考古繪圖（課堂PPT）

1、1第三章 考古繪圖2第一節(jié) 投影與視圖一、透視投影原理二、正投影原理三、視圖與視圖排列四、視圖之間相應(yīng)點(diǎn)的平面坐標(biāo)對(duì)應(yīng)關(guān)系五、點(diǎn)、直線、平面的投影3一、透視投影原理透視投影 假設(shè)在觀者和被畫物之間置一透明平面，觀者對(duì)被畫物上各點(diǎn)射出的視線與該平面相交，相交點(diǎn)構(gòu)成的圖形便是該物的透視投影。透視圖 按透視投影原理繪成圖就是透視圖，其透明平面則稱為畫面?？脊爬L圖中使用 使用很少，一般是作為正投影圖的補(bǔ)充，繪制建筑、洞室墓的結(jié)構(gòu)或細(xì)部構(gòu)件結(jié)構(gòu)，或遺址外景速寫；有時(shí)在調(diào)查時(shí)，因繪正投影圖條件不具備，也采用繪透視示意圖方法記錄一些遺存。透視圖畫法 繪者要選好觀察角度，然后，被畫物體不要移動(dòng)，觀者每次觀察的

2、位置也要保持在一點(diǎn)上。要注意物體的比例、遠(yuǎn)近、明暗、結(jié)構(gòu)的表現(xiàn)。4二、正投影原理正投影、正投影圖 平行光線通過(guò)被畫物體的各點(diǎn)垂直投射到一個(gè)假想平面上的影像，便是該物的正投影。按正投影原理繪制的圖叫正投影圖。假想平面叫投影面?？脊爬L圖中應(yīng)用 正投影圖能直接量測(cè)出物體的尺寸，因而成為考古繪圖的基本條件。正投影圖繪制 觀者必須不斷轉(zhuǎn)換眼睛的位置，使眼睛到該物體上各點(diǎn)的視線相互平行，并垂直于投影面，才能得到物體的正投影圖。實(shí)際繪圖時(shí)是在正投影原理指導(dǎo)下，根據(jù)實(shí)測(cè)的被畫物體尺寸繪制相應(yīng)比例的圖。畫出的圖與眼睛所望的透視影像并不完全相同。5正投影圖透視圖678五 點(diǎn)、直線、平面的投影點(diǎn) 一個(gè)點(diǎn)的投影仍為一

3、個(gè)點(diǎn)。 兩個(gè)點(diǎn)： 不在垂直于投影面的一直線上，其投影為兩個(gè)點(diǎn)。 在垂直于投影面的一條直線上，則投影為一點(diǎn)。直線 一條直線： 直線垂直于投影面時(shí)，為一個(gè)點(diǎn)； 直線不垂直于投影面時(shí)，仍為直線。 平行兩直線： 在一般情況下，其投影仍為平行兩直線； 同時(shí)垂直于投影面時(shí)，投影是兩個(gè)點(diǎn)； 不垂直于投影面，但其所在的平面垂直于投影面時(shí)，其投 影為一條直線。 一線段： 平行于投影面時(shí)，投影長(zhǎng)度等于實(shí)長(zhǎng)； 一線段垂直于投影面時(shí)，其投影為一點(diǎn)； 即不平行，又不垂直于投影面的線段，投影小于實(shí)長(zhǎng)。平面 在一般情況下仍顯示為面； 當(dāng)平面垂直于投影面時(shí)，投影為一直線。 圖形平面若平行于投影面時(shí)，投影形狀與原圖形完全一樣；

4、 若圖形平面不平行于投影面，其投影形狀與原圖形即不完全一樣，而產(chǎn) 生投影變形。9第二節(jié) 田野發(fā)掘繪圖一、田野發(fā)掘繪圖的基本要求二、遺跡圖 1 平面圖 2 剖面圖 3 遺跡圖錯(cuò)誤分析三、探方圖 1 分層平面圖 2 探方總平面圖 3 探方四壁剖面圖10一、田野發(fā)掘繪圖的一般要求田野發(fā)掘繪圖主要有遺址圖、發(fā)掘區(qū)圖、探方圖、遺跡圖。發(fā)掘工地的負(fù)責(zé)人必須具備一定的考古繪圖知識(shí)，在作業(yè)期間逐一審查田野繪圖，給予必要的技術(shù)指導(dǎo)，把好質(zhì)量關(guān)。圖面布局 發(fā)掘繪圖一般繪在米格紙上。把圖放在圖紙的中上部，平面圖上的指北針要放在右上角。把圖號(hào)、圖名、比例、繪者和日期放入圖的右下部。文字、說(shuō)明、圖例放在左下部。1112

5、二.1 遺跡平面圖表現(xiàn)內(nèi)容比例 1：20繪制方法13表現(xiàn)內(nèi)容遺跡平面圖的兩種類型 頂視圖 即遺跡在水平投影面上的正投影圖形，用以表現(xiàn)沒有或現(xiàn)今沒有蓋（頂）的遺跡，如灰坑、土坑豎穴墓、半地穴式房址的平面圖。 把遺跡做水平剖切后的剖視圖 即假想去掉遺跡的蓋（頂）后，剩余部分在水平投影面上的正投影圖形，如磚室墓平面圖、石棺墓平面圖。繪制內(nèi)容 遺跡輪廓、遺跡內(nèi)細(xì)節(jié)（如龕、灶、臺(tái)階、柱洞）、遺跡內(nèi)可能有布局意義的遺物。注意事項(xiàng) 在正投影時(shí)，如果是被遮擋的隱蔽部分，要用虛線表示。有蓋（頂）的遺跡，其平面圖中剖割面的實(shí)體部分用特殊的圖例（如涂黑、間距相等的平行斜線）與其它部分分開。14151617繪制方法（

6、坐標(biāo)法）（1）定基線。在遺跡縱軸位置拉基線，作為測(cè)量時(shí)坐標(biāo)系的y軸或x軸。附上皮尺。（2）測(cè)繪出輪廓線。測(cè)點(diǎn)、由點(diǎn)連線，繪出圖形。眼睛所見的是透視圖形，還必須想象遺跡正投影時(shí)的形狀，才能畫準(zhǔn)。（3）測(cè)繪內(nèi)部細(xì)節(jié)。（4）測(cè)繪遺物。觀察器物形狀時(shí)，要用眼從器物上方垂直往下看，才能獲得正確的圖形。（5）作注記和說(shuō)明。器物、骨架的圖上編號(hào)與實(shí)際編號(hào)的對(duì)應(yīng)關(guān)系。（6）標(biāo)出剖口線符號(hào)。（7）標(biāo)方向。夾角法標(biāo)方向：用羅盤測(cè)出基線和指北針的夾角，然后用量角器在圖上標(biāo)出指北箭頭。邊框法標(biāo)方向：把圖紙放在基線下，令圖上基線與實(shí)際基線重合，再把方形邊框羅盤放在圖紙上，使磁針指向N，沿邊框畫出指北箭頭。（8）寫上圖號(hào)

7、、圖名、比例、繪者、日期。復(fù)雜難繪的遺跡，要使測(cè)量的坐標(biāo)值準(zhǔn)確，可以使用方格網(wǎng)法。如測(cè)繪骨架，用預(yù)制的方格網(wǎng)（在方形木框內(nèi)拉上間距相等的縱橫線）罩在骨架上，按小網(wǎng)格測(cè)繪。1819二.2 遺跡剖面圖剖面圖的三種類型（1）遺跡堆積剖面圖 反映出坑內(nèi)各層堆積的立面狀況，而坑的剖面輪廓線又反映出坑穴的形狀和尺寸。（2）遺跡剖面圖 只畫遺跡在剖切面上的圖形，表現(xiàn)出遺跡在假想剖切面處的深度、形狀、結(jié)構(gòu)和尺寸。 （3）遺跡剖視圖 不但畫出在假想剖切面處的圖形還畫出遺跡被剖切后看到的內(nèi)部狀況。磚室墓都用剖視圖畫法。 20二.2 遺跡剖面圖繪圖手法白描法 只憑借線條表現(xiàn)遺跡形狀和堆積的層次。圖例法 對(duì)剖面實(shí)體部

8、分使用特殊符號(hào)（如斜線、涂黑、點(diǎn)子），而使圖面增加空間感和質(zhì)感。 21二.2 遺跡剖面圖注意事項(xiàng) 為便于平剖面圖對(duì)照，一張圖紙能容納下平面圖 和剖面圖的，就應(yīng)該把剖面圖放在平面圖之下，或某一側(cè)，相對(duì)應(yīng)的點(diǎn)線盡量對(duì)齊。剖面圖的比例和平面圖的比例相同。一個(gè)或一種剖面圖不能滿足需要，就要繪幾個(gè)或幾種剖面圖。 選擇剖切位置要考慮到剖面反映的形狀能使別人得到關(guān)于遺跡的正確理解，一個(gè)剖面要反映較多的內(nèi)容。在剖切位置上拉基線，有的可以和平面圖共用基線。使用坐標(biāo)法繪圖。 遺跡解剖時(shí)，要注意及時(shí)補(bǔ)繪剖面圖。2223二.3 常見遺跡圖錯(cuò)誤分析（1）對(duì)遺跡理解認(rèn)識(shí)不足，從而產(chǎn)生漏畫和錯(cuò)畫。（2）沒有實(shí)測(cè)或?qū)嶋H觀察形

9、狀，想當(dāng)然地畫出遺跡的某一部分，造成錯(cuò)畫。（3）沒有掌握正投影原理，不能預(yù)見自己所要表現(xiàn)的對(duì)象畫出后應(yīng)是什么樣，畫錯(cuò)了也覺察不到。（4）表現(xiàn)方式不當(dāng)。（5）測(cè)量、換算的差錯(cuò)。繪完圖要檢查。（6）工作粗糙，不認(rèn)真。如平面圖缺指北方向，沒有剖口線，漏寫比例，目測(cè)粗畫。（7）遺跡解剖后，沒有把解剖部分補(bǔ)畫上。242526三.1 探方分層平面圖繪制內(nèi)容每幅圖應(yīng)繪有探方邊框線、擴(kuò)方邊框線、隔梁邊線、遺跡輪廓線。遺跡內(nèi)的細(xì)節(jié)可以適當(dāng)簡(jiǎn)化遺跡畫法開口于哪層下的遺跡，就歸入哪層下的平面圖中。如果開口在某一遺跡下，其歸屬同于打破它的遺跡。遺跡輪廓線在投影時(shí)被遮擋部分要用虛線表示出來(lái)。如袋狀坑的底輪廓線就要用虛線

10、表示。遺跡被非同層的遺跡打破時(shí)，若不畫打破者就不能合理表現(xiàn)被打破的遺跡，這時(shí)就要畫出，并注明打破者屬于上層下遺跡。若不影響，則可不畫出。2728三.1 探方分層平面圖繪制步驟 繪圖時(shí)先把探方邊框線、隔梁線、擴(kuò)方線繪出，再繪出指北箭頭，寫上圖號(hào)、圖名、比例、日期、繪者。每發(fā)掘一個(gè)遺跡就畫一個(gè)，把同一層面的所有遺跡發(fā)掘完，圖才能畫完。探方分層平面圖也是用坐標(biāo)法測(cè)繪的。探方很淺時(shí)，以探方西南角為基點(diǎn)，南邊線為x軸，西邊線為y軸進(jìn)行測(cè)繪。探方稍深后，需要把測(cè)量基線移至探方底部。在探方四邊線上，距探方角整米數(shù)點(diǎn)插下鐵釬子。每當(dāng)要測(cè)量時(shí)，把需要的兩個(gè)相對(duì)鐵釬掛上線繩，然后用垂球把該線移到探方底，并量出探方

11、底內(nèi)縮的長(zhǎng)度。把皮尺附在探方底的基線上，尺端應(yīng)留出壁內(nèi)縮的長(zhǎng)度。有些測(cè)點(diǎn)離基線較遠(yuǎn)，為了保證測(cè)量精度，可以用上法再設(shè)一條基線并附上皮尺。測(cè)量時(shí)只要皮尺經(jīng)過(guò)兩個(gè)基線上皮尺相同的數(shù)字點(diǎn)，就能保證測(cè)尺與基線垂直，測(cè)出的數(shù)字也就精確了。其它測(cè)繪步驟和要求可參考遺跡平面圖的測(cè)繪。2930三.2 探方總平面圖探方總平面圖是在探方發(fā)掘完后，根據(jù)分層圖繪制而成。簡(jiǎn)潔的辦法是把各層圖透繪在一張圖紙上即成，透繪時(shí)切不可把方向弄錯(cuò)。上下層遺跡在投影時(shí)發(fā)生重疊的，下層遺跡被遮擋的部分要畫成虛線。在遺跡繁多的情況下，可以采用靈活的辦法來(lái)增加圖面反映同一文化（或同一層面）遺跡布局的表現(xiàn)力。如不同文化（或不同層面）的遺跡，

12、可使用不同顏色的線，或使用粗細(xì)不同的線。由于探方總平面圖重在表現(xiàn)所有遺跡的相對(duì)位置，遺跡結(jié)構(gòu)上的細(xì)節(jié)和遺物布局可以少表現(xiàn)或者不表現(xiàn)。否則遺跡很多或結(jié)構(gòu)復(fù)雜，會(huì)使畫面繁亂，主次不清。31三.3 探方四壁剖面圖繪制目的 表現(xiàn)探方堆積狀況和層位關(guān)系。排列為了便于本探方四壁剖面圖的拼對(duì)，一般是把南壁和北壁圖放在一張圖紙上，東壁和西壁圖放在一張圖紙上。繪圖時(shí)要面向探方壁繪圖，切不可弄反。圖兩端要標(biāo)出東、南、西、北，圖下注明是哪個(gè)壁。 探方四壁剖面圖表現(xiàn)手法白描畫法 它具有統(tǒng)一整齊、易于改動(dòng)、簡(jiǎn)單易畫、省時(shí)省工的優(yōu)點(diǎn)，宜廣泛使用。完全圖例畫法 各地層和遺跡堆積分別用不同的圖例表示的，具有很強(qiáng)的反映諸堆積質(zhì)

13、感差別的表現(xiàn)力，最適合報(bào)告插圖。部分圖例畫法 對(duì)特殊部分使用圖例，因而運(yùn)用靈活，增強(qiáng)圖面的質(zhì)感差別。如地層用圖例，遺跡不用；生土層用圖例，其它地層和遺跡不用等。繪制要求淺探方的基線可設(shè)在地表，深探方的基線要設(shè)在腰部，以便測(cè)量。基線一定要水平。使用垂球吊線測(cè)量各測(cè)點(diǎn)。利用坐標(biāo)法測(cè)繪。3233第三節(jié) 室內(nèi)器物繪圖一、普通器物的畫法二、三足器的畫法三、器物殘片的畫法四、工具、武器等實(shí)心物體的畫法五、器物紋飾畫法六、展開圖畫法七、用筆技法34一、普通容器的畫法1 畫面布局 普通容器的器物圖是右半部分畫正視圖，左半部分畫剖視圖；使右半部分表現(xiàn)器物外表面細(xì)節(jié)，左半部分表現(xiàn)器壁剖面及器物內(nèi)表面細(xì)節(jié)。一般是圓

14、底圓口器省去頂視圖和底視圖。一般形制簡(jiǎn)單的器物只畫一幅就夠了。復(fù)雜的，需要幾個(gè)視圖，增加剖面；有的還要進(jìn)行隱剖、折線剖等方法。3536一、普通容器的畫法2 測(cè)繪方法坐標(biāo)法擺放 用米格紙自制同心圓一張。同心圓中過(guò)圓心的十字格線AO、CO作為剖視圖的剖切線。把器物正放在同心圓紙上，令器物中軸線通過(guò)圓心。器物擺放位置不同，繪出器形不一樣，要認(rèn)真選好適當(dāng)位置，擺好后不再移動(dòng)。測(cè)量 把三角尺直立在同心圓紙上，使短直邊貼在紙面上。三角尺的長(zhǎng)直邊是測(cè)量的y軸，與長(zhǎng)直邊相交的橫格線是x軸，二者相交點(diǎn)是xy坐標(biāo)系原點(diǎn)。xy所在平面是xy坐標(biāo)面。當(dāng)三角尺不動(dòng)時(shí)，可以測(cè)出xy坐標(biāo)面上各點(diǎn)的縱橫坐標(biāo)。當(dāng)測(cè)點(diǎn)不在xy坐

15、標(biāo)面上時(shí)，要前后沿縱格線移動(dòng)直立的三角尺。這時(shí)的圖上y軸位置沒有改變。有時(shí)為了測(cè)量方便，要沿橫格線左右移動(dòng)，這時(shí)圖上y軸位置發(fā)生改變，需要重新確定y軸所在的格線。使用兩腳規(guī)測(cè)量時(shí)，其一腳尖頂在三角尺直邊上，一腳尖頂在測(cè)點(diǎn)上（兩腳尖要端平持正），那么，兩腳尖距離是橫坐標(biāo)，腳尖到同心圓紙面的距離是縱坐標(biāo)。 一般先量口徑、底徑、通高，畫器物框架。選擇測(cè)點(diǎn)（轉(zhuǎn)折點(diǎn)、最凸點(diǎn)、最凹點(diǎn)），測(cè)繪外輪廓線。由點(diǎn)連線時(shí)要把握好轉(zhuǎn)折處的鈍銳和曲線的凹凸程度。測(cè)繪完一側(cè)時(shí)，再移尺測(cè)另一側(cè)，器形不對(duì)稱時(shí)不可對(duì)折復(fù)印。 測(cè)出沿、壁、底的厚度，畫出剖面。壁厚可用彎腳卡尺測(cè)。難以測(cè)量壁厚的復(fù)原器，可以修復(fù)前或修復(fù)過(guò)程中測(cè)量壁

16、厚度。 無(wú)法測(cè)量部分，內(nèi)壁線用虛線畫。平底器的通高減去內(nèi)腹高就是底厚（內(nèi)服高度用直尺豎入可測(cè)）。 測(cè)繪內(nèi)外表面的轉(zhuǎn)折線、耳，再繪紋飾、打磨痕、溝槽等細(xì)部特征。 剖面繪平行等距斜線，或者全部涂黑，以與其它部分區(qū)別。373839二、三足器的畫法1 鼎的畫法 畫鼎一定要注意鼎足與鼎身的遮擋關(guān)系和器物形象的完整性。鼎有三種擺法，繪出的圖也不一樣。把鼎正放在同心圓上，使鼎身的中心軸線通過(guò)圓心。第一種擺法是一足在左，兩足在右，繪出的圖有不穩(wěn)重感，但半剖視圖切到左邊的足，能很好的展示身足的關(guān)系。其右側(cè)前足是遮擋鼎身輪廓線的。第二種擺法是一足在前，兩足在后。畫出的圖有穩(wěn)定感；但半剖視圖不能剖切到鼎足。應(yīng)注意，

17、前足遮擋了鼎身輪廓線，鼎身又遮住了后兩足。第三種擺法是兩足在前，一足在后。這種擺法有兩種畫法：半剖視圖，即把同心圓十字線等分的前1/4部分全部剖掉，把剖掉的足、耳附件用虛線繪出。鼎身剖視，足不剖掉。前足遮擋了鼎身，鼎身遮擋了后足。4041二、三足器的畫法1 鬲與鬹的畫法 畫鬲時(shí)，鬲的擺放方式也有兩種：兩足在前，一足在后。兩足在左，一足在右。后者多用于有流、有把手的三足器，或三足尖連線為等腰三角形的三足器。輪廓線用豎立的三角板沿縱向基線前后移動(dòng)，測(cè)量出外輪廓上關(guān)鍵點(diǎn)的坐標(biāo)，由點(diǎn)連線即成。鬲襠心的高度用兩腳規(guī)測(cè)得。鬲剖面線畫法是沿鬲的輪廓線測(cè)量厚度，然后在外輪廓線的里側(cè)按實(shí)際厚度畫出剖面壁的內(nèi)側(cè)線

18、。因此，鬲的剖面是按照鬲外輪廓線剖切，而不是垂直剖切。剖切面的形狀大小都十分靈活，也可以采用隱剖形式。鬲的足與足連接處為襠，外表面的凹陷稱襠溝，內(nèi)表面的凸起稱襠隔。襠溝線叫外襠線，襠隔線叫內(nèi)襠線。外襠線測(cè)點(diǎn)坐標(biāo)可以直接測(cè)出，連點(diǎn)即為襠線；內(nèi)襠線則是把外襠線向內(nèi)移動(dòng)一個(gè)壁厚得到的。注意，隱剖時(shí)，用虛線畫出的襠線是外襠線。4243三、器物殘片的畫法1 附加剖面畫法2 復(fù)原畫法44附加剖面畫法附加剖面畫法先畫出陶片正視圖，在正視圖旁側(cè)加一幅剖面圖。注意事項(xiàng)1 附加剖面畫法的剖面圖一般放在正視圖左側(cè)。2 剖面所示的器物里外方向必須與完整器物的器物圖相應(yīng)部位剖面的里外方向一致，不能畫反。3 畫出的剖面能

19、準(zhǔn)確反映該陶片在原完整器上的傾斜度，不可歪斜。因此，畫時(shí)須把陶片擺正，再進(jìn)行觀測(cè)。平口器物的口沿殘片，可以倒放在同心圓米格紙上，使口沿與紙面密合。器腹片和底片要正放。一般來(lái)說(shuō)，當(dāng)輪修痕跡、規(guī)整的弦紋、能水平繞器一周的各種折棱線（底折線、肩、頸折線）所在的平面處于水平狀態(tài)時(shí)，陶片也就擺正了。4546復(fù)原畫法復(fù)原畫法 根據(jù)陶器殘片進(jìn)行局部復(fù)原的畫法。復(fù)原圖能反映出器物的部分形狀和大小，但是，古人有意毀器形成的殘缺是不能采用復(fù)原畫法繪圖。繪制步驟口沿殘片繪圖時(shí)，把陶片倒放在同心圓米格紙上，使口沿立穩(wěn)，然后平行移動(dòng)口沿，使口沿與某一圓周重合，得出陶片的口徑。殘器底正放在同心圓上，也可求出底徑。把三角尺

20、直立在同心圓上，測(cè)繪了陶片的輪廓線和剖面，再繪出相應(yīng)的紋飾。陶片正視部分可以放在中間。也可放在右邊部。有口有底，中間缺失的部分可參考其它完整器用虛線連接。注意事項(xiàng)不能復(fù)原或沒有把握復(fù)原的陶片就不要使用復(fù)原畫法。4748四、工具武器等實(shí)心物體的畫法1 外輪廓線畫法2 器身細(xì)部畫法3 附加剖視圖和旋轉(zhuǎn)剖面圖49外輪廓線畫法可以畫成11的小型器物，直接把器物放在圖紙上，用筆勾勒正投影的外輪廓線。把三角尺直立在圖紙上，令直立的長(zhǎng)邊靠在器物邊緣上的測(cè)點(diǎn)，則在圖紙上得到測(cè)點(diǎn)的垂直投影點(diǎn)。由點(diǎn)連線就得到外輪廓線。造型極不規(guī)則的打制石器，可以自制一個(gè)繪圖儀。把三角尺去掉直角，綁上劈開的鉛筆，使筆尖位于兩直邊的

21、交點(diǎn)上。使用此儀沿器物周邊滑行，即可得到外輪廓線。要畫成其它比例的器物，可以按上述方法畫出1：1的外輪廓線，再按比例縮繪。或者，在器物之下放一米格紙，選出一條格線為測(cè)量基線，任選基線上的一點(diǎn)為基點(diǎn)。用上述方法把測(cè)點(diǎn)垂直投到米格紙上，從而得到測(cè)點(diǎn)的坐標(biāo)值。在繪圖紙上（另一張米格紙）用坐標(biāo)法繪出各測(cè)點(diǎn)，由點(diǎn)連線。側(cè)視圖也可用此法502 器身細(xì)部畫法在米格紙上選定測(cè)量基線，把直尺平置于器物上面，使尺邊與基線重合，便可測(cè)量出直尺邊沿所通過(guò)的測(cè)點(diǎn)坐標(biāo)，以及附近測(cè)點(diǎn)的坐標(biāo)。測(cè)點(diǎn)多者可多選幾條基線。以方便準(zhǔn)確為準(zhǔn)則，可靈活測(cè)量。然后依觀察勾繪出細(xì)部。輪廓線內(nèi)畫哪些線，需觀察實(shí)物表面呈現(xiàn)哪些棱線。棱線銳者，一

22、定要用線繪出。棱線鈍者，可以不畫線，或用斷續(xù)的虛線表示，或用點(diǎn)子筆法來(lái)表現(xiàn)。器物上的制作痕跡和使用痕跡能見到的均應(yīng)繪出。如磨制石鏟，安柄部常留下鋸割痕，刃緣有使用碰壞的殘疤痕。體表的制作與使用的磨蝕痕也是重要特征，盡量反映出來(lái)。打制石器疤痕多，形狀不規(guī)則，但是疤痕是研究制作與使用的重要圖形資料，必須如實(shí)畫出，要反映出打擊點(diǎn)、打擊方向、打擊次序等特征。疤痕畫法是，用適當(dāng)粗細(xì)線勾出輪廓，內(nèi)繪放射線和波狀線；或者亮部不畫輪廓線，而用密集的波紋線表現(xiàn)出疤痕輪廓，背光部分則畫出輪廓線?？坎y線和放射線的聚攏表現(xiàn)打擊點(diǎn)和打擊方向。若波紋線不明顯，可以在圖外用箭頭示意打擊點(diǎn)和打擊方向。有的側(cè)視圖可以不畫波紋

23、線和放射線。打制石器還有一種簡(jiǎn)練畫法，即視圖上不繪波紋線和放射線，只用線描繪輪廓和疤痕輪廓。這種方法多用于作器形比較的論文中。51523 附加剖視圖和旋轉(zhuǎn)剖面圖附加剖視圖 表現(xiàn)器物界面形狀和內(nèi)部結(jié)構(gòu)。注意事項(xiàng) 剖視圖要放在正視圖剖切部位旁側(cè)，并標(biāo)出剖切記號(hào)；除剖切面實(shí)體部分畫出外，其它能見到的部分也要畫出；剖面實(shí)體部分要畫上平行斜線或涂黑，否則會(huì)與側(cè)視圖不分。旋轉(zhuǎn)剖面圖 在正視圖上把剖切面原位逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)90（底視），也就是把剖面畫在正視圖的剖切位置上。注意事項(xiàng) 剖面也要用斜線表示或涂黑。畫旋轉(zhuǎn)剖面要注意剖面的正確形狀。剖面大者不能用旋轉(zhuǎn)剖面表示。如果剖面有礙正視圖表現(xiàn)器物細(xì)節(jié)時(shí)，須改用附加剖視

24、圖。5354五、器物紋飾畫法器物紋飾畫法細(xì)致分析紋飾特點(diǎn)。器物紋飾多樣，同類紋飾在不通器物上各有特點(diǎn)，同一器物不同部位所施的同類紋飾，有時(shí)也不一樣。這就需要細(xì)細(xì)揣摩，分析施紋工具特點(diǎn)、施紋程序、施紋方式、施紋布局、起筆落筆的先后輕重等。如果只粗枝大葉看看紋飾，是很難反映出紋飾個(gè)性的，也不能畫準(zhǔn)，甚至畫錯(cuò)。紋飾疊壓先后順序的分析，能看出紋飾形成的先后順序，因此，繪時(shí)要如實(shí)畫，不能草草而行。紋飾還要注意投影變形。與投影面平行的面和線，正投影時(shí)不變形；其它的面和線都變形?？脊牌魑锝^大多數(shù)不是方體的，紋飾圖也就普遍存在投影變形。繪紋樣時(shí)，先要用坐標(biāo)法測(cè)出各控制點(diǎn)坐標(biāo)，邊觀察邊由點(diǎn)連線。這時(shí)，一方面要根

25、據(jù)正投影原理想象正投影后可能的形狀；一方面要變換角度位置，使視線與投影面垂直，以獲得正確的正投影圖形。繪紋飾時(shí)，先把圖面區(qū)分好單元塊或紋飾帶范圍，在單元塊（或帶）內(nèi)繪紋樣。要掌握一定的用筆技法，尤其是報(bào)告用圖。55565758六、展開圖畫法1 畫出展開圖2 在展開圖上繪紋飾591 畫出展開圖圓柱形或棱柱形器物壁面展開為矩形。矩形寬等于柱體高，矩形長(zhǎng)等于柱體截面周長(zhǎng)。圓錐體表面展開為扇形。扇形半徑長(zhǎng)是圓錐體的斜長(zhǎng)。扇形頂角可由公式算出：扇形頂角圓錐體半徑：圓錐體斜長(zhǎng)360圓臺(tái)是截圓錐形，展開方法與圓錐展開基本相同。具體畫法是：先畫出器物正視圖，得到一個(gè)梯形。延長(zhǎng)梯形側(cè)邊，二者交于P點(diǎn)。頂角公式為：頂角AC：2：AP360多數(shù)器物表面是不能完全展開成平面的。球面曲度小的，可以畫近似展開圖，或分段展開；球面曲度大的，只能畫展開示意圖。60612 在展開圖上畫紋飾 繪制紋飾的方法較多。把器物紋飾捶拓出拓片，把拓片上的紋飾繪在圖紙上?；虬凑归_后的形狀，剪一塊透明紙或塑料紙，蒙在器物上勾稿，然后以此作圖。或在器物表面上和展開的圖形上，分出相應(yīng)的格網(wǎng)，然后按網(wǎng)格測(cè)點(diǎn)臨摹。紋樣簡(jiǎn)單的，也可以用兩腳規(guī)分段找出幾個(gè)控制點(diǎn)，然后寫生臨摹。62七、用筆技法1 器物圖的兩種表現(xiàn)方法2 結(jié)構(gòu)關(guān)系的表現(xiàn)3 明暗關(guān)系的表現(xiàn)4 質(zhì)