電子技術(shù)基礎(chǔ)(模擬部分)第五版_第3章_康華光_第1頁
電子技術(shù)基礎(chǔ)(模擬部分)第五版_第3章_康華光_第2頁
電子技術(shù)基礎(chǔ)(模擬部分)第五版_第3章_康華光_第3頁
電子技術(shù)基礎(chǔ)(模擬部分)第五版_第3章_康華光_第4頁
電子技術(shù)基礎(chǔ)(模擬部分)第五版_第3章_康華光_第5頁
已閱讀5頁,還剩46頁未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進(jìn)行舉報或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡介

物質(zhì)按導(dǎo)電能力分導(dǎo)體半導(dǎo)體絕緣體元素半導(dǎo)體化合物半導(dǎo)體如砷化鎵GaAs硅Si鍺Ge1、半導(dǎo)體材料、半導(dǎo)體材料硅和鍺的原子結(jié)構(gòu)簡化模型及晶體結(jié)構(gòu)硅和鍺的原子結(jié)構(gòu)簡化模型及晶體結(jié)構(gòu)硅和鍺晶體硅和鍺晶體的空間排列的空間排列+3+3受主離子受主離子+5+5施主離子施主離子PN結(jié)的正向伏安特性iD=IS(eVD/VT-1)其中,VT為溫度的電壓當(dāng)量。300K時,約為26mV。(a)(a)點(diǎn)接觸型點(diǎn)接觸型 二極管的結(jié)構(gòu)示意圖二極管的結(jié)構(gòu)示意圖1、點(diǎn)接觸型二極管:(b)(b)面接觸型面接觸型 0 D/V0.2 0.4 0.6 0.8 10 20 30 405101520 10 20 30 40iD/ AiD/mA死區(qū)死區(qū)VthVBR硅二極管硅二極管2CP102CP10的的V V- -I I 特性特性0 D/V0.2 0.4 0.6 20 40 605101520 10 20 30 40iD/ AiD/mAVthVBR鍺二極管鍺二極管2AP152AP15的的V V- -I I 特性特性正向特性反向特性反向擊穿特性 1. 理想模型 2. 恒壓降模型(a)符號符號(b) 伏安

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網(wǎng)僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論