算，用來恩指導研究在闊SP場的影緊響下，電磁置波突破衍射冰極限限制的攤原理和實現(xiàn)雪途徑，并進略行相關(guān)器件觀設(shè)計。結(jié)合巡光刻技術(shù)、胡溶膠－凝膠貨法、以及自州組裝等手段浪，將設(shè)計的解器件制作出酸，并利用A椒FM、TE孩M、SEM稱以及微區(qū)R儀aman、牢FTIR、朗紫外-可見乓-紅外分光眠光度計等各掀種微結(jié)構(gòu)表浴征手段，研材究納米金屬突微結(jié)構(gòu)的形愁貌、尺寸、斗周期性、介毯電參數(shù)等對轉(zhuǎn)超衍射行為勻的影響。工（2）公類比傳統(tǒng)材垂料科學中原愁子、分子、版晶胞、缺陷能、復合材料般的結(jié)構(gòu)劃分鑼體系，分層隔次開展超衍者射光學材料碌結(jié)構(gòu)與物性遭之間的關(guān)系塘規(guī)律研究。謀從單元結(jié)構(gòu)棄形式，金屬吧點、線、環(huán)農(nóng)等構(gòu)成的簡霞單到復雜的乖結(jié)構(gòu)，從電巧磁相互作用藝的規(guī)律上分趟門別類，總陵結(jié)歸納結(jié)構(gòu)月類型和特征壟，采用有限允元、時域有抬限差分方法虧，結(jié)合電磁黑理論中電極界化率、磁極僑化率等物理遍概念，研究壯分析結(jié)構(gòu)參攝數(shù)線寬、間喚距等、材料醬參數(shù)、電磁娘波參數(shù)等對允電磁響應(yīng)行克為（有效介網(wǎng)電系數(shù)、磁顛導率、折射嚷率、色散等?。┑挠绊?，染總結(jié)歸納結(jié)港構(gòu)類型和特雄征規(guī)律，為態(tài)單元結(jié)構(gòu)電茶磁振蕩模型危提供思路。視（3）嘉在超衍射材年料結(jié)構(gòu)與電幫磁物性之間騾的關(guān)系模型子上，主要從權(quán)電偶極子、腿磁偶極子簡償單類比，遠纏小于波長尺砌度下的近穩(wěn)柿態(tài)電磁場分央析，分布電啞容電感的等捏效電路分析腦等幾個方面尼入手，建立裹電磁方程，預求解分析單菜元結(jié)構(gòu)對外培界電磁場的脅響應(yīng)模型，絲同時與嚴格縮矢量電磁分艙析對比，驗描證和改進模歪型。單元結(jié)探構(gòu)之間的電消磁耦合對材佩料特性的影蜻響模型方面臟，先從弱耦方合，強耦合嘴兩種極端情估況入手，結(jié)瓣合微擾理論緞、等效介質(zhì)敵理論描述材刷料的宏觀電碌磁特性。對里于一般耦合棵情況，則利障用矢量電磁融耦合波理論受，結(jié)合簡化楚的單元結(jié)構(gòu)棵模型，聯(lián)立拴周期邊界條燦件、缺陷邊執(zhí)界條件，建肌立簡化的耦抽合電磁方程彎，數(shù)值求解啟分析電磁行排為，并與嚴預格計算結(jié)果辟對比分析。半2.激在紫外、深慮紫外頻段的覽超衍射光學噴材料結(jié)構(gòu)設(shè)劑計、制備和籌檢測技術(shù)研旱究方略面：活（1）悲超衍射光學帶材料的一般衡電磁特性的慰結(jié)構(gòu)逆向設(shè)麥計，例如介輩電常數(shù)、磁守導率、折射竟率等，首先指通過結(jié)構(gòu)物柔性的數(shù)理模緒型，選擇初浸始結(jié)構(gòu)形貌義，結(jié)構(gòu)參數(shù)行，結(jié)合模擬殊退火、遺傳愈算法等數(shù)值棵優(yōu)化方法，屆設(shè)計電磁結(jié)扮構(gòu)。對于額皇外的設(shè)計要適求，例如表許面阻抗特性孩、加工限制犯條件等，通亮過增加約束鼓條件，結(jié)合持優(yōu)化算法流醫(yī)程設(shè)計。南（2）墨材料色散、貞損耗特性是侍影響超衍射縫光學材料應(yīng)究用的普遍性甚的關(guān)鍵問題認。首先從色污散、損耗的蝴電磁結(jié)構(gòu)模育型中分析關(guān)市鍵特征參數(shù)動的影響，通誤過對其選擇料性優(yōu)化達到兼拓展帶寬、倉減少損耗的圖目的。另外渾，綜合波長長遠離單元結(jié)累構(gòu)的共振區(qū)邪域、利用色受散匹配的復悠合單元結(jié)構(gòu)益等進一步對傍其優(yōu)化。超槳衍射光學材鋼料的損耗優(yōu)竭化，可以根端據(jù)機制和模繭型，減少局猾域電磁模式壺中的磁流環(huán)晴路，減少電媽磁能在共振斗環(huán)路中的局藝域特性，甚護至引入電磁燃能量補償機選制等方面入嘴手對材料的傷結(jié)構(gòu)重新設(shè)武計優(yōu)化。孟（3）畏用高分辨力娛的暗場顯微浴鏡研究納米油結(jié)構(gòu)對光超迫衍射散射，各用透射顯微筆鏡來驗證光題譜的位置與竭顆粒位置。茶利用用共焦色顯微光譜儀回研究其表面右等離子透射賭光譜。對近伐場光學掃描柜顯微鏡進行偶技術(shù)改造，塘研究不同照釘明條件、不弟同金屬結(jié)構(gòu)候的SP超衍糖射行為特征摩。槍（4）蝕從單層薄膜罷制備技術(shù)入久手，包括單銹一組份、多招種組份共存譯的膜層制備稻技術(shù)，選擇技合適的膜層僚制備方法，雅通過對現(xiàn)有掌原子鍍膜和甲磁控濺射鍍榜膜設(shè)備的電孔源、靶材、添濺射方式、掀監(jiān)控方式的弦改造，以滿恐足薄膜厚度飲、成膜質(zhì)量璃、膜層材料雨成分比例控氣制等方面的蛾要求，攻關(guān)情相關(guān)工藝技種術(shù)問題。擋（5）品針對曲面膜樣層超衍射材所料結(jié)構(gòu)，發(fā)洽展面形可控牛的曲面膜層跨制備技術(shù)。蛇通過改造光選學光刻裝置領(lǐng)，制備精確段的等效灰度首掩模，首先員制備相應(yīng)光翻刻材料曲面描膜層，然后膨傳遞到所需須的金屬或介紫質(zhì)表面。改盡造膜層濺射律或沉積設(shè)備宏，以可控劑蜓量的薄膜沉陡積技術(shù)獲得斑特定厚度分陽布的薄膜結(jié)窮構(gòu)。疾（6）糧在前面的研庭究基礎(chǔ)上，叮通過引入雙道靶材共濺射喜等技術(shù)、精崖密對準技術(shù)搶，發(fā)展復合噸交替膜層結(jié)筐構(gòu)制備技術(shù)沈，通過對設(shè)沒備技術(shù)改造假和優(yōu)化，實姨現(xiàn)高質(zhì)量交草替膜層成形鋸技術(shù)。針對鄙納米尺度圖筐形的膜層填帥充技術(shù)、平借坦化技術(shù)開丈展攻關(guān)研究養(yǎng)，研究相關(guān)刪的膜層平坦望化工藝，發(fā)掠展膜層厚度外精確控制的亦平坦化停止犁工藝。墓（7）瞇利用掃描電簡子顯微鏡（迫SEM）、拋原子力顯微啊鏡（AFM余）等精密納油米測試手段下，測量超衍聲射材料表面李形貌、均勻攪性、缺陷檢白測，以及材噸料橫截面結(jié)現(xiàn)構(gòu)膜層致密拍性、膜層厚兵度、納米圖鈴形層結(jié)構(gòu)尺填寸等。利用堆X射線散射革分析方法測狼試材料內(nèi)部繁膜層沙眼、偉空洞，也包瞇括膜層結(jié)構(gòu)越錯位等原子寫層次的缺陷匆。搭建特殊幸的光學檢測恐系統(tǒng)，例如昂掩模缺陷光術(shù)學檢測系統(tǒng)慶，快速和高牌效的分析超蛋衍射材料的尿內(nèi)部缺陷。侵（8）糞利用紫外光酷頻段多光譜捐橢偏儀精確百測試超衍射溉材料單元膜炎層結(jié)構(gòu)的光悉學常數(shù)，包狡括介電常數(shù)戴、吸收率、攏光學薄膜厚病度等。針對墻橢偏儀在多芳層金屬薄膜因方面的測試拖缺陷，搭建歸用于超衍射勞材料的透射仙和反射模式禮的偏振光振音幅和位相差妄異的測試實艦驗系統(tǒng)，獲蒼得超衍射材暖料的宏觀介姜電常數(shù)、吸喉收效率等實槳驗測試結(jié)果傭。月3.忙在超分辨成擱像原理、物悶理機制、成肚像特性和規(guī)披律研究方面誤:蠻（1）慶采用理論分務(wù)析和實驗相在結(jié)合的方案妖，從一些典趣型亞波長金懲屬薄膜結(jié)構(gòu)落的SP對高蹄頻信息的傳球遞和轉(zhuǎn)換能暑力出發(fā)，分綱析將不同分尾量高頻信息狗轉(zhuǎn)換到自由膛空間的效率蘇、信息之間洋相互影響。頃設(shè)計像方在售無窮遠位置撈，考慮位相著匹配等因素納，設(shè)計金屬佩介質(zhì)薄膜表絲面結(jié)構(gòu)，實四現(xiàn)對攜帶特鍛定空間信息蹲倏逝波的高光效轉(zhuǎn)換。歸袖納以上倏逝趕波信息轉(zhuǎn)換未和在遠場恢蘿復的基本物斥理特性和規(guī)乳律，建立超由分辨成像模丹型。奪（2）昂根據(jù)超分辨汁成像器件的逮工作原理，膜設(shè)計兩類器萍件的結(jié)構(gòu)參跪數(shù)。為了簡尤化分析，首代先將超衍射和材料簡化為魂等效介質(zhì)材絨料，或者具勸有特定電磁底參數(shù)分布的撓材料。通過創(chuàng)建立光波在奪這種等效材他料中的傳輸棄行為的解析咽公式，分析罩在特定材料采參數(shù)空間分絲布下的光波許傳輸行為的章數(shù)理公式利除用多重級數(shù)田展開和微擾蝦近似理論解澇析求解，建帳立成像平面猶上的光場分香布函數(shù)，獲金得超分辨成溪像器件成像妹性能參數(shù)和廁結(jié)構(gòu)參數(shù)（峽口徑、焦距咱、分辨力、收等效材料參習數(shù)、視場大題小、物距、俱像距）之間月的解析公式抵。通過矢量毀電磁波計算頓方法，如時膚域有限元差數(shù)分、嚴格矢椅量耦合波分史析等，數(shù)值菌計算其成像叼面光場分布集，分析超衍酒射材料的有孟限單元結(jié)構(gòu)絞尺寸對等效虛材料電磁特速性的影響。勵通過系統(tǒng)的芒計算和分析崇各種結(jié)構(gòu)參道數(shù)、材料參煩數(shù)對成像特軌性的影響，菠建立結(jié)構(gòu)參族數(shù)與成像分竹辨力、對比拼度、視場大災(zāi)小等成像特聲性之間的關(guān)釘系曲線。番（3）慨基于超衍射車材料中光波粱的傳輸變換環(huán)規(guī)律，類比歐宏觀光學成穴像物理原理竟，發(fā)展基于啞超衍射材料率的超分辨成襪像器件工作約原理，建立夢超衍射材料墓、結(jié)構(gòu)參數(shù)湖與成像性能筑之間的關(guān)系附模型，分析細超分辨成像封規(guī)律，為超等分辨成像器垃件的設(shè)計、肚檢測提供理養(yǎng)論基礎(chǔ)。刷（4）常建立系統(tǒng)的智超衍射材料飲中光波匯聚墻的理論模型堆，考察理想挪匯聚焦點的教光斑函數(shù)。穴結(jié)合具體成藥像方式，以殖光線和復光泳場函數(shù)兩類脾分析方法，影研究光波經(jīng)炒過超分辨成快像器件聚焦弦后的光波行血為，并同焦傳斑分布形式襲建立關(guān)聯(lián)，芳分門別類研檔究球差、慧灰差、像散等率像差的產(chǎn)生救機制。在此應(yīng)基礎(chǔ)上，通踩過考察像差扶與結(jié)構(gòu)參數(shù)昆、透鏡參數(shù)足的關(guān)系，建績立超衍射成禾像器件像差辯的補償理論息。并根據(jù)補昏償理論，設(shè)暈計和數(shù)值模臭擬分析像差仰補償?shù)某転I射成像器件涼。萬（5）您在研究超分費辨成像器件循與傳統(tǒng)光學叉元件的組合延成像特性和終一體化分析膊方法方面，肅首先簡化分刮析過程，在條超分辨成像繩器件物面引懇入傳統(tǒng)光學貞成像焦面的附光場分布函即數(shù)，作為該趕器件的輸入蛙場，嚴格計紹算分析該器防件像面位置英處的光場分望布和成像特商性。同時，峽將成像結(jié)果托與光場照明造掩模成像結(jié)拼果對比，考搭察其成像分逝辨力、對比煩度、像差等然方面的差異落。在此基礎(chǔ)伴上，建立傳采統(tǒng)成像與超視分辨成像關(guān)挑系的對接，賊為一體化成嗓像設(shè)計提供違理論指導。陰4.拌在用于超分龍辨成像、電悄磁波超衍射基能量局域的扯器件結(jié)構(gòu)設(shè)騎計、優(yōu)化、籍制備色和性能檢測邪技術(shù)研究方嫌面：笑（1）叫超分辨成像短器件結(jié)構(gòu)建喘模和計算機估輔助設(shè)計基辦本平臺。在孟分析和歸納麻超分辨成像也器件的特征瘦形貌、結(jié)構(gòu)遲尺寸的基礎(chǔ)礎(chǔ)上，建立針汽對超分辨成直像器件的標瓶準化數(shù)學表花述方法和幾柄何結(jié)構(gòu)模型逃，從而在計泉算機中準確圈地描述器件狀特征。開發(fā)邁基于通用計努算機和操作純系統(tǒng)的計算注機輔助設(shè)計贏平臺，為各待種模擬分析貴程序提供基濃本運行環(huán)境旨。打（2）圣光線超衍射晴追跡方法成差像分析方法坑和模擬計算俗軟件。結(jié)合鉆超衍射行為猛的分析方法拾，并參考傳鳳統(tǒng)光線追跡黑模型，探索喬出一種全新皂的光線超衍木射追跡方法哈。構(gòu)建數(shù)值侍模擬計算程昆序，對光線撈在超分辨成派像器件表面室近場以及內(nèi)諒部區(qū)域的傳脊播路線進行迅仿真，進而脫分析像面的莫成像特性。里同時利用嚴貿(mào)格的矢量電氧磁場理論對創(chuàng)超分辨成像膜器件進行分荒析，并且編稠寫高效的成異像模擬軟件滅，研究器件春在矢量光作柴用下的成像哈行為。峽（3）閘針對分辨力葉、焦深、放仁大率、畸變剩等超分辨成泥像器件關(guān)鍵皮光學特性，民綜合模擬退伸火法、爬山亭法、遺傳算卵法等優(yōu)化算作法，建立器栗件結(jié)構(gòu)和參隸數(shù)的優(yōu)化?？诵?，并編寫與自主優(yōu)化軟玻件。結(jié)合超黃分辨成像理確論和像差分燃析手段，建對立計算機分炎析方法，展設(shè)開器件各種賣像差的數(shù)值伯模擬和仿真細分析。皂（4）睜建立超分辨卻成像器件光轟學設(shè)計軟件貞與傳統(tǒng)光學開設(shè)計軟件的艇接口，在超跑分辨成像器悠件計算機輔都助設(shè)計平臺麗中提供與傳泉統(tǒng)光學設(shè)計利軟件匹配的橡接口，建立僑相互兼容的論數(shù)據(jù)格式、這結(jié)構(gòu)參數(shù)以勵及分析方法捏，使組合器旦件的整體性腐能可以得到戶精確計算和天模擬，可以么在兩者之間工進行協(xié)同設(shè)挎計和優(yōu)化。辦（5）債根據(jù)理論模榴型結(jié)合自行舊編制的電磁吹計算模擬軟紫件，全面分揀析不同結(jié)構(gòu)逼參數(shù)下，超浮分辨成像質(zhì)君量差異，總厘結(jié)不同參數(shù)耽對成像效果序的影響規(guī)律者，從物理角兩度上給出優(yōu)負化設(shè)計超分租辨成像器件搬的優(yōu)化方向驅(qū)。借鑒微光師學設(shè)計理論號的優(yōu)化算法辨，如模擬退齒火、遺傳算緣法等，針對豈選定的器件可結(jié)構(gòu)形式，舍開展數(shù)值優(yōu)課化求解結(jié)構(gòu)欺參數(shù)的研究凝。綜合考慮能實際金屬材酸料參數(shù)、工輝作波長、探住測器靈敏度墳等多個因素倍，設(shè)計用于流實驗系統(tǒng)的虧超分辨成像掉器件結(jié)構(gòu)。勝（6）牢設(shè)計和搭建疊用于超分辨院成像器件分繳辨力測試的取近場掃描光銀學實驗系統(tǒng)仙，利用高倍飲率鏡頭將傳飲統(tǒng)星點/分絨辨力檢驗靶年投影到超分愿辨成像器件康的物面上，瘦然后再成像右到像面上，御進而檢測器栗件的星點/到分辨力聚焦贏情況。通過抱高分辨圖像質(zhì)采集設(shè)備獲枯得星點/分批辨力的光強燃信息和分布漠特性。此方貧法同時適用罵于等倍率和脅縮小倍率的就超分辨成像影器件檢測。駱特殊設(shè)計和劣制作的顯微垂式分辨力檢雄驗靶，將其創(chuàng)置于在超分剝辨成像器件脫的像面上，槍采用均勻紫辟外光源照明要，使分辨力帝靶成像在物蓮面上，再通互過高倍率鏡框頭進行觀察膊。訂（7）醫(yī)利用特殊設(shè)監(jiān)計和制作的嫌接近式分辨滲力檢驗靶檢盈測超分辨成嘗像器件的實收際分辨力。羽將其置于在挽超分辨成像乖器件的物面撞上，采用均任勻紫外光源杜照明，使透奏過分辨力靶職的光成像在屆像面上。再游通過高分辨逮圖像采集設(shè)旁備獲得分辨泛力圖像?；椋?）追利用特殊設(shè)促計和制作的貪接近式星點郊檢驗靶檢測宿超分辨成像烈器件的星點態(tài)聚焦情況。午將其放置在霧該器件的物偽面上，采用妙均勻紫外光姓源照明，使慕透過星點的憶光經(jīng)過該器趨件成像在像靈面上。再通眉過高分辨圖捧像采集設(shè)備土獲得星點的燥光強信息和挖分布特性。除（9）旋超分辨成像批器件的光學勉調(diào)制傳遞函瓣數(shù)檢驗采用躺對刀口擴展場函數(shù)進行掃任描采樣的方直法。以精密澤的刀口為目玉標物，在物瘋方作高精度呀掃描，經(jīng)過沖平行光管物祥鏡、高倍率昏鏡頭以及被睛測超分辨成喬像器件后，宿直接以SN浩OM寒探針茫作為采樣狹憶縫，對刀口駁擴展函數(shù)進粉行高精度、豆高分辨力的裁自動掃描采呈樣，并以數(shù)觸字傅里葉分布析法計算超聾分辨成像器講件的光學傳紀遞函數(shù)。棋5.球在減小SP忘傳輸損耗、送延伸SP成泄像光學光刻虹焦深和工作糖距的理論和稅技術(shù)棉途徑研究方掘面：對（1）湊優(yōu)化材料結(jié)粗構(gòu)中的特征泛參數(shù)，根據(jù)亞SP超衍射掠傳輸和耦合怨的物理機制幸和模型，減道少局域電磁蹲模式中的磁叛流損耗環(huán)路慮，將電磁能寒量集中在非菊損耗區(qū)域，陣減少電磁能宜在共振環(huán)路訊中的局域特瓣性。躺（2）榴引入電磁能陸量補償機制扔，探索在3商65nm蠶或痰193nm此等光刻波長避下的增益材變料和技術(shù)，爭通過在超衍賽射材料中嵌碌入有源材料則實現(xiàn)SP波濫能量補償，規(guī)理論和實驗句分析研究在達該材料中的步超衍射行為短。教（3）鳥通過在感光多層與超分辨劫成像器件之障間建立局域均共振模式，繳利用SP成廢像光場耦合鞏效應(yīng)增加成駐像距離。瓶6.封在基于新現(xiàn)顯象的SP超泳分辨成像機陪理、實現(xiàn)和商調(diào)控方法研萍究方面：么（1）囑表面等離子輛體亞波長高昨分辨光學成慢像及光刻過部程中的焦深憶調(diào)控和能量去損耗補償問遍題。結(jié)合超斧分辨結(jié)構(gòu)(王Super秒-RENS致)技術(shù)，硬引入非線性臉光學效應(yīng)及殿有源層，優(yōu)摘化材料以及蛇結(jié)構(gòu)的設(shè)計般以提高空間豈分辨力、局芳域場增強效賞應(yīng)及激射過赤程，實現(xiàn)焦形深調(diào)控和能肆量損耗補償默。針對光刻塊過程中的焦缺深調(diào)控，研酷究光刻結(jié)構(gòu)育復合非線性獨光學材料或眾光敏材料的白非線性過程芝、及其對局該域光場的調(diào)餡控、對焦距納、能量集中浸度、形狀的咱影響。對于禿光刻與成像堤中的能量補贊償問題，發(fā)陪展有源層光瀉刻及成像結(jié)跟構(gòu)，研究有年源層結(jié)構(gòu)中裕諧振腔效應(yīng)掠對表面等離掉子波的受激超輻射以及高腔頻信息的放戴大與補償問孔題；研究表增面等離子光趟學感光非線織性效應(yīng)及其黃超高分辨光及刻、分層光壓刻過程；研錄究曲面超分漠辨成像結(jié)構(gòu)腔及其結(jié)構(gòu)中介表面等離子獎激元增強的紫非線性光刻滿成像。傾（2）梁建立小型化錯、集成化軸設(shè)對稱偏振光諒源，研究成遲像、光刻結(jié)碎構(gòu)中SP的威徑向偏振光石高效最優(yōu)激編發(fā)，及其光屈場的矢量性哄、軸對稱性愈對局域光場塘的調(diào)控作用傍。泳（3）辜發(fā)展針對高兵分辨光學光逃刻結(jié)構(gòu)的新依測試手段和貝方法。發(fā)展晉如SP散射姥、熒光相關(guān)騙、以及局域柔場信標等超機分辨成像技吸術(shù)，開展金曬屬納米顆粒灑陣列結(jié)構(gòu)、狼亞波長金屬下薄膜結(jié)構(gòu)以炊及復合結(jié)構(gòu)淋等的特征參摟數(shù)、光學特臟性的測量。涂7.戶在超衍射光卸學光刻實驗束系統(tǒng)和光刻鹿工藝研究方證面：慢（1）喊以常用紫外淚、深紫外光喉刻光源為工妖作波長，設(shè)非計和制備相轟應(yīng)的陣列化告、超衍射聚津焦和超分辨韻成像器件。勢建立掃描光構(gòu)刻和投影成務(wù)像光刻兩種端工作模式的仿光學光刻實鍬驗系統(tǒng)；系道統(tǒng)結(jié)構(gòu)主要罩包括紫外均瘋勻照明系統(tǒng)霸、基片工件礙臺、超透鏡廁和超衍射聚斷焦承載和精每密調(diào)焦調(diào)平汽機構(gòu)、輔助徑投影光刻物暴鏡系統(tǒng)、掩君模臺等部分湊。理論和實舟驗研究實現(xiàn)么納米玻圖形光刻的拐技術(shù)途徑、稿不同照明方宇式下的光刻齒分辨力、掩許模結(jié)構(gòu)優(yōu)化豬和波前處理幸等問題。炭（2）平光刻實驗系峰統(tǒng)的關(guān)鍵單槽元技術(shù)方案貴主要有基于脂近場光學光母纖探針納米奴定位和距離懶測定技術(shù)，蒸利用自主調(diào)針焦技術(shù)，利忙用近場莫爾希條紋技術(shù)監(jiān)煌控納米精度掙的調(diào)焦狀態(tài)而，通過以上認技術(shù)方法，射設(shè)計和構(gòu)造腹與超衍射和蹲超分辨成像水器件相適應(yīng)圾的工件臺、鬧精密調(diào)平調(diào)際焦等單元技進術(shù)，并集成閱到實驗系統(tǒng)零中，實現(xiàn)超栽分辨顯微觀矛測和光學光爛刻實驗應(yīng)用柴研究演示。提（3）份光刻工藝是倦SP光學光村刻技術(shù)的重蹈要組成部分精。超分辨成而像器件具有館利用傳統(tǒng)長根波長光源實腎現(xiàn)32nm鐘線寬丹以下光刻分污辨力的理論疼和技術(shù)優(yōu)勢拌，同時在很副大程度上保私障了光刻材全料、光刻工來藝與傳統(tǒng)光草刻技術(shù)兼容大。但是在一誤些庸光刻工藝接技術(shù)細節(jié)方缺面，需要結(jié)邁合超分辨成譽像器件的實幕際光刻模式壩和特性，針完對配套的掩狼模設(shè)計和制粉備技術(shù)、光濫學光刻材料溝處理工藝、扯圖形傳遞等爽方面技術(shù)調(diào)逢整，暴或者發(fā)展針應(yīng)對性的輔助箭光刻工藝，紋最終單建立臨滿足光刻分岔辨力和圖形炎質(zhì)量要求的凳SP光學光騙刻工藝。屢4.3同國壁內(nèi)外同類研抓究比較的創(chuàng)猾新點和特色批1.卵本項目提出茄的SP超分讀辨成像光學儲光刻，突破揭了衍射極限笛，采用長波畏長光源達到巴了傳統(tǒng)光學尼光刻技術(shù)無驅(qū)法獲得的光桌刻分辨力頂。本項目將秀獲得32n李m線寬分辨齊力的SP超葡分辨成像器捆件及其實驗擊驗證，得到依16nm線網(wǎng)寬節(jié)點的超糊分辨成像設(shè)悉計結(jié)果，咳為未來16匙nm、甚至庫10nm以伏下線寬的光緩學光刻技術(shù)市奠定了理論哲和方法基礎(chǔ)版，同時也竭為我國中長票期科技戰(zhàn)略奴發(fā)展規(guī)劃中銜的“極大規(guī)蓄模集成電路凈制造技術(shù)及嗽成套工藝”活和“核心電做子器件、高林端通用芯片患及基礎(chǔ)軟件荷產(chǎn)品”兩個抄重大專項提周供前沿制造寬技術(shù)基礎(chǔ)。奏2.求項目提出建外立衍射受限桑與超衍射類光學以成像統(tǒng)一的駐理論和技術(shù)史體系，可以深實現(xiàn)超分辨益成像器件與邊傳統(tǒng)光學成音像系統(tǒng)一體勤化糾的蛋設(shè)計、分析遭和評價，不墊僅豐富和完倍備了傳統(tǒng)光炒學成像理論離知識體系，謎而且駛具有感技術(shù)兼容性藥和繼承性，桃對于超分辨棍成像征光學光刻窗具有重要意況義。謀目前SP超草分辨成像理回論和技術(shù)研毛究都集中在樹提高分辨力服方面，對于有系統(tǒng)描述成般像特性的理獎?wù)撝R，例你如像差、焦途深、畸變等市影響成像質(zhì)雅量和光刻圖殘形質(zhì)量的關(guān)拿鍵問題，尚均未見研究報光道。本項目黎將系統(tǒng)地、涉全面地開展蝶SP超分辨怠成像特性研積究，并建立拜衍射受限與群超衍射成像踏統(tǒng)一的理論素和技術(shù)體系腔，從而為S牧P超分辨成船像技術(shù)的應(yīng)訪用并與傳統(tǒng)雁光學成像技接術(shù)的對接奠派定理論和技歇術(shù)基礎(chǔ)。鼠針對SP成辣像光刻技術(shù)院中的具體關(guān)鹿鍵科學技術(shù)頃問題，本項膜目提出了創(chuàng)拍新性的研究吐思路和解決湖途徑。例如搜，顏提出平面縮遲小SP光學例光刻成像器咽件，春采用縮放倍曲率的良SP光學光遭刻成像器件掠能夠有效地姨解決掩模制需備工藝中姐特征尺寸為麻32nm結(jié)甘構(gòu)圖形咳的關(guān)鍵技術(shù)孔難點，撿其平面特性率能夠更好地腫與傳統(tǒng)光學午光刻工藝相過兼容，泄為衍射受限浙光學光刻系酷統(tǒng)的集成影奠定距了理論和技叼術(shù)魂基礎(chǔ)求。悠目前，SP鬧超分辨成像律技術(shù)絕大部偽分是等倍率幕縮放，或在兔曲面結(jié)構(gòu)上賄實現(xiàn)縮小倍籌率成像（如溉Hyper顛lens等倉），對實際銀應(yīng)用帶來巨簡大困難。本叔項目提出平篇面結(jié)構(gòu)的域縮小SP光裙學光刻成像站器件疾，將很好地根解決這一難真題。此外，烤針對得SP超分辨燒成像工作距躁短和焦深淺腦等關(guān)鍵技術(shù)明難題，提出嫁表面等離子兵體波前工程拔理論和技術(shù)沿的研究思路那，建立SP巾超分辨成像賠光刻技術(shù)的水“波前工程亭”理論技術(shù)蚊體系，免同時結(jié)合S僑P耦合匹配啄膜層結(jié)構(gòu)思術(shù)想，拓展S涼P超分辨成志像的工作距咸和焦深，貝解決SP光少學光刻應(yīng)用緒方面的重大綠技術(shù)困難壘，進一步促沖進卵SP光學光對刻應(yīng)技術(shù)向?qū)嵱鸣o化方向發(fā)展氣。謊目前，這方遭面的研究尚討未見報道。紋4.4課題綿設(shè)置休本項目課題宣的設(shè)置分為跌基礎(chǔ)性和應(yīng)彎用基礎(chǔ)性兩梁個層次。各崇個課題都緊粉密圍繞項目誠總體目標和盯關(guān)鍵科學問纖題開展研究昂，或者從項SP非成像光刻分祖辨力、光刻映介質(zhì)、光刻免質(zhì)量、光刻演效率、光刻怠器件、光刻規(guī)工藝等不同瓦側(cè)面，或者粥選擇不同的桐理論體系，鹿圍繞共SP頂超分辨成像執(zhí)光刻研究的然重大科技問傭題開展協(xié)同李研究，彼此賓既有關(guān)聯(lián)又難有各自主攻敢的科研目標騾。數(shù)第一課題研映究給SP匆光刻極限分羞辨力的理論閱問題以及提亦高誤SP拋分辨力極限羽的物理機制炭，是值SP價光刻分辨力斷研究的理論吳基石。牢第二課題研喚究孤SP迅與光刻介質(zhì)披相互作用機鋤理，建立憑SP皮與光刻介質(zhì)筆作用的數(shù)理傲模型，并分詢析光刻材料是對光刻分辨廢力的影響特很性。該課題稼是研究折SP澤光刻容工藝的稱理論亦基礎(chǔ)牙。終第三課題針啊對影響肺SP未光刻效率的嚇關(guān)鍵物理問綠題展開研究麗，包括有效序減少賽SP樸損耗的物理灰和技術(shù)途徑溜，以及調(diào)控載SP描材料介電常懼數(shù)、損耗等嫩特性的物理堵機制和途徑禮，為低損耗銀的暑SP雜超魔分辨成像器亂件的世研究胡提供材料基慢礎(chǔ)竹。著第四課題研敗究波前工程教技術(shù)、患SP裂超衍射光學搶光刻工藝技傳術(shù)等提高逐SP伐光刻圖形質(zhì)勵量的原理和跨方法，是最唉終形成制作鑒高深寬比、夸面形誤差小滾、高質(zhì)量光攏刻圖形的理惰論和實驗基帽石。堆第五課題研昏究最SP狐超衍射材料憶、超分辨拆SP炭成像器件的正物理原理許和實現(xiàn)方法群，為新一代鑄光學光刻技駐術(shù)奠定重要酬理論和技術(shù)暖基礎(chǔ)。乖課題之間的班相互關(guān)系如澇下圖所示：英圖鑄4曲-1術(shù)項目課題扁及主要承擔紀單位夜之間的關(guān)系踏示意圖牲課題1、限銜制SP光刻薪分辨力的物穿理因素和解剪決途徑預期目標：拉經(jīng)過五年的辜努力，本課且題預期達到類的目標為：宿1.建立系建統(tǒng)描述SP涉超衍射光刻須的物理模型璃，得到SP博成像分辨力挺、視場、焦峽深受限的物退理因素并給墾出理論解決濤途徑，研究渡影響SP成耳像和光刻分膏辨力極限的魔物理因素，霸探索其理論率分辨力極限狠。擱2.建立一節(jié)套完整的S節(jié)P超衍射、殃超分辨成像皺理論仿真和薄優(yōu)化設(shè)計平微臺。提供描押述436n柴m、365施nm、24廉8nm或1和93nm波岔長入射光波專前分布、偏和振狀態(tài)、膜蠶層厚度、平誓整度、均勻肌度等因素對未成像分辨力義影響的數(shù)值紋模擬軟件和煉詳細說明，道給出能夠?qū)嵗K現(xiàn)波前調(diào)控令提高SP光烘刻的波前調(diào)伙制器件或預?；兤骷拇嘣O(shè)計軟件，偶給出實現(xiàn)S幅P光刻長焦那深器件設(shè)計伐軟件和詳細沉說明。鄉(xiāng)3.提供一做種拓展SP躲成像焦深（粒>100n界m@32n堤m線寬）的叛有效方法，季并為項目總馬體提供一套唱焦深檢測系協(xié)統(tǒng)方案并進倍行實驗驗證雄。勻4.發(fā)表論另文35~4套5篇，申請望專利10項瞇。培養(yǎng)研究始生10~1旬5名。研究內(nèi)容頌本課題以S弓P超分辨光軍學成像光刻桐為主要目標納，集中力量老進行SP超這分辨成像過尿程中的物理殖問題的研究馬，主要內(nèi)容豬有：帝（1）建立謎理論仿真和緒優(yōu)化設(shè)計平菜臺。紋建立基于S隙P光學的超鋒分辨成像模將型，系統(tǒng)地其描述預SP濱超衍射成像匠光刻的物理爆過程，發(fā)展切并完善半SP繪超衍射成像慘的數(shù)值計算崇方法和理論剪模型，研究啄SP體與電謀磁瞬逝波相吉互作用機理蜘及其傳播、鞏耦合特性，華研究限制祖SP超衍射畏成像性能的補因素，對S任P超衍射成芬像光刻分辨映力的理論極壽限進行預測愈和分析。針聾對SP超衍凍射成像的機揪理，在43內(nèi)6nm、3濤65nm、佛248nm踏或193n陽m波長光源奴條件下，提研出提高縮放挨倍率，焦深譜和工作距離予的方法途徑塑，為高分辨始力，長焦深尊和長工作距焰離的SP超喜衍射光刻器斤件的設(shè)計提習供理論指導戴。在365暖nm波長光新源條件下建坐立優(yōu)化設(shè)計樹平臺，實現(xiàn)同對波前調(diào)控挽器件的設(shè)計黑。建立傳統(tǒng)與光刻技術(shù)與脆SP光刻技悲術(shù)的銜接，告探索利用謠傳統(tǒng)光學的異波前調(diào)控和解預畸變技術(shù)歪提高SP光腐刻質(zhì)量的方飾法途徑?？穑?各）研究各種倚因素對便SP弦成像性能的段影響。版利用內(nèi)容（童1）建立的蕉理論模型和柴數(shù)值計算平隱臺系統(tǒng)研究逢各種因素對揀SP成像性乓能的影響。穗研究入射光無的波長、波由前分布、偏兩振特性、相閱干特性等對目光刻質(zhì)量的盞影響，為S遙P光刻照明遠選擇提供依塵據(jù)；研究成膊像掩模質(zhì)量租，如圖形深莫度、邊緣形俊貌、圖形質(zhì)姑量等對SP戚光刻質(zhì)量的袍影響，為制李定SP掩模脆設(shè)計和工藝鈔標準提供依閱據(jù)。研究膜滿層厚度、重景復周期、平阻整度、均勻謊度等因素對匙成像質(zhì)量的呆影響，為S誰P超分辨成映像器件的設(shè)漠計制作提供院指導。探索走對SP成像拜波長、振幅典、位相、傳刺輸方向、偏涂振態(tài)、態(tài)密儲度等參數(shù)的滿操控理論和齒方法，為結(jié)醉合光刻膠工濟藝進一步提懇高SP光刻憲質(zhì)量提供前捕提。廳（3）探索旅進一步提高搜SP成像質(zhì)膽量的理論機或理和技術(shù)途豎徑。嫌在前面工作轉(zhuǎn)的基礎(chǔ)上，轟同課題4，政5結(jié)合，往研究提高嶼SP喇光刻質(zhì)量的篇理論機制和大技術(shù)途徑。前研究SP超禍衍射成像的庭圖像質(zhì)量，榆建立相應(yīng)的珠表征體系，佳研究SP成錄像像差表征角、描述、產(chǎn)永生的原因和過相應(yīng)的克服眠方法。研究惜提高古SP星成像分辨力壤，擴大視場合以及焦深的鐘切實可行的撇解決方法，揉利用楊顧算坊法等優(yōu)化設(shè)跡計方法設(shè)計孔基于SP成血像的長焦深饑成像器件、桃相移器件等勒亞波長光學泥器件，用于燦改善SP成路像質(zhì)量。進董行二維、三愧維陣列化劫SP扛成像、聚焦材光刻功能器糾件的性能分抱析和優(yōu)化設(shè)月計。艇（4）擴展沸SP成像焦戒深的器件設(shè)臉計、制作和販實驗表征。膨利用SP成體像原理模型蝕，在365灑nm波長光注源條件下通真過在傳統(tǒng)光偏刻輸入端或掃SP成像時升對相位進行槐調(diào)制，擴展啊成像焦深，誰改進工作距蛇離。同其他拿課題合作，佳通過波前調(diào)仰制，控制S站P成像的特撥性，實現(xiàn)長罩焦深成像。恰研發(fā)一種焦麻深檢測的系耀統(tǒng)方案并實沙驗驗證。必經(jīng)費比例：續(xù)11%芒承擔單位：煩首都師范大脖學睡課題負責人貪：仰張巖奪學術(shù)骨干：草劉娟、周云戚松、劉樹田弊、董碧珍疾課題2、S抱P與光刻介港質(zhì)相互作用憑的機理研究預期目標：究本課題針對朗表面等離子臉體超分辨成年像光刻中S額P光場與光廈刻介質(zhì)相互謊作用，研究瞧在365n露m波長光源餃條件下理SP與光刻年介質(zhì)相互作練用過程中電薪磁能量轉(zhuǎn)換刃機制，分析太光刻介質(zhì)性勁能參數(shù)與光置刻分辨力和遺圖形質(zhì)量之嚇間的關(guān)系，旅建立SP光植刻過程的物紗理描述和分哪析方法；基憤于光學非線唯性等效應(yīng)，城發(fā)展新型S爺P光刻介質(zhì)破，提高SP窗光刻的分辨簽力和靈敏度妹。扣1.獲得S腳P與光刻介粗質(zhì)相互作用徑過程中電磁焦能量轉(zhuǎn)換機自制，以及光愈刻介質(zhì)性能郊參數(shù)與光刻拐分辨力和圖鋒形質(zhì)量之間袍的關(guān)系。建弱立SP與光粉刻介質(zhì)相互激作用過程的凳物理描述和底分析方法。槳2.基于光杏學非線性等堡效應(yīng)，發(fā)展戲出提高SP足光刻分辨力看和靈敏度的閱新型SP光屠刻介質(zhì)，為授32nm線粒寬節(jié)點以下浩SP光刻技寶術(shù)提供物理罷和技術(shù)支撐窗。給出32委nm線寬光婆刻介質(zhì)和超罰分辨力光刻痰方法的研究蓄結(jié)果，昌提供完整詳必細可重復的當工藝技術(shù)報奧告。柏3.發(fā)表論俊文駛35雞-50篇，倘申請專利6川-10項。歲培養(yǎng)研究生袖10-15犬名。通過項噸目設(shè)置，引倡進吸引人才梯，培養(yǎng)一支餅高水平的表位面等離子體瓦超分辨成像澇光刻基礎(chǔ)研扶究的人才和鳴技術(shù)隊伍。研究內(nèi)容：框1.淋SP光刻過淋程中的電磁引能量轉(zhuǎn)換機松制。研究死在365n通m波長光源唇條件下瞧SP激發(fā)的朋過程和場分典布特點；研抖究光刻掩模陪高頻分量與材SP的耦合護、轉(zhuǎn)化以及蓄SP與光刻戒介質(zhì)間電磁曲能量耦合和婆轉(zhuǎn)換過程；脈分析光刻結(jié)核構(gòu)中SP的陳場分布特點姜與光刻效率秋、圖形質(zhì)量遙的關(guān)系；研旨究掩模版結(jié)油構(gòu)參數(shù)、膜紀層結(jié)構(gòu)特點漲，以及光刻祥介質(zhì)的特性飾對SP光刻勸過程中電磁尊能量利用和飲轉(zhuǎn)換的影響求。炮2.光刻介巧質(zhì)的性能參描數(shù)、表面平與整度與SP常光刻圖形質(zhì)鉛量的關(guān)系。晌研究并分析土在365n豆m波長光源競條件下志SP光場聚價焦特點、光鑒刻介質(zhì)性能侮參數(shù)、膜層耕參數(shù)、材料巖匹配以及金追屬固有吸收寄損耗等對分豬辨力和圖形閥質(zhì)量的影響禮；進行SP引光刻中相干依效應(yīng)以及改繳善SP光刻堡線條對比度靈、陡度、邊賭緣粗糙度的蹤方法研究。逆3.駁SP光刻過陸程的物理描筐述和分析方斃法。開展基迅于耦合理論國描述光刻過莫程中高頻信膽息的傳遞、主光學遠場信滑息到近場變爭換的研究；返基于微擾理壯論分析光刻不結(jié)構(gòu)特征參徐數(shù)對分辨力愁和圖形質(zhì)量賊的影響，給適出SP光刻豈微觀和宏觀掃過程的物理血描述。發(fā)展哪用于描述S把P光刻工藝擇過程的數(shù)值挪仿真方法，懸建立相應(yīng)的脆非線性時域偏和頻域有限棒差分法、嚴懼格耦合波（焰RCWA）滋等計算分析肝工具。獨4.猶在365n貞m波長光源條條件下，研燒究躁光學非線性宴等效應(yīng)對S下P光刻及介賢質(zhì)性能的影升響。引入矢戶量光場、非寺線性光學效冊應(yīng)，研究徑矛向偏振光高薦效最優(yōu)SP遣激發(fā)過程及術(shù)特性對成像伍光刻空間分魔辨力及局域湖場增強效應(yīng)屆的影響。研掌究非線性等端效應(yīng)對SP唐光刻介質(zhì)中停局域光場分土布，以及焦煤距、能量集接中度、形狀慌的調(diào)控。滔5.木在365n濕m波長光源名條件下龜新型SP光郵刻介質(zhì)的探菜索研究。探促索金屬納米帥團簇的加入辟對SP光刻虛介質(zhì)分辨力珍、靈敏度焦嫩深等性能的滋改進。研究雨金屬納米團裙簇的種類、爸尺寸、濃度白、形狀等參避數(shù)及引入方伙式對SP光喚刻介質(zhì)性能轎的調(diào)控。研面究金屬納米沃團簇與感光準顆粒的微觀負結(jié)構(gòu)、分布裳形態(tài)對光刻獎靈敏度的影摸響。按經(jīng)費比例：賢11%經(jīng)承擔單位：戴中國科學技占術(shù)大學、中表國科學院物起理研究所忘、中國科學宰院光電技術(shù)侮研究所施課題負責人藏：夏明海燕學術(shù)骨干：播王沛、周岳厲亮、王燦踩、魯擁華、種潘麗晚課題3、影任響SP光刻擔效率的關(guān)鍵任物理問題預期目標：與1.獲得怒SP需傳輸、耦合尼過程中電磁工能量損耗的蝶物理規(guī)律，婚得到有效減五少角SP務(wù)損耗的物理姓機制和技術(shù)炭途徑，建立籠損耗影響吩SP營光刻效率的項分析方法和蕩提高途徑研,粱深入研究調(diào)陪控魯SP尚材料介電常終數(shù)、損耗、釣色散行為的垮物理機制和溉技術(shù)途徑。速2.研制工旱作波長為助365nm童或神193nm死的摻雜薄Ag電、炒Au選、赤Al編材料膜層，訴給出介電常隊數(shù)的測試結(jié)犧果（介電常料數(shù)實部調(diào)制蓋范圍：啦3~-10陵)紅，提供完拘整詳細可重名復的工藝技廊術(shù)報告。落3.提出增估益補償?shù)牡P儉傳輸、耦合代多層金屬介斬質(zhì)薄膜結(jié)構(gòu)路，明確該結(jié)墊構(gòu)樣品的工抬藝制備方法滑以及其中情SP鄭傳輸和耦合災(zāi)損耗特性的傻測試分析方齡法，獲得指庭導性結(jié)果。俊4.研制薄灘膜結(jié)構(gòu)，在券20碌-融300n瑞m猛的欺SP煤橫向傳輸波述長范圍內(nèi)（性工作波長棚365nm直和鑄193nm樣），論證種SP騎傳輸與耦合臉損耗小于側(cè)0.2d醒B/m匹m跨的可行性，昌同時研究活可重復的多計層金屬、介吩質(zhì)膜層制備壓工藝和條件承，提供完整穴詳細可重復喚的工藝技術(shù)霉報告代替“20mm薄膜的制備”代替“20mm薄膜的制備”的目標焰5.發(fā)表論俯文脹25~40仿篇，申請專奪利效10歇項以上。培筑養(yǎng)研究生易10~15甜名。研究內(nèi)容：睬本課題的5介年主要研究婚內(nèi)容如下：樣1.帆SP可耦合、傳輸昆衰減的物理鑄機制和規(guī)律托在已有的先填期工作基礎(chǔ)繪上，深入開笑展SP模式表特性、例傳輸損耗榮特性厭和各種SP忙模式之間耦狀合特性的基這礎(chǔ)理論研究械，明確取其與懸SP傳輸、筆耦合押結(jié)構(gòu)參量顫的舞相關(guān)性，為攪相關(guān)器件的境設(shè)計提供理柴論依據(jù)。浴2.震SP圈在增益材料襯中的傳輸和刷增益行為規(guī)易律銷在研究SP瘦傳輸、耦合何物理機制和秋規(guī)律的基礎(chǔ)帖上，針對S確P傳輸損耗猜大的瓶頸問糠題，開展鋪SP辛在增益材料臘中的傳輸規(guī)落律的研究，僑探索利用半燕導體增益材木料補償SP良傳輸損耗。儉3.增益補礎(chǔ)償方式的低拿損耗畜SP碼耦合、傳輸討結(jié)構(gòu)設(shè)計和戰(zhàn)優(yōu)化信在研究內(nèi)容坦1和2的基典礎(chǔ)上，針對堵實現(xiàn)增益補者償?shù)牡蛽p耗扇的傳輸、耦化合，設(shè)計S批P傳輸、耦昆合、分束等卸功能結(jié)構(gòu)，還并針對提高砍SP識光刻效率的狹應(yīng)用要求，蓋優(yōu)化設(shè)計結(jié)鉤構(gòu)參量。旁4.低損耗厚SP招傳輸、耦合辟結(jié)構(gòu)、材料故的制備技術(shù)雀在理論研究太的基礎(chǔ)上，紗為有效提高物SP紋納米光刻效暴率，開展制眉備低損耗興SP殊傳輸、耦合扒結(jié)構(gòu)、材料帳的研究工作首。牌5.迷SP岔傳輸、耦合衰行為的損耗響測試和分析叛技術(shù)搞在制備低損芝耗SP傳輸尿、耦合結(jié)構(gòu)旋的基礎(chǔ)上，愈對SP在各峰種微納結(jié)構(gòu)帆中的傳輸、按耦合現(xiàn)象進財行測試，測漆試SP模式闊的模場和損拍耗特性，并哲進一步實驗侄分析造成S皇P損耗的機蠶理。堂6.調(diào)控挺SP鈔行為特性的黎機制和途徑否在理論研究裹SP傳輸、醉耦合與結(jié)構(gòu)肝參量關(guān)系的箭基礎(chǔ)上，探績索調(diào)控SP付模式僚特性（包括杠波長、色散推、能量分布跨、耦合等）竹的物理機理倘，研究金屬病/介質(zhì)納米減結(jié)構(gòu)中利用屬熱光效應(yīng)、爪電光效應(yīng)實活現(xiàn)SP調(diào)控探的有效途徑系。鹽7.摻雜蝦SP啦材料制備技鏈術(shù)和匯SP端行為性能測浸試箭圍繞低損耗偵SP的傳輸牽、耦合，研捏究金屬和介處質(zhì)混合形成揀的金屬陶瓷安材料的制備栗技術(shù)，并利豬用該材料介其電常數(shù)可調(diào)顏的特點，設(shè)嗓計、制備S宣P傳輸、耦脾合結(jié)構(gòu)，并饞對金屬陶瓷因材料中SP帝的傳輸、耦諒合、色散特都性進行測試脖。核經(jīng)費比例：似1恨0煩%夠承擔單位：檔清華大學、事西南交通大兇學、級中國科學院怒光電技術(shù)研山究所價課題負責人制：槍黃翊東旺學術(shù)骨干：賤劉仿、閆連反山、范崇澄撇、邢卉錫課題4、提說高SP光刻汁圖形質(zhì)量的沫原理和驗證濟方法研究預期目標：婦1.在超分葬辨成像的物倦理機制和成原像分辨力極蝕限問題的研由究基礎(chǔ)上，沿研究實現(xiàn)高湯深寬比、陡嗽直度好的高獎質(zhì)量SP光范刻圖形的原喪理和方法，澆為課題五S滋P超分辨成構(gòu)像光刻技術(shù)倉實驗驗證奠賣定理論基礎(chǔ)志，并提供可寨靠的工藝技瓣術(shù)支持。應(yīng)2.高質(zhì)量妹SP光刻圖羅形：特征尺覆寸32nm否、深寬比2社：1饑3.發(fā)表論藍文20篇以潮上，申請發(fā)膀明專利35抓項，培養(yǎng)研積究生10~條15名。研究內(nèi)容：園本課題在課檢題一針對S世P超分辨物面理極限問題爬的研究上，獵主要開展鄰毒近效應(yīng)校正否技術(shù)、離軸煉照明技術(shù)等艇波前工程技燙術(shù)相對應(yīng)的幟SP光刻理注論模型研究環(huán)。同時，研扭究實現(xiàn)納米末量級尺度上超微結(jié)構(gòu)暮圖形蓬的原理和技增術(shù)方法，最彈終形成制作格高深寬比、轉(zhuǎn)面拌形椒誤差小、高熊質(zhì)量光刻圖割形的SP超單衍射光學光高刻工藝技術(shù)船，搭建綜合殲性實驗平臺騙，對提高S與P光刻圖形脅質(zhì)量的波前勻工程技術(shù)、律光刻輔助增略強工藝等各傳種技術(shù)途徑找進行分析和棍驗證，為課拳題五傘提供悄技術(shù)支持。瞧主要研究內(nèi)緞容：癥1.SP超賀分辨光刻配興套光刻工藝貿(mào)和方法研究這研究基于S畜P超分辨光服刻的配套光譯刻工藝和方賺法，研究用救于提高SP性光刻質(zhì)量的石掩模設(shè)計和寄制備技術(shù)、洞光學光刻材州料處理工藝瞧、圖形傳遞欣工藝等關(guān)鍵扶輔助工藝。誠2.提高S設(shè)P超分辨光站刻質(zhì)量的新辨方法和新機章理研究降針對SP成壞像光刻技術(shù)脖特點，研究頃提高SP光稼刻圖形質(zhì)量縫的新機理和畫新方法，探涉索入射光偏私振特性、幅擔相特性等光耕學特性對焦永深、視場等膝光刻圖形質(zhì)郊量因素的影那響。擴3.研究波慶前照明技術(shù)居對SP超分歉辨光刻質(zhì)量亡提高的影響系研究掩模鄰碑近效應(yīng)優(yōu)化居設(shè)計和制備谷、相移掩模園設(shè)計和制備步、離軸照明巖以及偏振光插照明等波前押照明技術(shù)對奮SP成像光零刻質(zhì)量的影胞響，研究光學刻掩模圖形承設(shè)計優(yōu)化方卡法及仿真模叮型方式、照鏈明偏振特性蓋優(yōu)化方法及猾仿真模型及標其選擇依據(jù)甘。鹿4.提高S很P光刻質(zhì)量麻技術(shù)的實驗包平臺研究埋分別搭建針率對提高SP輪光刻圖形質(zhì)世量的波前工砌程技術(shù)、光勇刻輔助增強蛛技術(shù)的實驗希檢測平臺，抓研究各實驗沖檢測方法和鹽分析評價標熱準。吳經(jīng)費比例：響3陳2報%踢承擔單位：犬中國科學院債光電技術(shù)研升究所焰、四川大學辰、中國科技焰大學超課題負責人汗：編姚漢民潮學術(shù)骨干：絮王長濤、蘇紙顯渝、劉堯露、張斗國、誰賴之安嚴課題5、超大分辨成像光抽刻器件原理得和方法研究預期目標：子1.闡明超彼分辨SP成坑像器件物理網(wǎng)原理，獲得勇成像特性和壓規(guī)律，解決侮與超分辨成屯像分辨力相招關(guān)的關(guān)鍵物秘理問題，獲墾得提高成像刑極限分辨力牽的物理實現(xiàn)溜方法。建立想超分辨成像拾器件與傳統(tǒng)徒成像系統(tǒng)一慢體化設(shè)計和躺分析方法，馬實現(xiàn)器件結(jié)課構(gòu)制備，搭躬建SP超分錄辨成像光刻吹實驗裝置和錫獲得驗證性紋實驗結(jié)果，躍為新一代光吃學光刻技術(shù)麥奠定重要理源論和技術(shù)基獅礎(chǔ)。庸2.綜合考脖慮衍射受限圾成像、超衍代射成像和光艦刻過程，獲礦得16nm薄線寬分辨力軋的SP光學坑成像設(shè)計結(jié)崗果。堵3.在36愁5nm波長鼓條件下，獲循得32nm討線寬分辨力炕SP超分辨探成像器件，隊制作特征尺睜寸為32n情m的光柵、跡NEFO字芽符等集成電派路常用典型葬圖形結(jié)構(gòu)。夠4.發(fā)表論謊文20~3挽0篇，申請煩專利35項色。培養(yǎng)研究捉生10~1數(shù)5名。研究內(nèi)容：政本課題在前某期SP超衍喜射、超分辨卡成像方面的店研究基礎(chǔ)上板，展開超衍廢射材料、超盡分辨SP成條像的物理原堡理、特性和耍規(guī)律研究，修解決與超分妹辨成像分辨懼力相關(guān)的關(guān)急鍵物理問題包，探索提高目成像極限分揪辨力的物理貪實現(xiàn)方法。望研究與傳統(tǒng)葬成像系統(tǒng)的裁一體化設(shè)計街和分析方法序，并設(shè)計和遵制備超分辨像成像光刻器踐件，搭建相寶關(guān)光刻實驗錢裝置進行實仇際性能的實尤驗驗證。顛主要研究內(nèi)誘容：俱SP超分辨秒成像物理機滲制以及成像口特性和規(guī)律津在SP超分冬辨成像物理吼機制方面主覆要研究內(nèi)容蘆包括：倏逝舅波以SP波鞏形式作用時非在超分辨成等像過程中的士傳輸模式和找成像機理；糧超奸衍射材料用擁于成像的理缸論和設(shè)計途叫徑，成像結(jié)進構(gòu)的設(shè)計原鴿則；系統(tǒng)描洲述SP超分淋辨成像光學籠特性的相關(guān)凈數(shù)理模型和穿計算方法?；笤赟P超分診辨成像特性但和規(guī)律方面賤主要研究內(nèi)游容包括：超冶分辨成像的肉縮放倍率、寨物距、像距杏、焦深、視巴場、對比度河、光學傳遞造函數(shù)等性能遺參數(shù)之間的泥理論關(guān)系；品超分辨成像根器件結(jié)構(gòu)和天材料參數(shù)與迫成像特性的堪數(shù)理關(guān)系?？诵停怀直嫣O成像的像質(zhì)委分析方法、獅精細像差理腿論模型和像香差補償技術(shù)威；超分辨成也像模式下的波球差、慧差超、色差、畸壞變、場曲等伴像差的分析私和評判規(guī)則嗎；像差與成滿像器件結(jié)構(gòu)窄、光學系統(tǒng)眨缺陷之間的傅物理關(guān)系，靜以及像差對信SP光刻分對辨力的影響僅和關(guān)系模型茄；有效提高株SP光刻分河辨力、延伸儀SP成像工傲作距和焦深橫的理論和技半術(shù)途徑。但2.痛超分辨成像雕器件的一體級化設(shè)計方法騙和軟件平臺拴超分辨與傳洽統(tǒng)衍射受限妙成像對接的車成像原理和曬分析方法，鏟以及二者之敲間的成像原枕理、理論模漫型、設(shè)計原鄉(xiāng)則、成像特仰性分析方法弄和手段等方?jīng)]面的理論方駁法接口；可拉制備的超分猶辨成像光刻楚器件結(jié)構(gòu)設(shè)貼計和優(yōu)化方戀法，包括器欠件結(jié)構(gòu)的設(shè)焰計依據(jù)、基確本設(shè)計規(guī)律株、優(yōu)化設(shè)計找方法和相應(yīng)逢程序包，與山傳統(tǒng)光學設(shè)般計方法的技庸術(shù)接口等。怠3.恢超衍射材料酬的制備和檢蓄測技術(shù)聽雁超衍射材料籮平面膜層中偷的單組分膜知層、多組份鬧膜層、平面卸和曲面復合尾膜層等高精糕度微細加工批技術(shù)的研究脂；超衍射材排料的結(jié)構(gòu)參蠶數(shù)、基本光責學常數(shù)、近榆場光學行為非等電磁特性增的測量和表煎征技術(shù)。泊4.境縮小倍率超賭分辨成像器愿件和SP納微米光學聚焦囑透鏡的制備化和檢測技術(shù)旁零縮小倍率超蓮分辨成像器揉件的曲面膜德系高精度面嫁形控制技術(shù)槽、定位和對祝準標記的制區(qū)備技術(shù)；S山P納米光學曬聚焦透鏡中倆可對倏逝波抖光波振幅和造位相調(diào)制的流亞波長納米鐵結(jié)構(gòu)、微結(jié)格構(gòu)以及陣列宰式SP納米陰光學聚焦透扭鏡的外形結(jié)腦構(gòu)、金屬膜易層制備、標悉記加工以及兔保護膜層制雖備等方面的唐技術(shù)?？s小顛倍率超分辨擠成像器件和器SP納米光勢學聚焦透鏡膛的制作精度魄、超分辨成甩像器件的星關(guān)點與分辨力薯、傳函和分奇辨力均勻性勿、像差分析疊等成像特性哨表征技術(shù)。變5.對SP光刻實勺驗驗證系統(tǒng)包開展超分辨括成像器件與光投影光學系量統(tǒng)組合后實先現(xiàn)縮小投影燭SP光學光交刻的工作原軌理、光刻分繭辨力及光刻藝質(zhì)量等問題救的分析研究低；同時，對憑實驗系統(tǒng)的牽關(guān)鍵單元技褲術(shù)，如高倍牙率投影物鏡旗、超分辨成拋像器件承片茄臺的五維精驢密控制、硅浸片承片臺的宅五維精密控傭制以及精密彩對準等技術(shù)普開展系統(tǒng)研彎究；開展紫轉(zhuǎn)外照明、高搞倍率投影物程鏡、工件臺懸、掩模承載難臺、對準以擊及調(diào)平調(diào)焦竿等分系統(tǒng)的姐初裝聯(lián)調(diào)和初測試、實驗蝴系統(tǒng)整機集抬成和調(diào)試研緊究。系統(tǒng)開箱展用于驗證呼納米光學聚勒焦透鏡超分撓辨光刻性能擁的聚焦透鏡演承載以及精運密定位系統(tǒng)著、圖形自動雜生成系統(tǒng)、絕投影照明系自統(tǒng)等分系統(tǒng)匪的設(shè)計和制給作技術(shù)研究土；研究納米狀光學聚焦透雨鏡SP光學橡光刻實驗分廟系統(tǒng)的集成券和調(diào)試技術(shù)眨研究。幸經(jīng)費比例：擾3隔6閣%繡承擔單位：哪中國科學院墓光電技術(shù)研浸究所址、深圳大學驅(qū)、電子科技屠大學、清華搖大學的課題負責人棍：有羅先剛李學術(shù)骨干：方趙澤宇普、林祥棣孕、馮沁、馬詞君顯、王彥宰欽、趙青、清馮雪、譚學不海浙四、年度計垂劃摘研究內(nèi)容芹預期目標什第看一魄年戲主要涉及S脅P超分辨成躁像理論模型偵及物理過程那，發(fā)展相關(guān)惠計算方法，扛研究SP成穿像、聚焦光悅場與光刻介偽質(zhì)相互作用矮的物理特性浴，分析金屬嚇薄膜結(jié)構(gòu)材才料中SP波咐傳輸耦合損棒耗的特性規(guī)政律，非線性永SP光刻介譯質(zhì)的性能研偵究、設(shè)計和殲初步制備，倦系統(tǒng)分析研宣究SP光刻傻各材料、工僅藝環(huán)節(jié)對光兩刻質(zhì)量的影顧響，鄰近效圓應(yīng)修正的高候質(zhì)量SP光堂刻掩模制備能及可行性驗?zāi)缸C，系統(tǒng)研茶究SP超分滑辨成像特性鐘規(guī)律和超分魔辨成像器件巧結(jié)構(gòu)制備方星法和試制，賀設(shè)計和搭建叨超分辨成像憲光學測試實愚驗系統(tǒng)。燭具體研究內(nèi)低容有：斤1、系統(tǒng)地獄研究表面等李離子光學的景超分辨成像勒模型，描述哪SP疼超衍射成像判光刻的物理少過程，發(fā)展拼并完善確SP殺超衍射成像戀的數(shù)值計算努方法和理論鞋模型，研究網(wǎng)SP與電磁關(guān)瞬逝波相互預作用機理及鳥其傳播、耦左合特性，研被究限制SP柜超衍射成像歸性能的因素洞。婆2、研究S嚷P光刻過程橡中高頻信息靜的傳遞過程虜，分析光刻走結(jié)構(gòu)特征參餡數(shù)對分辨力豎和圖形質(zhì)量背的影響，譽SP溝光刻過程中發(fā)的電磁能量穴轉(zhuǎn)換機制。牙給出替SP鴿光刻微觀和邀宏觀過程的詢物理描述。肉分析光刻結(jié)腥構(gòu)中諒SP仇的場分布特銳點與光刻效賤率、圖形質(zhì)占量的關(guān)系。魄2、金屬納宗米顆粒的制元備。通過括物理和化學漲方法制備獲舅得一定尺寸遇和形狀的金傭?qū)偌{米顆粒餅。將非線性漿光學介質(zhì)與宋光刻介質(zhì)或核金屬掩膜結(jié)辱構(gòu)復合，研牢究非線性等蠶效應(yīng)對即SP肆光刻介質(zhì)中捏局域光場分做布，以及焦悼距、能量集銅中度、形狀或的調(diào)控?？?、研究分牽析SP模式睬損耗與結(jié)構(gòu)淺參量之間的虛關(guān)系；系統(tǒng)卷研究高質(zhì)量亦金屬（Ag其、Au）納啟米膜層的制稍備工藝和方洗法；研究金殺屬薄膜厚度菌和介電常數(shù)診的測試方法追，系統(tǒng)研究坡金屬薄膜質(zhì)坊量的量化表莫征參數(shù)和受肯工藝條件影眾響的規(guī)律。嘴4、系統(tǒng)理勝論分析研究崗影響SP光?？藤|(zhì)量的各誠個因素，包臨括光源、照瞎明、掩模、濕成像質(zhì)量、積基片、感光輛材料、曝光養(yǎng)顯影及處理策工藝等。店5、研究S史P光刻中光汗學鄰近效應(yīng)畫掩模優(yōu)化修品正方法及制文備技術(shù)，設(shè)隸計搭建用于晃SP光刻掩岔模檢驗的光晶刻實驗系統(tǒng)養(yǎng)和開展相關(guān)叔實驗，45死nm以下線盲寬的SP光穿刻掩模制備潑技術(shù)及檢測苗。篇6、滋研究超分辨木成像過程中暮的傳輸模式卻和成像機理罪；超衍射材止料用于成像供的理論和設(shè)股計途徑，成毅像結(jié)構(gòu)的設(shè)燭計原則瓶，發(fā)研究超分辨橡成像器件的怠放大倍率、鹽焦深、視場吧、工作距等米成像特性。在7、煩研究SP超閃分辨成像器拒件的設(shè)計方那法，開展器諒件數(shù)值仿真轉(zhuǎn)和性能分析憶，研究器件艷制備工藝公才差容限的分衰析方法榨。太8、食研究超衍射僑材料和超分昏辨成像器件綿的制備方案肉和工藝流程箭，開展爺45慚nm以下線煤寬超分辨成訴像器件的制徑備宜技術(shù)研究熔；虧設(shè)計搭建序用于超衍射夫材料和器件肺的成像性能博測試系統(tǒng)種。殼1、建立S異P光刻成像候的物理模型備和表征平臺挪，SP光刻妥質(zhì)量對照明迫特性依賴的旅統(tǒng)計規(guī)律。哨2、給出S新P光刻質(zhì)量滑對掩模參數(shù)于的依賴特性穿，SP光刻濱質(zhì)量對制備彈膜層參數(shù)的傻依賴特性。斥3、建立金京屬復合材料針非線性光學族性質(zhì)測試平候臺。波長：桂355n誕m單橫模；失脈寬：16聚ns；頻率縮：10蒜Hz兼。漆4、發(fā)展感皇光物理模型對、感光材料鉤特性對光刻倦質(zhì)量的影響較，發(fā)展36憤5nm感光鑄顯影數(shù)理模障型和計算分導析方法。塊5、制備金演屬套(Au練或澆Ag)圣的納米顆粒屋；研制出體功積百分比杯1％的均勻情分散的金屬具納米顆粒－享光刻膠復合躬體系，非線煉性感光材料犁（線寬分辨鋪力提高家1.2胳倍以上）。歐6、建立研往究SP模式撞、傳輸、耦擊合等特性的飄模擬仿真平糕臺，獲得S不P模式特性汁和耦合特性劫與結(jié)構(gòu)參量軌之間的關(guān)系唯，明確影響烤SP損耗的暑主要因素。探7、形成高輛質(zhì)量的金屬經(jīng)納米膜層制牲備技術(shù)體系花，提供完整填工藝流程和拍工藝參數(shù)；皂制備出厚度排20～30土nm，最大河起伏小于3角nm，有效輩薄膜區(qū)域尺拳寸>藝Ф巴1mm，致很密性好，空采洞缺陷少（卻有效薄膜區(qū)鎮(zhèn)域內(nèi)缺陷尺腥寸50nm侄～100n訊m的空洞數(shù)判目<20，芬100nm唱以上<5）市的高質(zhì)量金葡屬薄膜層。沉8、建立納贏米量級薄膜稈的測試平臺河，完成對所取制備出金屬懇薄膜的特性誘進行測試。相9、建立光叮學鄰近效應(yīng)梯修正掩模的撕設(shè)計模型和悔分析評價方球法，搭建用字于檢驗掩模舍質(zhì)量的實驗歸系統(tǒng)，并用全其對光學鄰餓近效應(yīng)修正披掩模技術(shù)進隸行實驗驗證滑，直SP珠光刻實現(xiàn)咳45nm同以下線寬的陳高質(zhì)量一維法光刻線條圖挪形。坐10、蒜提供45n源m練以下貼線寬饅分辨力矛的SP超分瘡辨成像器件伸的潛優(yōu)化肺設(shè)計收結(jié)果，鹿搭建超衍射世材料和超分匠辨成像器件贊的糧成像性能沈測試系統(tǒng)碼，實現(xiàn)小于接45nm淚線寬分辨力緩的超分辨成章像器件制備哈和實驗驗證困。焰11、疊發(fā)表論文陵25～35威篇懇，鞭申請發(fā)明專明利妨16～20躬項。好第蠟二匪年局研究主要涉串及：研究S下P超衍射成促像像差分析宏和表征理論笨，提高分辨著力、視場和喪焦深的物理采技術(shù)途徑，蒙發(fā)展與SP隨成像相關(guān)的斥波前工程理岡論和技術(shù)，免SP光刻掩序模影響感光院特性和質(zhì)量執(zhí)的規(guī)律，納應(yīng)米金屬顆粒眾對SP感光固介質(zhì)特性的誦影響分析，塞金屬介質(zhì)混慢合材料SP蜜光學特性研勵究，高質(zhì)量擋介質(zhì)納米薄箭膜層和金屬鬧－介質(zhì)混合厘材料薄膜層躁的制備工藝譽和方法，研價究光源照明研特性、相移餅掩模對SP把光刻質(zhì)量的診影響和實驗霜系統(tǒng)搭建、徑樣品制備，棍45～3真2nm線寬蜂SP光刻掩檔模及光刻圖堡形制備，與薯傳統(tǒng)物鏡對回接和一體化莫設(shè)計分析方降法，放研究唯65黑nm以下線羊?qū)挸直娉傻V像器件的制犯備保和肯測試類，初步設(shè)計神搭建糟超分辨成像嗓器件的實驗卡驗證系統(tǒng)診。水主要研究內(nèi)渡容：子1、研究S織P超衍射成每像質(zhì)量，像律差分析和表澤征理論，研瘋究SP成像岡像差產(chǎn)生的摘表征、描述牙、產(chǎn)生的原戒因和相應(yīng)的棗克服方法。避研究提高珍SP綱成像分辨力刺，擴大視場污以及焦深的項切實可行的歉解決方法。擁2、建立優(yōu)銅化設(shè)計平臺哭，實現(xiàn)對波蘿前調(diào)控器件漂的設(shè)計。建率立傳統(tǒng)光刻剛技術(shù)與SP郵光刻技術(shù)的嶄銜接，探鞏索利用傳統(tǒng)稱光學的波前僅調(diào)控和預畸炎變技術(shù)提高刮SP光刻質(zhì)雖量的方法途醉徑。緊3、研究光扮刻光源埋SP府激發(fā)的過程澆和場分布特被點；研究光昆刻掩模高頻轉(zhuǎn)分量與村SP鹽的耦合、轉(zhuǎn)盯化以及逼SP際與光刻介質(zhì)眾間電磁能量阻耦合和轉(zhuǎn)換覽過程；研究羨掩模版結(jié)構(gòu)墾參數(shù)、膜層驚結(jié)構(gòu)特點，烏以及光刻介灣質(zhì)的特性對燕SP壞光刻過程中歉電磁能量利富用和轉(zhuǎn)換的極影響。執(zhí)4、研究金圾屬納米顆粒融加入光刻膠澡后，對光刻延膠相關(guān)物理缸、化學性能畝（如粘滯性吃、粘附性、拋抗蝕性、表瓶面張力、平使整度、以及警力學模量等嶺參數(shù)），及拾光刻靈敏度輔和分辨力的浪影響。光刻暢介質(zhì)的性能告參數(shù)、表面柏平整度與制SP順光刻圖形質(zhì)敗量的關(guān)系。騾研究并分析宮SP儲特點、光刻當介質(zhì)性能參批數(shù)、膜層參搬數(shù)、材料匹傾配以及金屬姓固有吸收損幼耗等對分辨父力和圖形質(zhì)抗量的影響；拍進行朗SP齊光刻中相干孫效應(yīng)以及改拆善駁SP畫光刻線條對腸比度、陡度恩、邊緣粗糙焰度的方法研宅究。踩5、理論研拋究利用金屬虹－介質(zhì)混合覺材料調(diào)節(jié)介膛電常數(shù)的物訂理機制和規(guī)錘律，研究基譽于混合材料它的SP模式鴉基本特性；曠理論研究多認層金屬/介放質(zhì)結(jié)構(gòu)中S姓P的傳輸、問耦合特性，預分析在多層月結(jié)構(gòu)中有效管激發(fā)SP模克式的方法，湯以及SP模叔式的傳輸損需耗特性。熱6、研究高盯質(zhì)量介質(zhì)納懲米薄膜層和捕金屬－介質(zhì)溉混合材料薄繳膜層的制備盒工藝和方法壺；實驗研究豎SP模式耦遠合效率和損盼耗與結(jié)構(gòu)參陵數(shù)之間的關(guān)花系。子7、研究光頭源偏振態(tài)、鉆離軸照明對偵SP光刻質(zhì)仇量的影響，慣設(shè)計和搭建閘實驗系統(tǒng)，現(xiàn)開展實驗驗轎證研究，研端究用于提高低SP光刻焦扎深、線寬分鉗辨力的相移艱掩模設(shè)計優(yōu)扎化方法，以腸及相移掩模子制備方法。絕8、實驗研拾究光刻材料柳處理、曝光冬顯影等工藝恥對SP光刻做質(zhì)量的影響隨規(guī)律、分析蝕及評價方法鞏。用于45僵線寬SP光灘刻的高質(zhì)量拳掩模及光刻織圖形制備。明9、研究進狼一步提高超開分辨成像器蝶件成像分辨榮力遮的設(shè)計方法濟，牙研究傳統(tǒng)投造影物鏡和S鼠P超分辨成煉像的對接方卻法和一體化承設(shè)計分析方鋼法?；?0、怎研究賭65舞nm以下線尤寬超分辨成圈像器件的制余備方法及相敢關(guān)工藝流程醬，光學方法秩測試超分辨述成像器件的名分辨力和灰成像質(zhì)量懲，罪研究超分辨矛成像器件的紅實驗驗證系姐統(tǒng)及相關(guān)單棟元技術(shù)左。吹1、給出對齒SP成像波獸長、振幅、艷位相、傳輸棗方向、偏振意態(tài)、態(tài)密度歲等參數(shù)的操伶控理論和方掠法。乒給出SP成怎像質(zhì)量表征察的系統(tǒng)，給撕出各種像差農(nóng)的成因和控侮制方法。研咽究波前工程右對SP成像耀、分辨力、骨焦深的影響急規(guī)律，給類出SP波前贈工程技術(shù)實痛現(xiàn)的途徑。曉2、初步建潔立感光物理舌模型、感光逆材料特性影譽響光刻質(zhì)量臘的規(guī)律，初斑步建立36鼓5nm感光攀顯影數(shù)理模慕型計算分析鼠軟件方法。帶3、分別制獲備出分辨力曬為3卷2nm屑的光刻膠與飽金屬納米顆激粒的復合體脊系。給出納枕米顆粒加入鋤后復合體系扛的光刻靈敏敏度和分辨力慕，并給出其疑它相關(guān)物理匆化學性能的炸變化參數(shù)。泥4、給出旋雅涂速度與光朗刻膠厚度的較關(guān)系曲線。燙光刻膠厚度驅(qū)：塵50適～緊100nm疲，伽馬值：鴿1.胃4～憂2算，給出偏振歪選擇性感光匹材料的初步嗓試驗效果。甜5、獲得金炒屬－介質(zhì)混隨合材料調(diào)節(jié)坊介電常數(shù)的亦物理機制和束規(guī)律，給出若介電常數(shù)實栗部為3～-頌10的材料腹構(gòu)成方案。菊6、給出有保效激發(fā)真空藝波長為36例5nm、2并48nm、我193nm原的SP模式吳的多層薄膜秋結(jié)構(gòu)的方案妥。兆7、改進金連屬薄膜的制肆備工藝，制旁備出厚度<寺10nm，覆最大起伏小薯于1nm，獨有效薄膜區(qū)低域尺寸>哨Ф拔5mm，空幣洞缺陷少（捷有效薄膜區(qū)促域內(nèi)缺陷尺衡寸50nm把～100n表m的空洞數(shù)宏目<10，供100nm勾以上<3）綱的高質(zhì)量金唉屬薄膜層。鼠8、得到離濫軸照明、相昆移掩模等波嚇前工程技術(shù)柄應(yīng)用于SP綿光刻的實驗舅驗證結(jié)果。何9、得到用里于高質(zhì)量S醉P光刻的基釀底、感光材氣料、曝光顯赤影等工藝流撿程和優(yōu)化參晉數(shù)，實現(xiàn)深銷寬比大于1外：1的一維后、二維40載nm線寬光灶刻線條圖形掃。仙10、垃提供黎32曲nm超分辨蔑成像器件的懷優(yōu)化居設(shè)計春結(jié)果，茫完成粉40金nm以下線別寬許分辨力的悶超分辨成像申器件的制備糕和實驗驗證腹，蔬得到二維光展刻線條圖形停。壤11、滿提供改進的鴿超衍射材料叮和超分辨成期像器件的測夜試系統(tǒng)膀，標提供i線縮待小投影式S肉P光刻實驗盼系統(tǒng)的光學劑設(shè)計結(jié)果偵。切12、膏發(fā)表論文喚30儲~側(cè)40針篇，申請發(fā)劍明專利儀15~20后項璃。興第瘋?cè)磕旯┭芯炕谙嘤谝频葯C理的腥長焦深SP失超分辨成像溪器件，發(fā)展謠用于描述宇SP煮光刻工藝過灑程的數(shù)值仿禁真方法，研獎究光場空間笨偏振、非線祥性等效應(yīng)對緞SP碎光刻介質(zhì)中躍局域光場分腿布的影響，遍研究多層金藝屬介質(zhì)交替裕納米薄膜結(jié)肝構(gòu)中膜層之搭間物質(zhì)滲透宇特性和分析冒評價方法，記研究高質(zhì)量搜多層金屬/叫介質(zhì)結(jié)構(gòu)的藍制備工藝和逢方法，適合悶365nm敗、248n政m、193鈔nm的SP敘激發(fā)的材料核和方法途徑腿，研究光刻瀉材料處理工階藝對私SP送光刻質(zhì)量的棟影響，研究梁SP漲光刻配套傳傘遞工藝，利定用光刻實驗傻系統(tǒng)與超分剛辨成像器件姜進行投影光脹刻，開展提踐高光刻圖形奸質(zhì)量的實驗拘研究，根據(jù)愁像差補償技朱術(shù)和翁光刻實驗蝴結(jié)果，優(yōu)化解改進遲超分辨成像沙器件制備工伍藝和。木1、利用楊虛顧算法等優(yōu)妖化設(shè)計方法怪設(shè)計基于表信面等離子成稱像的長焦深界成像器件、腰相移器件等澡亞波長光學蜜器件，用于葡改善SP成彼像質(zhì)量。進項行二維、三總維陣列化似SP暮成像、聚焦墨光刻功能器括件的性能分袍析和優(yōu)化設(shè)執(zhí)計。鋸2、發(fā)展用惡于描述色SP吊光刻工藝過京程的數(shù)值仿忙真方法，建桐立相應(yīng)的非井線性時域和督頻域有限差盯分法、嚴格誼耦合波（蒙RCWA寇）等計算分追析工具。分鍛析感光材料煮特性對光刻愧質(zhì)量的影響竟。掌3、引入矢昂量光場、非隨線性光學效脈應(yīng)，研究徑階向偏振光高勤效最優(yōu)阻SP仿激發(fā)過程及枯特性對成像跡光刻空間分韻辨力及局域灶場增強效應(yīng)漿的影響。研贈究非線性等守效應(yīng)對植SP骨光刻介質(zhì)中礦局域光場分都布，以及焦啟距、能量集資中度、形狀罩的調(diào)控。研哲究金屬納米歉顆粒的濃度泛、尺寸、形瀉狀等參數(shù)對述光刻膠相關(guān)憲參數(shù)的影響籃。序4、理論想研究婚金屬/介質(zhì)拒結(jié)構(gòu)及參數(shù)京對SP模式殲態(tài)密度（D乳OS）的影滿響機制和規(guī)樂律蠶，民以及對有源射材料Pur叔cell效灣應(yīng)的影響費；研究多層坡金屬介質(zhì)交控替納米薄膜伐結(jié)構(gòu)中膜層抬之間物質(zhì)滲洪透特性，研酸究滲透區(qū)域封的膜層光學苦特性和評價便分析方法。殺5、實驗研辦究多層金屬癢/介質(zhì)結(jié)構(gòu)勁的制備工藝沈和方法；實友驗研究在多蕩層金屬/介暴質(zhì)結(jié)構(gòu)中有刷效激勵波長夸為365n僻m、248早nm、19叨3nm的S攻P模式的方齊法；實驗研葛究多層金屬技/介質(zhì)結(jié)構(gòu)品中SP模式勵的傳輸損耗策特性與結(jié)構(gòu)限參數(shù)的關(guān)系玉。晉6、研究光躺刻材料處理跡工藝對SP揚光刻質(zhì)量的即影響，搭建繩用于檢測光旋刻材料處理鳳工藝結(jié)果的濕實驗系統(tǒng)。摩7、研究S洋P光刻對圖存形傳遞工藝浪的特殊要求裁及相互作用圣影響，利用壽光刻實驗系顆統(tǒng)與超分辨彎成像器件進頭行投影光刻搖，開展提高休光刻圖形質(zhì)鴉量的實驗研商究。誓8、研究超袋分辨成像的儉像質(zhì)分析方騎法、像差理烈論模型和像韻差補償技術(shù)坑；機依據(jù)超分辨繭成像的成像賺理論和像差販理論，改進棕32nm和始22nm線映寬超分辨成稻像器件設(shè)計哨。禮9、漂進行超分辨緣成像器件的盞光刻實驗。衡根據(jù)光刻實倆驗結(jié)果，淚優(yōu)化很超分辨成像崗器件制備工家藝涉。黎1、提交長歉焦深SP成杰像器件的設(shè)汪計軟件和詳燙細說明。利黨用毫“梯楊顧算法腔”喘等優(yōu)化設(shè)計夸算法進行S叫P成像器件診的設(shè)計，實日現(xiàn)焦深的有炕效延伸（1黎00nm@許32nm）電。挨2、提出有嫌效提高單個激Lens視它場的理論和絨方法。一維屯、二維SP錫平面超分辨爆縮小成像器扛件設(shè)計，實買現(xiàn)16nm鑰線寬，縮放隸倍率5：1窯，視場10獨00nm。榴3、完善感嶺光物理模型難、感光材料社特性影響光蒙刻質(zhì)量的規(guī)堡律,完善建合立365n伸m感光顯影遍數(shù)理模型計每算分析軟件絮方法。年4、獲得金泊屬納米顆粒竄的濃度、尺繁寸、形狀、殊種類等參數(shù)掏對光刻膠性關(guān)能的影響規(guī)或律，綜合實錢驗結(jié)果，分化析得出通過伏加入納米金扣屬顆粒改善隙32海nm鼻光刻膠相關(guān)影性能的方案失。并5、實現(xiàn)復芬合光刻介質(zhì)功的三階非線自性系數(shù)孕3捎~10丑-10es業(yè)u走（355包式nm爺），實現(xiàn)高五靈敏光刻膠筋，厚度：刺50愁～絲100nm榜，伽馬值：奧2匹.送0～2.5役。坡6、初步掌免握困利用人工控捏制半導體請或相關(guān)有源否材料輻射復尾合能量耦合賽到SP模式播的型物理機理。地7、制備出逃多層金屬/蜻介質(zhì)納米薄繁膜，有效薄印膜區(qū)域尺寸互>紡Ф僅1mm,憤金屬薄膜厚創(chuàng)度10～2匆0nm，S茅iO2薄膜回厚度10～車20nm，躍總厚度>1注00nm。唱8、制備出裕高質(zhì)量介質(zhì)謀納米薄膜層盞和金屬－介博質(zhì)混合材料抗薄膜，有效罩薄膜區(qū)域尺債寸>蜂Ф號5mm，厚失度為<10電nm，最大舞起伏小于<畫2nm，空難洞缺陷少（鄙1mm尺度天范圍缺陷數(shù)爹目<1個）寫。雨9、搭建針則對光刻材料暮處理工藝的扎檢測系統(tǒng)（招厚度、表面縮等），實驗冒研究光刻材斜料處理工藝管評價對SP米光刻質(zhì)量的狗影響。世10、建立浙SP光刻圖凈形傳遞工藝卻操作流程及慧評價標準，盈完成高深寬加比（大于2掌：1）的深刃刻蝕工藝實囑驗。刺11、綜合耐應(yīng)用SP光突刻質(zhì)量提高番手段，實現(xiàn)踏40nm～姨32nm線搶寬的的SP別光刻實驗，書深寬比達到撤1.5：1森以上。刺12、魯搭建縮小投請影式超分辨趁成像光刻系釋統(tǒng)，在i線蓄波長條件下鞏獲得初步的淘32nm線鮮寬分辨力光勺刻驗證結(jié)果責，得到一維到、二維光柵貌線條圖形，說提供32n灘m超分辨成次像器件光刻寨設(shè)計和制備發(fā)工藝的改進找方案曲。觀13、季發(fā)表論文昏25禿~是40概篇，申請發(fā)兩明專利缺1離5～20許項昆。使第控四于年統(tǒng)拓展SP超浴分辨成像焦爪深和工作距決的方法和實悟驗研究，分煌析非線性光碼刻介質(zhì)性能誘對光刻質(zhì)量搶的影響，開滋展徑向偏振毀光光刻的實遙驗研究工作簽，研究分析請有源增益材椅料結(jié)構(gòu)SP汽模式傳輸損轎耗特性，設(shè)光計并制備增憶益補償?shù)牡涂v損耗的傳輸混、耦合結(jié)構(gòu)縣，理論研究癥調(diào)控SP模加式波長、色磨散、能量分恢布、耦合特宏性的物理機組理，實驗研責究增益補償晨的SP傳輸敘、耦合結(jié)構(gòu)捉，新型SP題光刻介質(zhì)的霜光刻工藝實鞏驗研究，研袋究32nm伍線寬的光刻守工藝及提高湊光刻圖形質(zhì)易量的方法，樸完善傳統(tǒng)光規(guī)學和SP超飛衍射成像系裁統(tǒng)的對接設(shè)窯計方案。設(shè)改計16nm覽超分辨成像繡器件化，迫研究旬32nm球及以下像差鏈特性和實驗等分析。捏1、利用S揉P成像原理匠模型，通過唐在傳統(tǒng)光刻拆輸入端或S饅P成像時對肢相位進行調(diào)特制，擴展成雙像焦深，改戰(zhàn)進工作距離旨。研發(fā)一種村焦深檢測的鵲系統(tǒng)方案并尸實驗驗證。未2、研究基包片上金屬納柿米薄膜或陣竭列（及薄膜睛厚度和陣列轎參數(shù)）對光逗刻靈敏度和際分辨力的影集響。頓3、繼續(xù)研送究介質(zhì)的非默線性系數(shù)、拴薄膜厚度、輔與光刻介質(zhì)呀的間距、薄盞膜界面質(zhì)量瞞等材料與結(jié)畝構(gòu)參數(shù)對S旬P光刻線條把寬度及光刻場質(zhì)量的影響慰，給出優(yōu)化番的理論與實荒驗結(jié)果。對獵比研究線偏捧振光、軸對壁稱偏振光在甘SP激發(fā)方踐面的不同特錯性以及與光飽刻介質(zhì)相互失作用的特點趨。開展徑向罰偏振光光刻諒的實驗研究培工作。鐮4、理論分施析有源增益證材料和結(jié)構(gòu)避對SP模式待傳輸損耗的祝補償方式，賞設(shè)計并制備慕增益補償?shù)念^低損耗的傳偶輸、耦合，危設(shè)計SP傳樣輸、耦合等世結(jié)構(gòu)。牽5、優(yōu)化多飲層金屬/介悔質(zhì)結(jié)構(gòu)參數(shù)筋，摸索在撿365nm身和煎193nm壞工作波長有程效降低SP景模式傳輸損駱耗的方法；紫實驗研究化增益補償?shù)淖馭P傳輸、挎耦合結(jié)構(gòu)，貸研究SP模蟲式增益的可充行性；理論繩研究調(diào)控S益P戰(zhàn)模式傾波長、色散品、能量分布販、耦合特性遍的物理機理用，實現(xiàn)利用則熱光效應(yīng)、捎電光效應(yīng)實養(yǎng)現(xiàn)SP調(diào)控丹的結(jié)構(gòu)。識7、開展新堤型SP光刻蜻介質(zhì)的光刻蹤工藝研究，叛實驗驗證提母高線寬分辨帶力、光刻質(zhì)孕量的可行性任；利用搭建百的SP超分軟辨投影光刻既系統(tǒng)以及新陪型光刻膠，僅研究32n譽m線寬的光燦刻工藝及提濤高光刻圖形疑質(zhì)量的方法塵。傻8、理論和娘實驗探索研驢究SP與輻殲射電子轉(zhuǎn)換盡光刻的方法稻可行性。研鬼究提高SP蜜光刻質(zhì)量的洋新方法、新討技術(shù)。今9、浩完善32n努m及以下超佳分辨成像器叢件的像差特呼性及理論模掉型。完善傳鄭統(tǒng)光學和S悄P超衍射成菊像系統(tǒng)的對視接設(shè)計方案堪。設(shè)計16榮nm超分辨呈成像器件煎，民研究32n笛m及以下超幸分辨成像器網(wǎng)件的像差特級性的實驗驗野證方法及實廳現(xiàn)技術(shù)途徑瘡。讀10、仗利用改進制黃備的超分辨姓器件，進行她32nm線膀?qū)挼墓饪虒嵠篁烌炞C帖。君1、實現(xiàn)S墻P計算仿真胡軟件與光學寫設(shè)計軟件的普銜接和數(shù)據(jù)賓接霸口和詳細說猛明。員2、實現(xiàn)利母用傳統(tǒng)光學畫波前工程進裕行SP光刻前成像質(zhì)量的五提高，完成粥焦深檢測系智統(tǒng)方案的實輩驗驗證。阿3、進一步搶完善365蜂nm感光顯貿(mào)影數(shù)理模型綁和計算分析謝軟件方法，屠獲得金屬超塔薄膜盤(熱厚度鋤10nm建，表面粗糙溝度場1護nm)岡或金屬納米碼陣列對光刻糖靈敏度和分礙辨力的影響晉規(guī)律?？?、實現(xiàn)S協(xié)P光刻膠厚桃度：櫻22筐～善100nm疫，伽馬值：瘡2爹.樹0～2.7駱，非線性感際光材料（線雙寬分辨力提援高撐1.眉4倍以上）楚。孟5、掌握有親源增益材料扇及結(jié)構(gòu)對S卡P模式傳輸暗損耗的補償尼特性，優(yōu)化耳設(shè)計增益補僻償?shù)牡蛽p耗葉SP傳輸、梅耦合結(jié)構(gòu)并貿(mào)制備出樣品惑。脾6、制備出威高質(zhì)量多層還金屬/介質(zhì)扣納米薄膜，剪有效薄膜區(qū)暮域尺寸>牌Ф粘5mm,秤金屬薄膜厚牢度10～2腫0nm，S鳴iO2薄膜損厚度10～動20nm，蔬總厚度>3孝00nm。勞7、制備出憂多層薄膜結(jié)堂構(gòu)，SP傳各輸與耦合損泳耗小于5d巡B/mm。閘8、綜合應(yīng)捕用新型光刻泊膠、SP光岡刻新方法和片新技術(shù)以及癥優(yōu)化工藝流霜程等，實現(xiàn)塑深寬比達到游2：1的3孟2nm線寬煌的SP光刻預一維、二維可線條和NE撫FO字符圖暫形。讀9、欲提出16n墨m超分辨成霉像器件