考古繪圖課件

第三章考古繪圖1第三章考古繪圖1第一節(jié)投影與視圖一、透視投影原理二、正投影原理三、視圖與視圖排列四、視圖之間相應(yīng)點的平面坐標對應(yīng)關(guān)系五、點、直線、平面的投影2第一節(jié)投影與視圖一、透視投影原理2一、透視投影原理透視投影假設(shè)在觀者和被畫物之間置一透明平面，觀者對被畫物上各點射出的視線與該平面相交，相交點構(gòu)成的圖形便是該物的透視投影。透視圖按透視投影原理繪成圖就是透視圖，其透明平面則稱為畫面?？脊爬L圖中使用使用很少，一般是作為正投影圖的補充，繪制建筑、洞室墓的結(jié)構(gòu)或細部構(gòu)件結(jié)構(gòu)，或遺址外景速寫；有時在調(diào)查時，因繪正投影圖條件不具備，也采用繪透視示意圖方法記錄一些遺存。透視圖畫法繪者要選好觀察角度，然后，被畫物體不要移動，觀者每次觀察的位置也要保持在一點上。要注意物體的比例、遠近、明暗、結(jié)構(gòu)的表現(xiàn)。3一、透視投影原理透視投影假設(shè)在觀者和被畫物之間置一透明平面二、正投影原理正投影、正投影圖平行光線通過被畫物體的各點垂直投射到一個假想平面上的影像，便是該物的正投影。按正投影原理繪制的圖叫正投影圖。假想平面叫投影面?？脊爬L圖中應(yīng)用正投影圖能直接量測出物體的尺寸，因而成為考古繪圖的基本條件。正投影圖繪制觀者必須不斷轉(zhuǎn)換眼睛的位置，使眼睛到該物體上各點的視線相互平行，并垂直于投影面，才能得到物體的正投影圖。實際繪圖時是在正投影原理指導(dǎo)下，根據(jù)實測的被畫物體尺寸繪制相應(yīng)比例的圖。畫出的圖與眼睛所望的透視影像并不完全相同。4二、正投影原理正投影、正投影圖平行光線通過被畫物體的各點垂正投影圖透視圖5正投影圖透視圖56677五點、直線、平面的投影點

一個點的投影仍為一個點。兩個點：①不在垂直于投影面的一直線上，其投影為兩個點。②在垂直于投影面的一條直線上，則投影為一點。直線

一條直線：①直線垂直于投影面時，為一個點；②直線不垂直于投影面時，仍為直線。平行兩直線：①在一般情況下，其投影仍為平行兩直線；②同時垂直于投影面時，投影是兩個點；③不垂直于投影面，但其所在的平面垂直于投影面時，其投

影為一條直線。一線段：①平行于投影面時，投影長度等于實長；②一線段垂直于投影面時，其投影為一點；③即不平行，又不垂直于投影面的線段，投影小于實長。平面

①在一般情況下仍顯示為面；②當平面垂直于投影面時，投影為一直線。③圖形平面若平行于投影面時，投影形狀與原圖形完全一樣；④若圖形平面不平行于投影面，其投影形狀與原圖形即不完全一樣，而產(chǎn)生投影變形。8五點、直線、平面的投影點一個點的投影仍為一第二節(jié)田野發(fā)掘繪圖一、田野發(fā)掘繪圖的基本要求二、遺跡圖

1平面圖

2剖面圖

3遺跡圖錯誤分析三、探方圖

1分層平面圖

2探方總平面圖

3探方四壁剖面圖9第二節(jié)田野發(fā)掘繪圖一、田野發(fā)掘繪圖的基本要求9一、田野發(fā)掘繪圖的一般要求田野發(fā)掘繪圖主要有遺址圖、發(fā)掘區(qū)圖、探方圖、遺跡圖。發(fā)掘工地的負責人必須具備一定的考古繪圖知識，在作業(yè)期間逐一審查田野繪圖，給予必要的技術(shù)指導(dǎo)，把好質(zhì)量關(guān)。圖面布局發(fā)掘繪圖一般繪在米格紙上。把圖放在圖紙的中上部，平面圖上的指北針要放在右上角。把圖號、圖名、比例、繪者和日期放入圖的右下部。文字、說明、圖例放在左下部。10一、田野發(fā)掘繪圖的一般要求田野發(fā)掘繪圖主要有遺址圖、發(fā)掘區(qū)圖1111二.1遺跡平面圖表現(xiàn)內(nèi)容比例1：20繪制方法12二.1遺跡平面圖表現(xiàn)內(nèi)容12表現(xiàn)內(nèi)容遺跡平面圖的兩種類型

頂視圖即遺跡在水平投影面上的正投影圖形，用以表現(xiàn)沒有或現(xiàn)今沒有蓋（頂）的遺跡，如灰坑、土坑豎穴墓、半地穴式房址的平面圖。

把遺跡做水平剖切后的剖視圖即假想去掉遺跡的蓋（頂）后，剩余部分在水平投影面上的正投影圖形，如磚室墓平面圖、石棺墓平面圖。繪制內(nèi)容

遺跡輪廓、遺跡內(nèi)細節(jié)（如龕、灶、臺階、柱洞）、遺跡內(nèi)可能有布局意義的遺物。注意事項

在正投影時，如果是被遮擋的隱蔽部分，要用虛線表示。有蓋（頂）的遺跡，其平面圖中剖割面的實體部分用特殊的圖例（如涂黑、間距相等的平行斜線）與其它部分分開。13表現(xiàn)內(nèi)容遺跡平面圖的兩種類型13141415151616繪制方法（坐標法）（1）定基線。在遺跡縱軸位置拉基線，作為測量時坐標系的y軸或x軸。附上皮尺。（2）測繪出輪廓線。測點、由點連線，繪出圖形。眼睛所見的是透視圖形，還必須想象遺跡正投影時的形狀，才能畫準。（3）測繪內(nèi)部細節(jié)。（4）測繪遺物。觀察器物形狀時，要用眼從器物上方垂直往下看，才能獲得正確的圖形。（5）作注記和說明。器物、骨架的圖上編號與實際編號的對應(yīng)關(guān)系。（6）標出剖口線符號。（7）標方向。夾角法標方向：用羅盤測出基線和指北針的夾角，然后用量角器在圖上標出指北箭頭。邊框法標方向：把圖紙放在基線下，令圖上基線與實際基線重合，再把方形邊框羅盤放在圖紙上，使磁針指向N，沿邊框畫出指北箭頭。（8）寫上圖號、圖名、比例、繪者、日期。復(fù)雜難繪的遺跡，要使測量的坐標值準確，可以使用方格網(wǎng)法。如測繪骨架，用預(yù)制的方格網(wǎng)（在方形木框內(nèi)拉上間距相等的縱橫線）罩在骨架上，按小網(wǎng)格測繪。17繪制方法（坐標法）（1）定基線。在遺跡縱軸位置拉基線，作為測1818二.2遺跡剖面圖剖面圖的三種類型

（1）遺跡堆積剖面圖

反映出坑內(nèi)各層堆積的立面狀況，而坑的剖面輪廓線又反映出坑穴的形狀和尺寸。

（2）遺跡剖面圖

只畫遺跡在剖切面上的圖形，表現(xiàn)出遺跡在假想剖切面處的深度、形狀、結(jié)構(gòu)和尺寸。

（3）遺跡剖視圖

不但畫出在假想剖切面處的圖形還畫出遺跡被剖切后看到的內(nèi)部狀況。磚室墓都用剖視圖畫法。19二.2遺跡剖面圖剖面圖的三種類型

（1）遺跡堆積剖面圖

二.2遺跡剖面圖繪圖手法

白描法

只憑借線條表現(xiàn)遺跡形狀和堆積的層次。

圖例法

對剖面實體部分使用特殊符號（如斜線、涂黑、點子），而使圖面增加空間感和質(zhì)感。20二.2遺跡剖面圖繪圖手法

白描法只憑借線條表現(xiàn)遺跡二.2遺跡剖面圖注意事項

①為便于平剖面圖對照，一張圖紙能容納下平面圖和剖面圖的，就應(yīng)該把剖面圖放在平面圖之下，或某一側(cè)，相對應(yīng)的點線盡量對齊。剖面圖的比例和平面圖的比例相同。一個或一種剖面圖不能滿足需要，就要繪幾個或幾種剖面圖。②選擇剖切位置要考慮到剖面反映的形狀能使別人得到關(guān)于遺跡的正確理解，一個剖面要反映較多的內(nèi)容。在剖切位置上拉基線，有的可以和平面圖共用基線。使用坐標法繪圖。

③遺跡解剖時，要注意及時補繪剖面圖。21二.2遺跡剖面圖212222二.3常見遺跡圖錯誤分析（1）對遺跡理解認識不足，從而產(chǎn)生漏畫和錯畫。（2）沒有實測或?qū)嶋H觀察形狀，想當然地畫出遺跡的某一部分，造成錯畫。（3）沒有掌握正投影原理，不能預(yù)見自己所要表現(xiàn)的對象畫出后應(yīng)是什么樣，畫錯了也覺察不到。（4）表現(xiàn)方式不當。（5）測量、換算的差錯。繪完圖要檢查。（6）工作粗糙，不認真。如平面圖缺指北方向，沒有剖口線，漏寫比例，目測粗畫。（7）遺跡解剖后，沒有把解剖部分補畫上。23二.3常見遺跡圖錯誤分析（1）對遺跡理解認識不足，從而產(chǎn)生24242525三.1探方分層平面圖繪制內(nèi)容

每幅圖應(yīng)繪有探方邊框線、擴方邊框線、隔梁邊線、遺跡輪廓線。遺跡內(nèi)的細節(jié)可以適當簡化遺跡畫法

開口于哪層下的遺跡，就歸入哪層下的平面圖中。如果開口在某一遺跡下，其歸屬同于打破它的遺跡。遺跡輪廓線在投影時被遮擋部分要用虛線表示出來。如袋狀坑的底輪廓線就要用虛線表示。遺跡被非同層的遺跡打破時，若不畫打破者就不能合理表現(xiàn)被打破的遺跡，這時就要畫出，并注明打破者屬于上層下遺跡。若不影響，則可不畫出。26三.1探方分層平面圖繪制內(nèi)容

每幅圖應(yīng)繪有探方邊框線、擴方2727三.1探方分層平面圖繪制步驟

繪圖時先把探方邊框線、隔梁線、擴方線繪出，再繪出指北箭頭，寫上圖號、圖名、比例、日期、繪者。每發(fā)掘一個遺跡就畫一個，把同一層面的所有遺跡發(fā)掘完，圖才能畫完。探方分層平面圖也是用坐標法測繪的。探方很淺時，以探方西南角為基點，南邊線為x軸，西邊線為y軸進行測繪。探方稍深后，需要把測量基線移至探方底部。在探方四邊線上，距探方角整米數(shù)點插下鐵釬子。每當要測量時，把需要的兩個相對鐵釬掛上線繩，然后用垂球把該線移到探方底，并量出探方底內(nèi)縮的長度。把皮尺附在探方底的基線上，尺端應(yīng)留出壁內(nèi)縮的長度。有些測點離基線較遠，為了保證測量精度，可以用上法再設(shè)一條基線并附上皮尺。測量時只要皮尺經(jīng)過兩個基線上皮尺相同的數(shù)字點，就能保證測尺與基線垂直，測出的數(shù)字也就精確了。其它測繪步驟和要求可參考遺跡平面圖的測繪。28三.1探方分層平面圖繪制步驟

繪圖時先把探方邊框2929三.2探方總平面圖探方總平面圖是在探方發(fā)掘完后，根據(jù)分層圖繪制而成。簡潔的辦法是把各層圖透繪在一張圖紙上即成，透繪時切不可把方向弄錯。上下層遺跡在投影時發(fā)生重疊的，下層遺跡被遮擋的部分要畫成虛線。在遺跡繁多的情況下，可以采用靈活的辦法來增加圖面反映同一文化（或同一層面）遺跡布局的表現(xiàn)力。如不同文化（或不同層面）的遺跡，可使用不同顏色的線，或使用粗細不同的線。由于探方總平面圖重在表現(xiàn)所有遺跡的相對位置，遺跡結(jié)構(gòu)上的細節(jié)和遺物布局可以少表現(xiàn)或者不表現(xiàn)。否則遺跡很多或結(jié)構(gòu)復(fù)雜，會使畫面繁亂，主次不清。30三.2探方總平面圖探方總平面圖是在探方發(fā)掘完后，根據(jù)分層圖三.3探方四壁剖面圖繪制目的

表現(xiàn)探方堆積狀況和層位關(guān)系。排列

為了便于本探方四壁剖面圖的拼對，一般是把南壁和北壁圖放在一張圖紙上，東壁和西壁圖放在一張圖紙上。繪圖時要面向探方壁繪圖，切不可弄反。圖兩端要標出東、南、西、北，圖下注明是哪個壁。探方四壁剖面圖表現(xiàn)手法

白描畫法它具有統(tǒng)一整齊、易于改動、簡單易畫、省時省工的優(yōu)點，宜廣泛使用。

完全圖例畫法各地層和遺跡堆積分別用不同的圖例表示的，具有很強的反映諸堆積質(zhì)感差別的表現(xiàn)力，最適合報告插圖。

部分圖例畫法對特殊部分使用圖例，因而運用靈活，增強圖面的質(zhì)感差別。如地層用圖例，遺跡不用；生土層用圖例，其它地層和遺跡不用等。繪制要求

淺探方的基線可設(shè)在地表，深探方的基線要設(shè)在腰部，以便測量?；€一定要水平。使用垂球吊線測量各測點。利用坐標法測繪。31三.3探方四壁剖面圖繪制目的

表現(xiàn)探方堆積狀況和層位關(guān)3232第三節(jié)室內(nèi)器物繪圖一、普通器物的畫法二、三足器的畫法三、器物殘片的畫法四、工具、武器等實心物體的畫法五、器物紋飾畫法六、展開圖畫法七、用筆技法33第三節(jié)室內(nèi)器物繪圖一、普通器物的畫法33一、普通容器的畫法1畫面布局

普通容器的器物圖是右半部分畫正視圖，左半部分畫剖視圖；使右半部分表現(xiàn)器物外表面細節(jié)，左半部分表現(xiàn)器壁剖面及器物內(nèi)表面細節(jié)。一般是圓底圓口器省去頂視圖和底視圖。一般形制簡單的器物只畫一幅就夠了。復(fù)雜的，需要幾個視圖，增加剖面；有的還要進行隱剖、折線剖等方法。34一、普通容器的畫法1畫面布局

普通容器的器物圖3535一、普通容器的畫法2測繪方法

坐標法

擺放用米格紙自制同心圓一張。同心圓中過圓心的十字格線AO、CO作為剖視圖的剖切線。把器物正放在同心圓紙上，令器物中軸線通過圓心。器物擺放位置不同，繪出器形不一樣，要認真選好適當位置，擺好后不再移動。

測量把三角尺直立在同心圓紙上，使短直邊貼在紙面上。三角尺的長直邊是測量的y軸，與長直邊相交的橫格線是x軸，二者相交點是xy坐標系原點。xy所在平面是xy坐標面。當三角尺不動時，可以測出xy坐標面上各點的縱橫坐標。當測點不在xy坐標面上時，要前后沿縱格線移動直立的三角尺。這時的圖上y軸位置沒有改變。有時為了測量方便，要沿橫格線左右移動，這時圖上y軸位置發(fā)生改變，需要重新確定y軸所在的格線。使用兩腳規(guī)測量時，其一腳尖頂在三角尺直邊上，一腳尖頂在測點上（兩腳尖要端平持正），那么，兩腳尖距離是橫坐標，腳尖到同心圓紙面的距離是縱坐標。

①一般先量口徑、底徑、通高，畫器物框架。選擇測點（轉(zhuǎn)折點、最凸點、最凹點），測繪外輪廓線。由點連線時要把握好轉(zhuǎn)折處的鈍銳和曲線的凹凸程度。測繪完一側(cè)時，再移尺測另一側(cè)，器形不對稱時不可對折復(fù)印。

②測出沿、壁、底的厚度，畫出剖面。壁厚可用彎腳卡尺測。難以測量壁厚的復(fù)原器，可以修復(fù)前或修復(fù)過程中測量壁厚度。

③無法測量部分，內(nèi)壁線用虛線畫。平底器的通高減去內(nèi)腹高就是底厚（內(nèi)服高度用直尺豎入可測）。

④測繪內(nèi)外表面的轉(zhuǎn)折線、耳，再繪紋飾、打磨痕、溝槽等細部特征。

⑤剖面繪平行等距斜線，或者全部涂黑，以與其它部分區(qū)別。36一、普通容器的畫法2測繪方法

坐標法

擺放用米格紙37373838二、三足器的畫法1鼎的畫法

畫鼎一定要注意鼎足與鼎身的遮擋關(guān)系和器物形象的完整性。鼎有三種擺法，繪出的圖也不一樣。把鼎正放在同心圓上，使鼎身的中心軸線通過圓心。

第一種擺法是一足在左，兩足在右，繪出的圖有不穩(wěn)重感，但半剖視圖切到左邊的足，能很好的展示身足的關(guān)系。其右側(cè)前足是遮擋鼎身輪廓線的。

第二種擺法是一足在前，兩足在后。畫出的圖有穩(wěn)定感；但半剖視圖不能剖切到鼎足。應(yīng)注意，前足遮擋了鼎身輪廓線，鼎身又遮住了后兩足。

第三種擺法是兩足在前，一足在后。這種擺法有兩種畫法：①半剖視圖，即把同心圓十字線等分的前1/4部分全部剖掉，把剖掉的足、耳附件用虛線繪出。②鼎身剖視，足不剖掉。前足遮擋了鼎身，鼎身遮擋了后足。39二、三足器的畫法1鼎的畫法

畫鼎一定要注意4040二、三足器的畫法1鬲與鬹的畫法

畫鬲時，鬲的擺放方式也有兩種：①兩足在前，一足在后。②兩足在左，一足在右。后者多用于有流、有把手的三足器，或三足尖連線為等腰三角形的三足器。

輪廓線用豎立的三角板沿縱向基線前后移動，測量出外輪廓上關(guān)鍵點的坐標，由點連線即成。鬲襠心的高度用兩腳規(guī)測得。鬲剖面線畫法是沿鬲的輪廓線測量厚度，然后在外輪廓線的里側(cè)按實際厚度畫出剖面壁的內(nèi)側(cè)線。因此，鬲的剖面是按照鬲外輪廓線剖切，而不是垂直剖切。剖切面的形狀大小都十分靈活，也可以采用隱剖形式。

鬲的足與足連接處為襠，外表面的凹陷稱襠溝，內(nèi)表面的凸起稱襠隔。襠溝線叫外襠線，襠隔線叫內(nèi)襠線。外襠線測點坐標可以直接測出，連點即為襠線；內(nèi)襠線則是把外襠線向內(nèi)移動一個壁厚得到的。注意，隱剖時，用虛線畫出的襠線是外襠線。41二、三足器的畫法1鬲與鬹的畫法

畫鬲時，鬲的4242三、器物殘片的畫法1附加剖面畫法2復(fù)原畫法43三、器物殘片的畫法43附加剖面畫法附加剖面畫法

先畫出陶片正視圖，在正視圖旁側(cè)加一幅剖面圖。注意事項

1附加剖面畫法的剖面圖一般放在正視圖左側(cè)。

2剖面所示的器物里外方向必須與完整器物的器物圖相應(yīng)部位剖面的里外方向一致，不能畫反。

3畫出的剖面能準確反映該陶片在原完整器上的傾斜度，不可歪斜。因此，畫時須把陶片擺正，再進行觀測。平口器物的口沿殘片，可以倒放在同心圓米格紙上，使口沿與紙面密合。器腹片和底片要正放。一般來說，當輪修痕跡、規(guī)整的弦紋、能水平繞器一周的各種折棱線（底折線、肩、頸折線）所在的平面處于水平狀態(tài)時，陶片也就擺正了。44附加剖面畫法附加剖面畫法

先畫出陶片正視圖，在正視圖旁側(cè)加一4545復(fù)原畫法復(fù)原畫法

根據(jù)陶器殘片進行局部復(fù)原的畫法。復(fù)原圖能反映出器物的部分形狀和大小，但是，古人有意毀器形成的殘缺是不能采用復(fù)原畫法繪圖。繪制步驟

口沿殘片繪圖時，把陶片倒放在同心圓米格紙上，使口沿立穩(wěn)，然后平行移動口沿，使口沿與某一圓周重合，得出陶片的口徑。殘器底正放在同心圓上，也可求出底徑。把三角尺直立在同心圓上，測繪了陶片的輪廓線和剖面，再繪出相應(yīng)的紋飾。陶片正視部分可以放在中間。也可放在右邊部。有口有底，中間缺失的部分可參考其它完整器用虛線連接。注意事項

不能復(fù)原或沒有把握復(fù)原的陶片就不要使用復(fù)原畫法。46復(fù)原畫法復(fù)原畫法

根據(jù)陶器殘片進行局部復(fù)原的畫法。復(fù)原圖能4747四、工具武器等實心物體的畫法1外輪廓線畫法2器身細部畫法3附加剖視圖和旋轉(zhuǎn)剖面圖48四、工具武器等實心物體的畫法1外輪廓線畫法48外輪廓線畫法可以畫成1∶1的小型器物，直接把器物放在圖紙上，用筆勾勒正投影的外輪廓線。把三角尺直立在圖紙上，令直立的長邊靠在器物邊緣上的測點，則在圖紙上得到測點的垂直投影點。由點連線就得到外輪廓線。造型極不規(guī)則的打制石器，可以自制一個繪圖儀。把三角尺去掉直角，綁上劈開的鉛筆，使筆尖位于兩直邊的交點上。使用此儀沿器物周邊滑行，即可得到外輪廓線。要畫成其它比例的器物，可以按上述方法畫出1：1的外輪廓線，再按比例縮繪?；蛘?，在器物之下放一米格紙，選出一條格線為測量基線，任選基線上的一點為基點。用上述方法把測點垂直投到米格紙上，從而得到測點的坐標值。在繪圖紙上（另一張米格紙）用坐標法繪出各測點，由點連線。側(cè)視圖也可用此法49外輪廓線畫法可以畫成1∶1的小型器物，直接把器物放在圖紙上，2器身細部畫法在米格紙上選定測量基線，把直尺平置于器物上面，使尺邊與基線重合，便可測量出直尺邊沿所通過的測點坐標，以及附近測點的坐標。測點多者可多選幾條基線。以方便準確為準則，可靈活測量。然后依觀察勾繪出細部。輪廓線內(nèi)畫哪些線，需觀察實物表面呈現(xiàn)哪些棱線。棱線銳者，一定要用線繪出。棱線鈍者，可以不畫線，或用斷續(xù)的虛線表示，或用點子筆法來表現(xiàn)。器物上的制作痕跡和使用痕跡能見到的均應(yīng)繪出。如磨制石鏟，安柄部常留下鋸割痕，刃緣有使用碰壞的殘疤痕。體表的制作與使用的磨蝕痕也是重要特征，盡量反映出來。打制石器疤痕多，形狀不規(guī)則，但是疤痕是研究制作與使用的重要圖形資料，必須如實畫出，要反映出打擊點、打擊方向、打擊次序等特征。疤痕畫法是，用適當粗細線勾出輪廓，內(nèi)繪放射線和波狀線；或者亮部不畫輪廓線，而用密集的波紋線表現(xiàn)出疤痕輪廓，背光部分則畫出輪廓線?？坎y線和放射線的聚攏表現(xiàn)打擊點和打擊方向。若波紋線不明顯，可以在圖外用箭頭示意打擊點和打擊方向。有的側(cè)視圖可以不畫波紋線和放射線。打制石器還有一種簡練畫法，即視圖上不繪波紋線和放射線，只用線描繪輪廓和疤痕輪廓。這種方法多用于作器形比較的論文中。502器身細部畫法在米格紙上選定測量基線，把直尺平置于器物上面51513附加剖視圖和旋轉(zhuǎn)剖面圖附加剖視圖表現(xiàn)器物界面形狀和內(nèi)部結(jié)構(gòu)。

注意事項剖視圖要放在正視圖剖切部位旁側(cè)，并標出剖切記號；除剖切面實體部分畫出外，其它能見到的部分也要畫出；剖面實體部分要畫上平行斜線或涂黑，否則會與側(cè)視圖不分。旋轉(zhuǎn)剖面圖在正視圖上把剖切面原位逆時針旋轉(zhuǎn)90°（底視），也就是把剖面畫在正視圖的剖切位置上。

注意事項剖面也要用斜線表示或涂黑。畫旋轉(zhuǎn)剖面要注意剖面的正確形狀。剖面大者不能用旋轉(zhuǎn)剖面表示。如果剖面有礙正視圖表現(xiàn)器物細節(jié)時，須改用附加剖視圖。523附加剖視圖和旋轉(zhuǎn)剖面圖附加剖視圖表現(xiàn)器物界面形狀和內(nèi)5353五、器物紋飾畫法①細致分析紋飾特點。

器物紋飾多樣，同類紋飾在不通器物上各有特點，同一器物不同部位所施的同類紋飾，有時也不一樣。這就需要細細揣摩，分析施紋工具特點、施紋程序、施紋方式、施紋布局、起筆落筆的先后輕重等。如果只粗枝大葉看看紋飾，是很難反映出紋飾個性的，也不能畫準，甚至畫錯。紋飾疊壓先后順序的分析，能看出紋飾形成的先后順序，因此，繪時要如實畫，不能草草而行。②紋飾還要注意投影變形。

與投影面平行的面和線，正投影時不變形；其它的面和線都變形?？脊牌魑锝^大多數(shù)不是方體的，紋飾圖也就普遍存在投影變形。繪紋樣時，先要用坐標法測出各控制點坐標，邊觀察邊由點連線。這時，一方面要根據(jù)正投影原理想象正投影后可能的形狀；一方面要變換角度位置，使視線與投影面垂直，以獲得正確的正投影圖形。③繪紋飾時，先把圖面區(qū)分好單元塊或紋飾帶范圍，在單元塊（或帶）內(nèi)繪紋樣。④要掌握一定的用筆技法，尤其是報告用圖。54五、器物紋飾畫法①細致分析紋飾特點。

器物紋飾多樣，同類紋飾555556565757六、展開圖畫法1畫出展開圖2在展開圖上繪紋飾58六、展開圖畫法1畫出展開圖581畫出展開圖圓柱形或棱柱形器物壁面展開為矩形。矩形寬等于柱體高，矩形長等于柱體截面周長。圓錐體表面展開為扇形。扇形半徑長是圓錐體的斜長。扇形頂角可由公式算出：扇形頂角＝圓錐體半徑：圓錐體斜長×360°圓臺是截圓錐形，展開方法與圓錐展開基本相同。具體畫法是：先畫出器物正視圖，得到一個梯形。延長梯形側(cè)邊，二者交于P點。頂角公式為：頂角＝AC：2：AP×360°多數(shù)器物表面是不能完全展開成平面的。球面曲度小的，可以畫近似展開圖，或分段展開；球面曲度大的，只能畫展開示意圖。591畫出展開圖圓柱形或棱柱形器物壁面展開為矩形。矩形寬等于柱60602在展開圖上畫紋飾

繪制紋飾的方法較多。把器物紋飾捶拓出拓片，把拓片上的紋飾繪在圖紙上?；虬凑归_后的形狀，剪一塊透明紙或塑料紙，蒙在器物上勾稿，然后以此作圖?；蛟谄魑锉砻嫔虾驼归_的圖形上，分出相應(yīng)的格網(wǎng)，然后按網(wǎng)格測點臨摹。紋樣簡單的，也可以用兩腳規(guī)分段找出幾個控制點，然后寫生臨摹。612在展開圖上畫紋飾繪制紋飾的方法較多。把器物七、用筆技法1器物圖的兩種表現(xiàn)方法2結(jié)構(gòu)關(guān)系的表現(xiàn)3明暗關(guān)系的表現(xiàn)4質(zhì)感的表現(xiàn)62七、用筆技法1器物圖的兩種表現(xiàn)方法621器物圖的兩種表現(xiàn)方法單線勾勒法用線條表現(xiàn)出器物的形體結(jié)構(gòu)，同時通過線條上的粗細、剛?cè)嶙兓瘜ζ魑锏馁|(zhì)感和明暗效果作出一定程度的表現(xiàn)。具有簡練、突出、明確、肯定的優(yōu)點。布點子畫法先用線條勾畫出器物的輪廓，再往圖上布點子，點子疏密形成不同的明暗層次，從而表現(xiàn)體面轉(zhuǎn)折與凹凸。布點子畫法的明暗退暈效果能增強器物圖的立體感和真實感，對于模糊不確定的物象更具較強的表現(xiàn)力。631器物圖的兩種表現(xiàn)方法單線勾勒法用線條表現(xiàn)出器物的形體2結(jié)構(gòu)關(guān)系的表現(xiàn)

為了體現(xiàn)器物的結(jié)構(gòu)關(guān)系，器物圖上的線條要有粗細的層次變化。一般外輪廓線用最粗線，中軸剖線為次粗線，剖面上的平行線為細線。折棱明顯者用實線，不明顯者用淡虛線。明顯折棱逐漸不明顯的，線條也要由實到虛，如足或耳與器物相接的過渡線，磨制石斧的刃面與體面的轉(zhuǎn)折線。三足器的前足用粗線，較遠的后足用略細的線。642結(jié)構(gòu)關(guān)系的表現(xiàn)為了體現(xiàn)器物的結(jié)構(gòu)關(guān)系，器物圖3明暗關(guān)系的表現(xiàn)受光的亮處線條輕細疏淡，背光的暗處線條粗重密濃。一般繪圖是以左上方為光源，凸起處下方右方重濃，凹陷處則是上方左方重濃。陶器上屬陰紋類的繩紋、方格紋、凹弦紋、指甲紋等是上重下細、左實右虛；陽文類的附加堆紋、乳釘紋、凸弦紋則相反。打制石器疤痕上的波紋線和放射線細微，受光的影像更大。放射線可用側(cè)鋒快速繪出。用點子表現(xiàn)明暗關(guān)系時，亮處點子稀疏，暗處點子密集。在體面轉(zhuǎn)折過渡圓緩處，用點子的疏密來表現(xiàn)，效果比用線好。653明暗關(guān)系的表現(xiàn)受光的亮處線條輕細疏淡，背光的暗處線條粗重4質(zhì)感的表現(xiàn)表面粗糙的器物，如陶器、鐵器、琢制的石器，畫輪廓線應(yīng)徒手進行，線條澀滯，運筆要慢。其上的壓印紋、刻劃紋也要徒手繪。而表面光滑的器物，如磨光石器、玉器、漆器、瓷器等宜使用光滑流暢的線條。畫直線時可使用直尺。筆尖正落紙上，中速運筆，線條粗細均勻。骨、角、蚌、木器要刻意畫其天然紋理，才能表現(xiàn)出質(zhì)感。如畫鹿角，要用扭曲鈍挫的線點畫出鹿角上的皺褶和凸起。畫蚌殼，要用細而疾馳的線條繪出波紋線。畫骨器要用斷續(xù)虛細的線條表示縱向紋理。石器的天然石皮和剝落的工作面要使用不同的處理方法加以區(qū)別。如用點子表示石皮，用波紋線、放射線表示剝落的工作面。用波紋線放射線的聚攏反映打擊點、打擊方向。664質(zhì)感的表現(xiàn)表面粗糙的器物，如陶器、鐵器、琢制的石器，畫輪第三章考古繪圖67第三章考古繪圖1第一節(jié)投影與視圖一、透視投影原理二、正投影原理三、視圖與視圖排列四、視圖之間相應(yīng)點的平面坐標對應(yīng)關(guān)系五、點、直線、平面的投影68第一節(jié)投影與視圖一、透視投影原理2一、透視投影原理透視投影假設(shè)在觀者和被畫物之間置一透明平面，觀者對被畫物上各點射出的視線與該平面相交，相交點構(gòu)成的圖形便是該物的透視投影。透視圖按透視投影原理繪成圖就是透視圖，其透明平面則稱為畫面?？脊爬L圖中使用使用很少，一般是作為正投影圖的補充，繪制建筑、洞室墓的結(jié)構(gòu)或細部構(gòu)件結(jié)構(gòu)，或遺址外景速寫；有時在調(diào)查時，因繪正投影圖條件不具備，也采用繪透視示意圖方法記錄一些遺存。透視圖畫法繪者要選好觀察角度，然后，被畫物體不要移動，觀者每次觀察的位置也要保持在一點上。要注意物體的比例、遠近、明暗、結(jié)構(gòu)的表現(xiàn)。69一、透視投影原理透視投影假設(shè)在觀者和被畫物之間置一透明平面二、正投影原理正投影、正投影圖平行光線通過被畫物體的各點垂直投射到一個假想平面上的影像，便是該物的正投影。按正投影原理繪制的圖叫正投影圖。假想平面叫投影面?？脊爬L圖中應(yīng)用正投影圖能直接量測出物體的尺寸，因而成為考古繪圖的基本條件。正投影圖繪制觀者必須不斷轉(zhuǎn)換眼睛的位置，使眼睛到該物體上各點的視線相互平行，并垂直于投影面，才能得到物體的正投影圖。實際繪圖時是在正投影原理指導(dǎo)下，根據(jù)實測的被畫物體尺寸繪制相應(yīng)比例的圖。畫出的圖與眼睛所望的透視影像并不完全相同。70二、正投影原理正投影、正投影圖平行光線通過被畫物體的各點垂正投影圖透視圖71正投影圖透視圖5726737五點、直線、平面的投影點

一個點的投影仍為一個點。兩個點：①不在垂直于投影面的一直線上，其投影為兩個點。②在垂直于投影面的一條直線上，則投影為一點。直線

一條直線：①直線垂直于投影面時，為一個點；②直線不垂直于投影面時，仍為直線。平行兩直線：①在一般情況下，其投影仍為平行兩直線；②同時垂直于投影面時，投影是兩個點；③不垂直于投影面，但其所在的平面垂直于投影面時，其投

影為一條直線。一線段：①平行于投影面時，投影長度等于實長；②一線段垂直于投影面時，其投影為一點；③即不平行，又不垂直于投影面的線段，投影小于實長。平面

①在一般情況下仍顯示為面；②當平面垂直于投影面時，投影為一直線。③圖形平面若平行于投影面時，投影形狀與原圖形完全一樣；④若圖形平面不平行于投影面，其投影形狀與原圖形即不完全一樣，而產(chǎn)生投影變形。74五點、直線、平面的投影點一個點的投影仍為一第二節(jié)田野發(fā)掘繪圖一、田野發(fā)掘繪圖的基本要求二、遺跡圖

1平面圖

2剖面圖

3遺跡圖錯誤分析三、探方圖

1分層平面圖

2探方總平面圖

3探方四壁剖面圖75第二節(jié)田野發(fā)掘繪圖一、田野發(fā)掘繪圖的基本要求9一、田野發(fā)掘繪圖的一般要求田野發(fā)掘繪圖主要有遺址圖、發(fā)掘區(qū)圖、探方圖、遺跡圖。發(fā)掘工地的負責人必須具備一定的考古繪圖知識，在作業(yè)期間逐一審查田野繪圖，給予必要的技術(shù)指導(dǎo)，把好質(zhì)量關(guān)。圖面布局發(fā)掘繪圖一般繪在米格紙上。把圖放在圖紙的中上部，平面圖上的指北針要放在右上角。把圖號、圖名、比例、繪者和日期放入圖的右下部。文字、說明、圖例放在左下部。76一、田野發(fā)掘繪圖的一般要求田野發(fā)掘繪圖主要有遺址圖、發(fā)掘區(qū)圖7711二.1遺跡平面圖表現(xiàn)內(nèi)容比例1：20繪制方法78二.1遺跡平面圖表現(xiàn)內(nèi)容12表現(xiàn)內(nèi)容遺跡平面圖的兩種類型

頂視圖即遺跡在水平投影面上的正投影圖形，用以表現(xiàn)沒有或現(xiàn)今沒有蓋（頂）的遺跡，如灰坑、土坑豎穴墓、半地穴式房址的平面圖。

把遺跡做水平剖切后的剖視圖即假想去掉遺跡的蓋（頂）后，剩余部分在水平投影面上的正投影圖形，如磚室墓平面圖、石棺墓平面圖。繪制內(nèi)容

遺跡輪廓、遺跡內(nèi)細節(jié)（如龕、灶、臺階、柱洞）、遺跡內(nèi)可能有布局意義的遺物。注意事項

在正投影時，如果是被遮擋的隱蔽部分，要用虛線表示。有蓋（頂）的遺跡，其平面圖中剖割面的實體部分用特殊的圖例（如涂黑、間距相等的平行斜線）與其它部分分開。79表現(xiàn)內(nèi)容遺跡平面圖的兩種類型13801481158216繪制方法（坐標法）（1）定基線。在遺跡縱軸位置拉基線，作為測量時坐標系的y軸或x軸。附上皮尺。（2）測繪出輪廓線。測點、由點連線，繪出圖形。眼睛所見的是透視圖形，還必須想象遺跡正投影時的形狀，才能畫準。（3）測繪內(nèi)部細節(jié)。（4）測繪遺物。觀察器物形狀時，要用眼從器物上方垂直往下看，才能獲得正確的圖形。（5）作注記和說明。器物、骨架的圖上編號與實際編號的對應(yīng)關(guān)系。（6）標出剖口線符號。（7）標方向。夾角法標方向：用羅盤測出基線和指北針的夾角，然后用量角器在圖上標出指北箭頭。邊框法標方向：把圖紙放在基線下，令圖上基線與實際基線重合，再把方形邊框羅盤放在圖紙上，使磁針指向N，沿邊框畫出指北箭頭。（8）寫上圖號、圖名、比例、繪者、日期。復(fù)雜難繪的遺跡，要使測量的坐標值準確，可以使用方格網(wǎng)法。如測繪骨架，用預(yù)制的方格網(wǎng)（在方形木框內(nèi)拉上間距相等的縱橫線）罩在骨架上，按小網(wǎng)格測繪。83繪制方法（坐標法）（1）定基線。在遺跡縱軸位置拉基線，作為測8418二.2遺跡剖面圖剖面圖的三種類型

（1）遺跡堆積剖面圖

反映出坑內(nèi)各層堆積的立面狀況，而坑的剖面輪廓線又反映出坑穴的形狀和尺寸。

（2）遺跡剖面圖

只畫遺跡在剖切面上的圖形，表現(xiàn)出遺跡在假想剖切面處的深度、形狀、結(jié)構(gòu)和尺寸。

（3）遺跡剖視圖

不但畫出在假想剖切面處的圖形還畫出遺跡被剖切后看到的內(nèi)部狀況。磚室墓都用剖視圖畫法。85二.2遺跡剖面圖剖面圖的三種類型

（1）遺跡堆積剖面圖

二.2遺跡剖面圖繪圖手法

白描法

只憑借線條表現(xiàn)遺跡形狀和堆積的層次。

圖例法

對剖面實體部分使用特殊符號（如斜線、涂黑、點子），而使圖面增加空間感和質(zhì)感。86二.2遺跡剖面圖繪圖手法

白描法只憑借線條表現(xiàn)遺跡二.2遺跡剖面圖注意事項

①為便于平剖面圖對照，一張圖紙能容納下平面圖和剖面圖的，就應(yīng)該把剖面圖放在平面圖之下，或某一側(cè)，相對應(yīng)的點線盡量對齊。剖面圖的比例和平面圖的比例相同。一個或一種剖面圖不能滿足需要，就要繪幾個或幾種剖面圖。②選擇剖切位置要考慮到剖面反映的形狀能使別人得到關(guān)于遺跡的正確理解，一個剖面要反映較多的內(nèi)容。在剖切位置上拉基線，有的可以和平面圖共用基線。使用坐標法繪圖。

③遺跡解剖時，要注意及時補繪剖面圖。87二.2遺跡剖面圖218822二.3常見遺跡圖錯誤分析（1）對遺跡理解認識不足，從而產(chǎn)生漏畫和錯畫。（2）沒有實測或?qū)嶋H觀察形狀，想當然地畫出遺跡的某一部分，造成錯畫。（3）沒有掌握正投影原理，不能預(yù)見自己所要表現(xiàn)的對象畫出后應(yīng)是什么樣，畫錯了也覺察不到。（4）表現(xiàn)方式不當。（5）測量、換算的差錯。繪完圖要檢查。（6）工作粗糙，不認真。如平面圖缺指北方向，沒有剖口線，漏寫比例，目測粗畫。（7）遺跡解剖后，沒有把解剖部分補畫上。89二.3常見遺跡圖錯誤分析（1）對遺跡理解認識不足，從而產(chǎn)生90249125三.1探方分層平面圖繪制內(nèi)容

每幅圖應(yīng)繪有探方邊框線、擴方邊框線、隔梁邊線、遺跡輪廓線。遺跡內(nèi)的細節(jié)可以適當簡化遺跡畫法

開口于哪層下的遺跡，就歸入哪層下的平面圖中。如果開口在某一遺跡下，其歸屬同于打破它的遺跡。遺跡輪廓線在投影時被遮擋部分要用虛線表示出來。如袋狀坑的底輪廓線就要用虛線表示。遺跡被非同層的遺跡打破時，若不畫打破者就不能合理表現(xiàn)被打破的遺跡，這時就要畫出，并注明打破者屬于上層下遺跡。若不影響，則可不畫出。92三.1探方分層平面圖繪制內(nèi)容

每幅圖應(yīng)繪有探方邊框線、擴方9327三.1探方分層平面圖繪制步驟

繪圖時先把探方邊框線、隔梁線、擴方線繪出，再繪出指北箭頭，寫上圖號、圖名、比例、日期、繪者。每發(fā)掘一個遺跡就畫一個，把同一層面的所有遺跡發(fā)掘完，圖才能畫完。探方分層平面圖也是用坐標法測繪的。探方很淺時，以探方西南角為基點，南邊線為x軸，西邊線為y軸進行測繪。探方稍深后，需要把測量基線移至探方底部。在探方四邊線上，距探方角整米數(shù)點插下鐵釬子。每當要測量時，把需要的兩個相對鐵釬掛上線繩，然后用垂球把該線移到探方底，并量出探方底內(nèi)縮的長度。把皮尺附在探方底的基線上，尺端應(yīng)留出壁內(nèi)縮的長度。有些測點離基線較遠，為了保證測量精度，可以用上法再設(shè)一條基線并附上皮尺。測量時只要皮尺經(jīng)過兩個基線上皮尺相同的數(shù)字點，就能保證測尺與基線垂直，測出的數(shù)字也就精確了。其它測繪步驟和要求可參考遺跡平面圖的測繪。94三.1探方分層平面圖繪制步驟

繪圖時先把探方邊框9529三.2探方總平面圖探方總平面圖是在探方發(fā)掘完后，根據(jù)分層圖繪制而成。簡潔的辦法是把各層圖透繪在一張圖紙上即成，透繪時切不可把方向弄錯。上下層遺跡在投影時發(fā)生重疊的，下層遺跡被遮擋的部分要畫成虛線。在遺跡繁多的情況下，可以采用靈活的辦法來增加圖面反映同一文化（或同一層面）遺跡布局的表現(xiàn)力。如不同文化（或不同層面）的遺跡，可使用不同顏色的線，或使用粗細不同的線。由于探方總平面圖重在表現(xiàn)所有遺跡的相對位置，遺跡結(jié)構(gòu)上的細節(jié)和遺物布局可以少表現(xiàn)或者不表現(xiàn)。否則遺跡很多或結(jié)構(gòu)復(fù)雜，會使畫面繁亂，主次不清。96三.2探方總平面圖探方總平面圖是在探方發(fā)掘完后，根據(jù)分層圖三.3探方四壁剖面圖繪制目的

表現(xiàn)探方堆積狀況和層位關(guān)系。排列

為了便于本探方四壁剖面圖的拼對，一般是把南壁和北壁圖放在一張圖紙上，東壁和西壁圖放在一張圖紙上。繪圖時要面向探方壁繪圖，切不可弄反。圖兩端要標出東、南、西、北，圖下注明是哪個壁。探方四壁剖面圖表現(xiàn)手法

白描畫法它具有統(tǒng)一整齊、易于改動、簡單易畫、省時省工的優(yōu)點，宜廣泛使用。

完全圖例畫法各地層和遺跡堆積分別用不同的圖例表示的，具有很強的反映諸堆積質(zhì)感差別的表現(xiàn)力，最適合報告插圖。

部分圖例畫法對特殊部分使用圖例，因而運用靈活，增強圖面的質(zhì)感差別。如地層用圖例，遺跡不用；生土層用圖例，其它地層和遺跡不用等。繪制要求

淺探方的基線可設(shè)在地表，深探方的基線要設(shè)在腰部，以便測量?；€一定要水平。使用垂球吊線測量各測點。利用坐標法測繪。97三.3探方四壁剖面圖繪制目的

表現(xiàn)探方堆積狀況和層位關(guān)9832第三節(jié)室內(nèi)器物繪圖一、普通器物的畫法二、三足器的畫法三、器物殘片的畫法四、工具、武器等實心物體的畫法五、器物紋飾畫法六、展開圖畫法七、用筆技法99第三節(jié)室內(nèi)器物繪圖一、普通器物的畫法33一、普通容器的畫法1畫面布局

普通容器的器物圖是右半部分畫正視圖，左半部分畫剖視圖；使右半部分表現(xiàn)器物外表面細節(jié)，左半部分表現(xiàn)器壁剖面及器物內(nèi)表面細節(jié)。一般是圓底圓口器省去頂視圖和底視圖。一般形制簡單的器物只畫一幅就夠了。復(fù)雜的，需要幾個視圖，增加剖面；有的還要進行隱剖、折線剖等方法。100一、普通容器的畫法1畫面布局

普通容器的器物圖10135一、普通容器的畫法2測繪方法

坐標法

擺放用米格紙自制同心圓一張。同心圓中過圓心的十字格線AO、CO作為剖視圖的剖切線。把器物正放在同心圓紙上，令器物中軸線通過圓心。器物擺放位置不同，繪出器形不一樣，要認真選好適當位置，擺好后不再移動。

測量把三角尺直立在同心圓紙上，使短直邊貼在紙面上。三角尺的長直邊是測量的y軸，與長直邊相交的橫格線是x軸，二者相交點是xy坐標系原點。xy所在平面是xy坐標面。當三角尺不動時，可以測出xy坐標面上各點的縱橫坐標。當測點不在xy坐標面上時，要前后沿縱格線移動直立的三角尺。這時的圖上y軸位置沒有改變。有時為了測量方便，要沿橫格線左右移動，這時圖上y軸位置發(fā)生改變，需要重新確定y軸所在的格線。使用兩腳規(guī)測量時，其一腳尖頂在三角尺直邊上，一腳尖頂在測點上（兩腳尖要端平持正），那么，兩腳尖距離是橫坐標，腳尖到同心圓紙面的距離是縱坐標。

①一般先量口徑、底徑、通高，畫器物框架。選擇測點（轉(zhuǎn)折點、最凸點、最凹點），測繪外輪廓線。由點連線時要把握好轉(zhuǎn)折處的鈍銳和曲線的凹凸程度。測繪完一側(cè)時，再移尺測另一側(cè)，器形不對稱時不可對折復(fù)印。

②測出沿、壁、底的厚度，畫出剖面。壁厚可用彎腳卡尺測。難以測量壁厚的復(fù)原器，可以修復(fù)前或修復(fù)過程中測量壁厚度。

③無法測量部分，內(nèi)壁線用虛線畫。平底器的通高減去內(nèi)腹高就是底厚（內(nèi)服高度用直尺豎入可測）。

④測繪內(nèi)外表面的轉(zhuǎn)折線、耳，再繪紋飾、打磨痕、溝槽等細部特征。

⑤剖面繪平行等距斜線，或者全部涂黑，以與其它部分區(qū)別。102一、普通容器的畫法2測繪方法

坐標法

擺放用米格紙1033710438二、三足器的畫法1鼎的畫法

畫鼎一定要注意鼎足與鼎身的遮擋關(guān)系和器物形象的完整性。鼎有三種擺法，繪出的圖也不一樣。把鼎正放在同心圓上，使鼎身的中心軸線通過圓心。

第一種擺法是一足在左，兩足在右，繪出的圖有不穩(wěn)重感，但半剖視圖切到左邊的足，能很好的展示身足的關(guān)系。其右側(cè)前足是遮擋鼎身輪廓線的。

第二種擺法是一足在前，兩足在后。畫出的圖有穩(wěn)定感；但半剖視圖不能剖切到鼎足。應(yīng)注意，前足遮擋了鼎身輪廓線，鼎身又遮住了后兩足。

第三種擺法是兩足在前，一足在后。這種擺法有兩種畫法：①半剖視圖，即把同心圓十字線等分的前1/4部分全部剖掉，把剖掉的足、耳附件用虛線繪出。②鼎身剖視，足不剖掉。前足遮擋了鼎身，鼎身遮擋了后足。105二、三足器的畫法1鼎的畫法

畫鼎一定要注意10640二、三足器的畫法1鬲與鬹的畫法

畫鬲時，鬲的擺放方式也有兩種：①兩足在前，一足在后。②兩足在左，一足在右。后者多用于有流、有把手的三足器，或三足尖連線為等腰三角形的三足器。

輪廓線用豎立的三角板沿縱向基線前后移動，測量出外輪廓上關(guān)鍵點的坐標，由點連線即成。鬲襠心的高度用兩腳規(guī)測得。鬲剖面線畫法是沿鬲的輪廓線測量厚度，然后在外輪廓線的里側(cè)按實際厚度畫出剖面壁的內(nèi)側(cè)線。因此，鬲的剖面是按照鬲外輪廓線剖切，而不是垂直剖切。剖切面的形狀大小都十分靈活，也可以采用隱剖形式。

鬲的足與足連接處為襠，外表面的凹陷稱襠溝，內(nèi)表面的凸起稱襠隔。襠溝線叫外襠線，襠隔線叫內(nèi)襠線。外襠線測點坐標可以直接測出，連點即為襠線；內(nèi)襠線則是把外襠線向內(nèi)移動一個壁厚得到的。注意，隱剖時，用虛線畫出的襠線是外襠線。107二、三足器的畫法1鬲與鬹的畫法

畫鬲時，鬲的10842三、器物殘片的畫法1附加剖面畫法2復(fù)原畫法109三、器物殘片的畫法43附加剖面畫法附加剖面畫法

先畫出陶片正視圖，在正視圖旁側(cè)加一幅剖面圖。注意事項

1附加剖面畫法的剖面圖一般放在正視圖左側(cè)。

2剖面所示的器物里外方向必須與完整器物的器物圖相應(yīng)部位剖面的里外方向一致，不能畫反。

3畫出的剖面能準確反映該陶片在原完整器上的傾斜度，不可歪斜。因此，畫時須把陶片擺正，再進行觀測。平口器物的口沿殘片，可以倒放在同心圓米格紙上，使口沿與紙面密合。器腹片和底片要正放。一般來說，當輪修痕跡、規(guī)整的弦紋、能水平繞器一周的各種折棱線（底折線、肩、頸折線）所在的平面處于水平狀態(tài)時，陶片也就擺正了。110附加剖面畫法附加剖面畫法

先畫出陶片正視圖，在正視圖旁側(cè)加一11145復(fù)原畫法復(fù)原畫法

根據(jù)陶器殘片進行局部復(fù)原的畫法。復(fù)原圖能反映出器物的部分形狀和大小，但是，古人有意毀器形成的殘缺是不能采用復(fù)原畫法繪圖。繪制步驟

口沿殘片繪圖時，把陶片倒放在同心圓米格紙上，使口沿立穩(wěn)，然后平行移動口沿，使口沿與某一圓周重合，得出陶片的口徑。殘器底正放在同心圓上，也可求出底徑。把三角尺直立在同心圓上，測繪了陶片的輪廓線和剖面，再繪出相應(yīng)的紋飾。陶片正視部分可以放在中間。也可放在右邊部。有口有底，中間缺失的部分可參考其它完整器用虛線連接。注意事項

不能復(fù)原或沒有把握復(fù)原的陶片就不要使用復(fù)原畫法。112復(fù)原畫法復(fù)原畫法

根據(jù)陶器殘片進行局部復(fù)原的畫法。復(fù)原圖能11347四、工具武器等實心物體的畫法1外輪廓線畫法2器身細部畫法3附加剖視圖和旋轉(zhuǎn)剖面圖114四、工具武器等實心物體的畫法1外輪廓線畫法48外輪廓線畫法可以畫成1∶1的小型器物，直接把器物放在圖紙上，用筆勾勒正投影的外輪廓線。把三角尺直立在圖紙上，令直立的長邊靠在器物邊緣上的測點，則在圖紙上得到測點的垂直投影點。由點連線就得到外輪廓線。造型極不規(guī)則的打制石器，可以自制一個繪圖儀。把三角尺去掉直角，綁上劈開的鉛筆，使筆尖位于兩直邊的交點上。使用此儀沿器物周邊滑行，即可得到外輪廓線。要畫成其它比例的器物，可以按上述方法畫出1：1的外輪廓線，再按比例縮繪。或者，在器物之下放一米格紙，選出一條格線為測量基線，任選基線上的一點為基點。用上述方法把測點垂直投到米格紙上，從而得到測點的坐標值。在繪圖紙上（另一張米格紙）用坐標法繪出各測點，由點連線。側(cè)視圖也可用此法115外輪廓線畫法可以畫成1∶1的小型器物，直接把器物放在圖紙上，2器身細部畫法在米格紙上選定測量基線，把直尺平置于器物上面，使尺邊與基線重合，便可測量出直尺邊沿所通過的測點坐標，以及附近測點的坐標。測點多者可多選幾條基線。以方便準確為準則，可靈活測量。然后依觀察勾繪出細部。輪廓線內(nèi)畫哪些線，需觀察實物表面呈現(xiàn)哪些棱線。棱線銳者，一定要用線繪出。棱線鈍者，可以不畫線，或用斷續(xù)的虛線表示，或用點子筆法來表現(xiàn)。器物上的制作痕跡和使用痕跡能見到的均應(yīng)繪出。如磨制石鏟，安柄部常留下鋸割痕，刃緣有使用碰壞的殘疤痕。體表的制作與使用的磨蝕痕也是重要特征，盡量反映出來。打制石器疤痕多，形狀不規(guī)則，但是疤痕是研究制作與使用的重要圖形資料，必須如實畫出，要反映出打擊點、打擊方向、打擊次序等特征。疤痕畫法是，用適當粗細線勾出輪廓，內(nèi)繪放射線和波狀線；或者亮部不畫輪廓線，而用密集的波紋線表現(xiàn)出疤痕輪廓，背光部分則畫出輪廓線?？坎y線和放射線的聚攏表現(xiàn)打擊點和打擊方向。若波紋線不明顯，可以在圖外用箭頭示意打擊點和打擊方向。有的側(cè)視圖可以不畫波紋線和放射線。打制石器還有一種簡練畫法，即視圖上不繪波紋線和放射線，只用線描繪輪廓和疤痕輪廓。這種方法多用于作器形比較的論文中。1162器身細部畫法在米格紙上選定測量基線，把直尺平置于器物上面117513附加剖視圖和旋轉(zhuǎn)剖面圖附加剖視圖表現(xiàn)器物界面形狀和內(nèi)部結(jié)構(gòu)。

注意事項剖視圖要放在正視圖剖切部位旁側(cè)，并標出剖切記號；除剖切面實體部分畫出外，其它能見到的部分也要畫出；剖面實體部分要畫上平行斜線或涂黑，否則會與側(cè)視圖不分。旋轉(zhuǎn)剖面圖在正視圖上把剖切面原位逆時針旋轉(zhuǎn)90°（底視），也就是把剖面畫在正視圖的剖切位置上。

注意事項剖面也要用斜線表示或涂黑。畫旋轉(zhuǎn)剖面要注意剖面的正確形狀。剖面大者不能用旋轉(zhuǎn)剖面表