浙江靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目可行性研究報(bào)告

1、泓域咨詢/浙江靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目可行性研究報(bào)告浙江靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目可行性研究報(bào)告MACRO 泓域咨詢 報(bào)告說明靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)息息相關(guān)，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn)，靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡(jiǎn)單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(zhǎng)的激光與不同的靶材相互作用時(shí)，會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等)，即

2、可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。該靶材項(xiàng)目計(jì)劃總投資18044.43萬元，其中：固定資產(chǎn)投資13158.83萬元，占項(xiàng)目總投資的72.92%；流動(dòng)資金4885.60萬元，占項(xiàng)目總投資的27.08%。達(dá)產(chǎn)年?duì)I業(yè)收入46705.00萬元，總成本費(fèi)用36836.62萬元，稅金及附加353.59萬元，利潤(rùn)總額9868.38萬元，利稅總額11583.13萬元，稅后凈利潤(rùn)7401.28萬元，達(dá)產(chǎn)年納稅總額4181.84萬元；達(dá)產(chǎn)年投資利潤(rùn)率54.69%，投資利稅率64.19%，投資回報(bào)率41.02%，全部投資回收期3.94年，提供就業(yè)職位788個(gè)。超大規(guī)模集成電路制造過程中要反復(fù)用到的濺

3、射（Sputtering）工藝屬于物理氣相沉積（PVD）技術(shù)的一種，是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在高真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。第一章 概論一、項(xiàng)目概況（一）項(xiàng)目名稱及背景浙江靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材。是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。濺射靶材是利用物理氣相沉積技術(shù)制備電子薄膜材料的被轟擊材料，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、太陽能電池、平板顯示、信息存儲(chǔ)等領(lǐng)域，

4、其中半導(dǎo)芯片用濺射靶材技術(shù)要求最高，具有規(guī)?；a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量也相對(duì)較少，主要分布在美國(guó)、日本等國(guó)家和地區(qū)。（二）項(xiàng)目選址某經(jīng)濟(jì)新區(qū)浙江，簡(jiǎn)稱浙，是中華人民共和國(guó)省級(jí)行政區(qū)。省會(huì)杭州，位于中國(guó)東南沿海，浙江界于東經(jīng)1180112310，北緯27023111之間，東臨東海，南接福建，西與安徽、江西相連，北與上海、江蘇接壤，境內(nèi)最大的河流錢塘江，因江流曲折，稱之江，又稱浙江，省以江名，簡(jiǎn)稱浙。浙江省總面積10.55萬平方千米。浙江地勢(shì)由西南向東北傾斜，地形復(fù)雜。山脈自西南向東北成大致平行的三支。地跨錢塘江、甌江、靈江、苕溪、甬江、飛云江、鰲江、曹娥江八大水系，由平原、丘陵、盆地、山地、島嶼構(gòu)成。

5、浙江省地處亞熱帶中部，屬季風(fēng)性濕潤(rùn)氣候，自然條件較優(yōu)越。截至2018年底，浙江省下轄11個(gè)省轄市（其中兩個(gè)副省級(jí)市），20個(gè)縣級(jí)市，32個(gè)縣，1個(gè)自治縣，37個(gè)市轄區(qū)。2019年，浙江生產(chǎn)總值（GD）為62352億元（合9039億美元），按可比價(jià)格計(jì)算，比上年增長(zhǎng)6.8%。其中，第一產(chǎn)業(yè)增加值2097億元，增長(zhǎng)2.0%；第二產(chǎn)業(yè)增加值26567億元，增長(zhǎng)5.9%；第三產(chǎn)業(yè)增加值33688億元，增長(zhǎng)7.8%。人均GD為107624元，合15601美元。2019年10月，入選國(guó)家數(shù)字經(jīng)濟(jì)創(chuàng)新發(fā)展試驗(yàn)區(qū)。場(chǎng)址應(yīng)靠近交通運(yùn)輸主干道，具備便利的交通條件，有利于原料和產(chǎn)成品的運(yùn)輸，同時(shí)，通訊便捷有利于及時(shí)

6、反饋產(chǎn)品市場(chǎng)信息。投資項(xiàng)目對(duì)其生產(chǎn)工藝流程、設(shè)施布置等都有較為嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)化要求，為了更好地發(fā)揮其經(jīng)濟(jì)效益并綜合考慮環(huán)境等多方面的因素，根據(jù)項(xiàng)目選址的一般原則和項(xiàng)目建設(shè)地的實(shí)際情況，該項(xiàng)目選址應(yīng)遵循以下基本原則的要求。對(duì)各種設(shè)施用地進(jìn)行統(tǒng)籌安排，提高土地綜合利用效率，同時(shí)，采用先進(jìn)的工藝技術(shù)和設(shè)備，達(dá)到“節(jié)約能源、節(jié)約土地資源”的目的。（三）項(xiàng)目用地規(guī)模項(xiàng)目總用地面積47563.77平方米（折合約71.31畝）。（四）項(xiàng)目用地控制指標(biāo)該工程規(guī)劃建筑系數(shù)74.26%，建筑容積率1.12，建設(shè)區(qū)域綠化覆蓋率6.99%，固定資產(chǎn)投資強(qiáng)度184.53萬元/畝。（五）土建工程指標(biāo)項(xiàng)目?jī)粲玫孛娣e47563.

7、77平方米，建筑物基底占地面積35320.86平方米，總建筑面積53271.42平方米，其中：規(guī)劃建設(shè)主體工程38432.74平方米，項(xiàng)目規(guī)劃綠化面積3725.95平方米。（六）設(shè)備選型方案項(xiàng)目計(jì)劃購置設(shè)備共計(jì)131臺(tái)（套），設(shè)備購置費(fèi)5299.64萬元。（七）節(jié)能分析1、項(xiàng)目年用電量1377770.48千瓦時(shí)，折合169.33噸標(biāo)準(zhǔn)煤。2、項(xiàng)目年總用水量35981.31立方米，折合3.07噸標(biāo)準(zhǔn)煤。3、“浙江靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目投資建設(shè)項(xiàng)目”，年用電量1377770.48千瓦時(shí)，年總用水量35981.31立方米，項(xiàng)目年綜合總耗能量（當(dāng)量值）172.40噸標(biāo)準(zhǔn)煤/年。達(dá)產(chǎn)年綜合節(jié)能量54.44噸標(biāo)

8、準(zhǔn)煤/年，項(xiàng)目總節(jié)能率22.15%，能源利用效果良好。（八）環(huán)境保護(hù)項(xiàng)目符合某經(jīng)濟(jì)新區(qū)發(fā)展規(guī)劃，符合某經(jīng)濟(jì)新區(qū)產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整規(guī)劃和國(guó)家的產(chǎn)業(yè)發(fā)展政策；對(duì)產(chǎn)生的各類污染物都采取了切實(shí)可行的治理措施，嚴(yán)格控制在國(guó)家規(guī)定的排放標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)，項(xiàng)目建設(shè)不會(huì)對(duì)區(qū)域生態(tài)環(huán)境產(chǎn)生明顯的影響。（九）項(xiàng)目總投資及資金構(gòu)成項(xiàng)目預(yù)計(jì)總投資18044.43萬元，其中：固定資產(chǎn)投資13158.83萬元，占項(xiàng)目總投資的72.92%；流動(dòng)資金4885.60萬元，占項(xiàng)目總投資的27.08%。（十）資金籌措該項(xiàng)目現(xiàn)階段投資均由企業(yè)自籌。（十一）項(xiàng)目預(yù)期經(jīng)濟(jì)效益規(guī)劃目標(biāo)預(yù)期達(dá)產(chǎn)年?duì)I業(yè)收入46705.00萬元，總成本費(fèi)用36836.62萬元

9、，稅金及附加353.59萬元，利潤(rùn)總額9868.38萬元，利稅總額11583.13萬元，稅后凈利潤(rùn)7401.28萬元，達(dá)產(chǎn)年納稅總額4181.84萬元；達(dá)產(chǎn)年投資利潤(rùn)率54.69%，投資利稅率64.19%，投資回報(bào)率41.02%，全部投資回收期3.94年，提供就業(yè)職位788個(gè)。（十二）進(jìn)度規(guī)劃本期工程項(xiàng)目建設(shè)期限規(guī)劃12個(gè)月。實(shí)行動(dòng)態(tài)計(jì)劃管理，加強(qiáng)施工進(jìn)度的統(tǒng)計(jì)和分析工作，根據(jù)實(shí)際施工進(jìn)度，及時(shí)調(diào)整施工進(jìn)度計(jì)劃，隨時(shí)掌握關(guān)鍵線路的變化狀況。項(xiàng)目承辦單位要合理安排設(shè)計(jì)、采購和設(shè)備安裝的時(shí)間，在工作上交叉進(jìn)行，最大限度縮短建設(shè)周期。將投資密度比較大的部分工程盡量押后施工，諸如其他配套工程等。項(xiàng)目承

10、辦單位一定要做好后勤供應(yīng)和服務(wù)保障工作，確保不誤前方施工。二、項(xiàng)目評(píng)價(jià)1、本期工程項(xiàng)目符合國(guó)家產(chǎn)業(yè)發(fā)展政策和規(guī)劃要求，符合某經(jīng)濟(jì)新區(qū)及某經(jīng)濟(jì)新區(qū)靶材行業(yè)布局和結(jié)構(gòu)調(diào)整政策；項(xiàng)目的建設(shè)對(duì)促進(jìn)某經(jīng)濟(jì)新區(qū)靶材產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)、技術(shù)結(jié)構(gòu)、組織結(jié)構(gòu)、產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的調(diào)整優(yōu)化有著積極的推動(dòng)意義。2、xxx有限公司為適應(yīng)國(guó)內(nèi)外市場(chǎng)需求，擬建“浙江靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目”，本期工程項(xiàng)目的建設(shè)能夠有力促進(jìn)某經(jīng)濟(jì)新區(qū)經(jīng)濟(jì)發(fā)展，為社會(huì)提供就業(yè)職位788個(gè)，達(dá)產(chǎn)年納稅總額4181.84萬元，可以促進(jìn)某經(jīng)濟(jì)新區(qū)區(qū)域經(jīng)濟(jì)的繁榮發(fā)展和社會(huì)穩(wěn)定，為地方財(cái)政收入做出積極的貢獻(xiàn)。3、項(xiàng)目達(dá)產(chǎn)年投資利潤(rùn)率54.69%，投資利稅率64.19%，全部投資

11、回報(bào)率41.02%，全部投資回收期3.94年，固定資產(chǎn)投資回收期3.94年（含建設(shè)期），項(xiàng)目具有較強(qiáng)的盈利能力和抗風(fēng)險(xiǎn)能力。2016年7月，工業(yè)和信息化部與發(fā)展改革委等11部門聯(lián)合發(fā)布了關(guān)于引導(dǎo)企業(yè)創(chuàng)新管理提質(zhì)增效的指導(dǎo)意見，并采取了一系列卓有成效的具體措施。認(rèn)真貫徹落實(shí)十八屆三中全會(huì)提出“鼓勵(lì)有條件的私營(yíng)企業(yè)建立現(xiàn)代企業(yè)制度”，會(huì)同發(fā)展改革委等有關(guān)部門，推動(dòng)有條件的地區(qū)開展非公有制企業(yè)建立現(xiàn)代企業(yè)制度試點(diǎn)工作，引導(dǎo)企業(yè)樹立現(xiàn)代企業(yè)經(jīng)營(yíng)管理理念，增強(qiáng)企業(yè)內(nèi)在活力和創(chuàng)造力。開展管理咨詢服務(wù)，建立中小企業(yè)管理咨詢服務(wù)專家信息庫，并在中國(guó)中小企業(yè)信息網(wǎng)和中國(guó)企業(yè)家聯(lián)合會(huì)網(wǎng)站公布，供廣大民營(yíng)企業(yè)、中小

12、企業(yè)選用，為各地開展管理咨詢服務(wù)提供支撐；鼓勵(lì)和支持管理咨詢機(jī)構(gòu)和志愿者開展管理診斷、管理咨詢服務(wù)，幫助企業(yè)提升管理水平。實(shí)施企業(yè)經(jīng)營(yíng)管理人才素質(zhì)提升工程和中小企業(yè)銀河培訓(xùn)工程，全年完成對(duì)50萬中小企業(yè)經(jīng)營(yíng)管理者和1000名中小企業(yè)領(lǐng)軍人才的培訓(xùn)，推動(dòng)企業(yè)提升管理水平。國(guó)家支持民營(yíng)經(jīng)濟(jì)發(fā)展，是明確的、一貫的，而且是不斷深化的，不是一時(shí)的權(quán)宜之計(jì)，更不是過河拆橋式的策略性利用。對(duì)于非公有制經(jīng)濟(jì)的地位和作用，“三個(gè)沒有變”的判斷：“非公有制經(jīng)濟(jì)在我國(guó)經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展中的地位和作用沒有變，我們毫不動(dòng)搖鼓勵(lì)、支持、引導(dǎo)非公有制經(jīng)濟(jì)發(fā)展的方針政策沒有變，我們致力于為非公有制經(jīng)濟(jì)發(fā)展?fàn)I造良好環(huán)境和提供更多機(jī)會(huì)

13、的方針政策沒有變?！蓖瑫r(shí)，公有制為主體、多種所有制經(jīng)濟(jì)共同發(fā)展，是寫入黨章和憲法的基本經(jīng)濟(jì)制度，這是不會(huì)變的，也是不能變的。進(jìn)入新時(shí)代，中國(guó)的民營(yíng)經(jīng)濟(jì)只會(huì)壯大、不會(huì)離場(chǎng)，只會(huì)越來越好、不會(huì)越來越差。堅(jiān)持市場(chǎng)主導(dǎo)與政府引導(dǎo)相結(jié)合，提質(zhì)增效與發(fā)展速度相結(jié)合，盤活存量與擴(kuò)大增量相結(jié)合，技術(shù)改造與技術(shù)創(chuàng)新相結(jié)合，整體推進(jìn)與重點(diǎn)發(fā)展相結(jié)合，經(jīng)濟(jì)效益與社會(huì)效益相結(jié)合，工業(yè)化和信息化融合發(fā)展。三、主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)一覽表序號(hào)項(xiàng)目單位指標(biāo)備注1占地面積平方米47563.7771.31畝1.1容積率1.121.2建筑系數(shù)74.26%1.3投資強(qiáng)度萬元/畝184.531.4基底面積平方米35320.861.

14、5總建筑面積平方米53271.421.6綠化面積平方米3725.95綠化率6.99%2總投資萬元18044.432.1固定資產(chǎn)投資萬元13158.832.1.1土建工程投資萬元3737.542.1.1.1土建工程投資占比萬元20.71%2.1.2設(shè)備投資萬元5299.642.1.2.1設(shè)備投資占比29.37%2.1.3其它投資萬元4121.652.1.3.1其它投資占比22.84%2.1.4固定資產(chǎn)投資占比72.92%2.2流動(dòng)資金萬元4885.602.2.1流動(dòng)資金占比27.08%3收入萬元46705.004總成本萬元36836.625利潤(rùn)總額萬元9868.386凈利潤(rùn)萬元7401.287所

15、得稅萬元1.128增值稅萬元1361.169稅金及附加萬元353.5910納稅總額萬元4181.8411利稅總額萬元11583.1312投資利潤(rùn)率54.69%13投資利稅率64.19%14投資回報(bào)率41.02%15回收期年3.9416設(shè)備數(shù)量臺(tái)（套）13117年用電量千瓦時(shí)1377770.4818年用水量立方米35981.3119總能耗噸標(biāo)準(zhǔn)煤172.4020節(jié)能率22.15%21節(jié)能量噸標(biāo)準(zhǔn)煤54.4422員工數(shù)量人788 第二章 承辦單位概況一、項(xiàng)目承辦單位基本情況（一）公司名稱xxx實(shí)業(yè)發(fā)展公司（二）公司簡(jiǎn)介公司始終堅(jiān)持“人本、誠(chéng)信、創(chuàng)新、共贏”的經(jīng)營(yíng)理念，以“市場(chǎng)為導(dǎo)向、顧客為中心”的

16、企業(yè)服務(wù)宗旨，竭誠(chéng)為國(guó)內(nèi)外客戶提供優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品和一流服務(wù)，歡迎各界人士光臨指導(dǎo)和洽談業(yè)務(wù)。公司將“以運(yùn)營(yíng)服務(wù)業(yè)帶動(dòng)制造業(yè)，以制造業(yè)支持運(yùn)營(yíng)服務(wù)業(yè)”經(jīng)營(yíng)模式，樹立起雙向融合的新格局，全面系統(tǒng)化擴(kuò)展經(jīng)營(yíng)領(lǐng)域。公司為以適應(yīng)本土化需求為導(dǎo)向，高度整合全球供應(yīng)鏈。公司引進(jìn)世界領(lǐng)先的技術(shù)，匯聚跨國(guó)高科技人才以確保公司產(chǎn)業(yè)的穩(wěn)定發(fā)展和保持長(zhǎng)期的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。公司秉承“科技創(chuàng)新、誠(chéng)信為本”的企業(yè)核心價(jià)值觀，培養(yǎng)出一支成熟的售后服務(wù)、技術(shù)支持等方面的專業(yè)人才隊(duì)伍，建立了完善的售后服務(wù)體系?？焖俚氖酆蠓?wù)，有效地提高了客戶的滿意度，提升了客戶對(duì)公司的認(rèn)知度和信任度。二、公司經(jīng)濟(jì)效益分析上一年度，xxx有限公司實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入

17、34498.77萬元，同比增長(zhǎng)33.72%（8699.31萬元）。其中，主營(yíng)業(yè)業(yè)務(wù)靶材生產(chǎn)及銷售收入為27623.30萬元，占營(yíng)業(yè)總收入的80.07%。上年度營(yíng)收情況一覽表序號(hào)項(xiàng)目第一季度第二季度第三季度第四季度合計(jì)1營(yíng)業(yè)收入7244.749659.668969.688624.6934498.772主營(yíng)業(yè)務(wù)收入5800.897734.527182.066905.8227623.302.1靶材(A)1914.292552.392370.082278.929115.692.2靶材(B)1334.211778.941651.871588.346353.362.3靶材(C)986.151314.871

18、220.951173.994695.962.4靶材(D)696.11928.14861.85828.703314.802.5靶材(E)464.07618.76574.56552.472209.862.6靶材(F)290.04386.73359.10345.291381.162.7靶材(.)116.02154.69143.64138.12552.473其他業(yè)務(wù)收入1443.851925.131787.621718.876875.47根據(jù)初步統(tǒng)計(jì)測(cè)算，公司實(shí)現(xiàn)利潤(rùn)總額8481.96萬元，較去年同期相比增長(zhǎng)1063.53萬元，增長(zhǎng)率14.34%；實(shí)現(xiàn)凈利潤(rùn)6361.47萬元，較去年同期相比增長(zhǎng)120

19、3.74萬元，增長(zhǎng)率23.34%。上年度主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)項(xiàng)目單位指標(biāo)完成營(yíng)業(yè)收入萬元34498.77完成主營(yíng)業(yè)務(wù)收入萬元27623.30主營(yíng)業(yè)務(wù)收入占比80.07%營(yíng)業(yè)收入增長(zhǎng)率（同比）33.72%營(yíng)業(yè)收入增長(zhǎng)量（同比）萬元8699.31利潤(rùn)總額萬元8481.96利潤(rùn)總額增長(zhǎng)率14.34%利潤(rùn)總額增長(zhǎng)量萬元1063.53凈利潤(rùn)萬元6361.47凈利潤(rùn)增長(zhǎng)率23.34%凈利潤(rùn)增長(zhǎng)量萬元1203.74投資利潤(rùn)率60.16%投資回報(bào)率45.12%財(cái)務(wù)內(nèi)部收益率26.07%企業(yè)總資產(chǎn)萬元39756.32流動(dòng)資產(chǎn)總額占比萬元35.44%流動(dòng)資產(chǎn)總額萬元14089.26資產(chǎn)負(fù)債率22.54% 第三章 項(xiàng)目背景

20、、必要性一、靶材項(xiàng)目背景分析靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材。是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。高純度濺射靶材主要應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積（PhysicalVaporDeposition，PVD）工藝。PVD鍍膜目前主要有三種形式，分別是濺射鍍膜、蒸發(fā)鍍膜以及離子鍍膜。為推動(dòng)國(guó)內(nèi)靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展，增強(qiáng)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新能力和國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)力，帶動(dòng)傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)改造和產(chǎn)品升級(jí)換代，我國(guó)制定了一系列靶材行業(yè)相關(guān)支持政策。靶材行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用等環(huán)節(jié)。其中，靶材制造和濺射鍍膜環(huán)節(jié)是整個(gè)靶材產(chǎn)業(yè)鏈中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。靶材產(chǎn)業(yè)下游包括半導(dǎo)體、光伏電池、平板顯

21、示器等等，其中，半導(dǎo)體芯片行業(yè)用的金屬靶材，主要種類包括：銅、鉭、鋁、鈦、鈷和鎢等高純靶材，以及鎳鉑、鎢鈦等合金類的靶材。銅靶和鉭靶通常配合起來使用。靶材主要應(yīng)用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。其中，在靶材應(yīng)用領(lǐng)域中，半導(dǎo)體芯片對(duì)靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn)，需要掌握生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過長(zhǎng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品。因此，半導(dǎo)體芯片對(duì)靶材的要求是最高的，價(jià)格也最為昂貴。半導(dǎo)體芯片行業(yè)是金屬濺射靶材的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一，也是對(duì)靶材的成分、組織和性能要求最高的領(lǐng)域。目前晶圓的制造正朝著更小的制程方向發(fā)展，銅導(dǎo)線工藝的應(yīng)用量在逐步增大，因此，銅

22、和鉭靶材的需求將有望持續(xù)增長(zhǎng)。鋁靶和鈦靶通常配合起來使用。目前，在汽車電子芯片等需要110nm以上技術(shù)節(jié)點(diǎn)來保證其穩(wěn)定性和抗干擾性的領(lǐng)域，仍需大量使用鋁、鈦靶材。目前，全球的靶材制造行業(yè)，特別是高純度的靶材市場(chǎng)，呈現(xiàn)寡頭壟斷格局，主要由幾家美日大企業(yè)把持，如日本的三井礦業(yè)、日礦金屬、日本東曹、住友化學(xué)、日本愛發(fā)科，以及美國(guó)霍尼韋爾、普萊克斯等。日礦金屬是全球最大的靶材供應(yīng)商，靶材銷售額約占全球市場(chǎng)的30%，霍尼韋爾在并購JohnsonMattey、整合高純鋁、鈦等原材料生產(chǎn)廠后，占到全球市約20%的份額，此外，東曹和普萊克斯分別占20%和10%。目前，國(guó)內(nèi)靶材廠商主要聚焦在低端產(chǎn)品領(lǐng)域，在半導(dǎo)

23、體、平板顯示器和太陽能電池等市場(chǎng)還無法與國(guó)際巨頭全面競(jìng)爭(zhēng)。但是，依靠國(guó)內(nèi)的巨大市場(chǎng)潛力和利好的產(chǎn)業(yè)政策，以及產(chǎn)品價(jià)格優(yōu)勢(shì)，它們已經(jīng)在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)占有一定的市場(chǎng)份額，并逐步在個(gè)別細(xì)分領(lǐng)域搶占了部分國(guó)際大廠的市場(chǎng)空間。近年來，我國(guó)政府制定了一系列產(chǎn)業(yè)政策，如863計(jì)劃、02專項(xiàng)基金等來加速濺射靶材供應(yīng)的本土化進(jìn)程，推動(dòng)國(guó)產(chǎn)靶材在多個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)從無到有的跨越。這些都從國(guó)家戰(zhàn)略高度扶植并推動(dòng)著濺射靶材產(chǎn)業(yè)的發(fā)展壯大。二、靶材項(xiàng)目建設(shè)必要性分析濺射靶材是利用物理氣相沉積技術(shù)制備電子薄膜材料的被轟擊材料，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、太陽能電池、平板顯示、信息存儲(chǔ)等領(lǐng)域，其中半導(dǎo)芯片用濺射靶材技術(shù)要求最高，具有規(guī)模

24、化生產(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量也相對(duì)較少，主要分布在美國(guó)、日本等國(guó)家和地區(qū)。中國(guó)濺射靶材行業(yè)起步較晚，目前仍然屬于一個(gè)較新的行業(yè)，受益于國(guó)家戰(zhàn)略的支持，已經(jīng)開始出現(xiàn)少量專業(yè)從事高純?yōu)R射靶材研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè)(如江豐電子，有研新材等)，并成功開發(fā)出一批高端應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材，為高純?yōu)R射靶材大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化提供了良好的研發(fā)基礎(chǔ)和市場(chǎng)化條件。靶材全球市場(chǎng)預(yù)計(jì)16-19復(fù)合增速13%。2016年全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)容量達(dá)113.6億美元，相比于2015年的94.8億美元增長(zhǎng)20%。預(yù)測(cè)2016-2019年均復(fù)合增長(zhǎng)率達(dá)13%，到2019年全球高純?yōu)R射靶材市場(chǎng)規(guī)模將超過163億美元。2016年全球靶材市場(chǎng)的下游結(jié)構(gòu)中，半導(dǎo)

25、體占比10%、平板顯示占34%、太陽能電池占21%、記錄媒體占29%，靶材性能要求依次降低。市場(chǎng)集中度高，日、美占據(jù)80%高端靶材市場(chǎng)。濺射靶材由于其高技術(shù)、高投資、高客戶壁壘，具有規(guī)?；a(chǎn)能力企業(yè)較少，以霍尼韋爾、日礦金屬、東曹、普萊克斯等為代表的靶材龍頭企業(yè)2017年占據(jù)全球約80%靶材市場(chǎng)。美、日等跨國(guó)企業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈較為完整，囊括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用各個(gè)環(huán)節(jié)，主導(dǎo)高端的半導(dǎo)體靶材市場(chǎng)；韓國(guó)、新加坡及中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)擅長(zhǎng)磁記錄及光學(xué)薄膜領(lǐng)域，原料多從國(guó)外進(jìn)口；中國(guó)靶材產(chǎn)業(yè)正處于起步階段，逐步切入以原料以進(jìn)口為主的全球主流半導(dǎo)體、顯示、光伏等龍頭企業(yè)客戶。預(yù)計(jì)2018-2020年

26、國(guó)內(nèi)顯示靶材需求增速維持20-25%增速。中國(guó)大陸從上世紀(jì)80年代開始進(jìn)入液晶顯示領(lǐng)域，在政府政策導(dǎo)向和產(chǎn)業(yè)扶植下，我國(guó)大陸液晶顯示產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展，成為平板顯示行業(yè)發(fā)展速度最快的地區(qū)。2016年中國(guó)平板顯示器件產(chǎn)業(yè)整體規(guī)模達(dá)到1500億元，同比增長(zhǎng)25.99%；2012-2016年國(guó)內(nèi)平板顯示增速基本保持在25%以上。此外考慮到國(guó)內(nèi)LCD國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程加速、再加上OLED滲透率有望快速提升，預(yù)計(jì)2018-2020年國(guó)內(nèi)平板顯示產(chǎn)業(yè)增速將至少維持在20-25%；對(duì)應(yīng)到國(guó)內(nèi)顯示靶材的需求也將相應(yīng)增加。靶材應(yīng)用的戰(zhàn)略高地17-20年全球半導(dǎo)體增速有望超預(yù)期，17年國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體增速24.81%。半導(dǎo)體靶材性

27、能要求位居各類應(yīng)用之首。半導(dǎo)體行業(yè)所需濺射靶材主要用于晶圓制造材料和封裝測(cè)試材料。芯片制造對(duì)濺射靶材純度要求很高，通常需達(dá)99.9995%（5N5）甚至99.9999%（6N）以上。2017全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)超預(yù)期增速21.62%，從下游需求結(jié)構(gòu)看，17年增長(zhǎng)主要源于半導(dǎo)體的主要應(yīng)用是集成電路中的存儲(chǔ)器，增速達(dá)到61.49%，增量來源于人工智能、大數(shù)據(jù)、汽車電子等領(lǐng)域?qū)Ω咝阅苄酒枨罂焖偬嵘?。?5年開始國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)維持20%左右增速，漸成常態(tài)。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)從臺(tái)灣向國(guó)內(nèi)轉(zhuǎn)移的趨勢(shì)比較確定，國(guó)內(nèi)政策、資金、稅收等各方面也在扶持半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)基金第一期規(guī)模1,387億元。，至少帶動(dòng)省市地

28、方基金共4,651億元，拉動(dòng)國(guó)內(nèi)企業(yè)內(nèi)生增長(zhǎng)和海外并購。未來第二期基金計(jì)劃啟動(dòng)，也將持續(xù)拉動(dòng)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)增長(zhǎng)。2011-2016全球半導(dǎo)體用靶材年復(fù)合增長(zhǎng)率3.17%，預(yù)計(jì)2018-2020國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體靶材需求增速在20%左右。國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SEMI)全球半導(dǎo)體用濺射靶材銷售額從2011年的10.1億美元到2016年為11.7億美元，年均復(fù)合增長(zhǎng)率為3.17%，其中晶圓制造用濺射靶材年均復(fù)合增長(zhǎng)率為2.07%，封裝測(cè)試用濺射靶材年均復(fù)合增長(zhǎng)率為4.65%。2016年我國(guó)集成電路用濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模約14億元，年增速達(dá)20%。供給端，隨著國(guó)產(chǎn)濺射靶材技術(shù)成熟，尤其是國(guó)產(chǎn)濺射靶材具備一定性價(jià)比

29、優(yōu)勢(shì)，并且符合濺射靶材國(guó)產(chǎn)化的政策導(dǎo)向；需求端，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向國(guó)內(nèi)轉(zhuǎn)移的趨勢(shì)已基本確立，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)崛起將推動(dòng)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體靶材需求的提升。預(yù)計(jì)2018-2020年我國(guó)濺射靶材的市場(chǎng)規(guī)模有望持續(xù)擴(kuò)大，復(fù)合增速將維持在2016年20%左右增速水平。2011-2016全球太陽能用靶材增速保持20%以上。太陽能光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展給太陽能電池用濺射靶材市場(chǎng)帶來了可觀的成長(zhǎng)空間，2016年全球太陽能電池用濺射靶材市場(chǎng)規(guī)模23.4億美元，在全球靶材市場(chǎng)中占比約21%。2011-2016年全球太陽能靶材規(guī)模增速一直保持在20%以上。國(guó)內(nèi)靶材需求和供給反差懸殊，國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程加速。2015國(guó)內(nèi)靶材需求全球占比近25

30、%，年速約20%；但國(guó)內(nèi)靶材企業(yè)市場(chǎng)份額不到2%，供需比例反差明顯。隨著國(guó)內(nèi)濺射靶材技術(shù)的成熟和高純鋁生產(chǎn)技術(shù)的提高，我國(guó)靶材生產(chǎn)成本優(yōu)勢(shì)明顯，靶材原料之一高純鋁的國(guó)內(nèi)進(jìn)出口量差距也在逐步縮小。隨著2019年國(guó)家進(jìn)口靶材免稅期結(jié)束，國(guó)內(nèi)靶材企業(yè)優(yōu)勢(shì)更加突出。預(yù)計(jì)2018-2020年國(guó)內(nèi)靶材需求將維持20%以上高速增長(zhǎng)，市場(chǎng)份額有望進(jìn)一步擴(kuò)大。 第四章 項(xiàng)目市場(chǎng)空間分析一、靶材行業(yè)分析超大規(guī)模集成電路制造過程中要反復(fù)用到的濺射（Sputtering）工藝屬于物理氣相沉積（PVD）技術(shù)的一種，是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在高真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流

31、，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。一般來說，濺射靶材主要由靶坯、背板等部分構(gòu)成，其中，靶坯是高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料，屬于濺射靶材的核心部分，在濺射鍍膜過程中，靶坯被離子撞擊后，其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜；由于高純度金屬強(qiáng)度較低，而濺射靶材需要安裝在專用的機(jī)臺(tái)內(nèi)完成濺射過程，機(jī)臺(tái)內(nèi)部為高電壓、高真空環(huán)境，因此，超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進(jìn)行接合，背板起到主要起到固定濺射靶材的作用，且需要具備良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中，半導(dǎo)

32、體芯片對(duì)濺射靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn)，需要掌握生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過長(zhǎng)期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品，因此，半導(dǎo)體芯片對(duì)濺射靶材的要求是最高的，價(jià)格也最為昂貴；相較于半導(dǎo)體芯片，平面顯示器、太陽能電池對(duì)于濺射靶材的純度和技術(shù)要求略低一籌，但隨著靶材尺寸的增大，對(duì)濺射靶材的焊接結(jié)合率、平整度等指標(biāo)提出了更高的要求。此外，濺射靶材需要安裝在濺射機(jī)臺(tái)內(nèi)完成濺射過程，濺射機(jī)臺(tái)專用性強(qiáng)，對(duì)濺射靶材的形狀、尺寸和精度也設(shè)定了諸多限制。高純度乃至超高純度的金屬材料是生產(chǎn)高純?yōu)R射靶材的基礎(chǔ)，以半導(dǎo)體芯片用濺射靶材為例，若濺射靶材雜質(zhì)含量過高，則形成的薄膜無法達(dá)到使用所

33、要求的電性能，并且在濺射過程中易在晶圓上形成微粒，導(dǎo)致電路短路或損壞，嚴(yán)重影響薄膜的性能。通常情況下，高純金屬提純分為化學(xué)提純和物理提純，為了獲得更高純度的金屬材料，最大限度地去除雜質(zhì)，需要將化學(xué)提純和物理提純結(jié)合使用。在將金屬提純到相當(dāng)高的純度后，往往還需配比其他金屬元素才能投入使用，在這個(gè)過程中，需要經(jīng)過熔煉、合金化和鑄造等步驟：通過精煉高純金屬，去除氧氣、氮?dú)獾榷嘤鄽怏w；再加入少量合金元素，使其與高純金屬充分結(jié)合并均勻分布；最后將其鑄造成沒有缺陷的錠材，滿足生產(chǎn)加工過程中對(duì)金屬成份、尺寸大小的要求。濺射靶材制造環(huán)節(jié)首先需要根據(jù)下游應(yīng)用領(lǐng)域的性能需求進(jìn)行工藝設(shè)計(jì)，然后進(jìn)行反復(fù)的塑性變形、熱

34、處理，需要精確地控制晶粒、晶向等關(guān)鍵指標(biāo)，再經(jīng)過焊接、機(jī)械加工、清洗干燥、真空包裝等工序。濺射靶材制造所涉及的工序精細(xì)且繁多，工序流程管理及制造工藝水平將直接影響到濺射靶材的質(zhì)量和良品率。濺射鍍膜是指物體被離子撞擊時(shí)，被濺射飛散出，因被濺射飛散的物體附著于目標(biāo)基板上而制成薄膜的過程，濺射靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。此環(huán)節(jié)是在濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈條中對(duì)生產(chǎn)設(shè)備及技術(shù)工藝要求最高的環(huán)節(jié)，濺射薄膜的品質(zhì)對(duì)下游產(chǎn)品的質(zhì)量具有重要影響。在濺射鍍膜過程中，濺射靶材需要安裝在機(jī)臺(tái)中完成濺射反應(yīng)，濺射機(jī)臺(tái)專用性強(qiáng)、精密度高，市場(chǎng)長(zhǎng)期被美國(guó)、日本跨國(guó)集團(tuán)壟斷，主要設(shè)備提供商包括AMAT（美國(guó)）、ULVAC（日

35、本）、ANELVA（日本）、Varian（美國(guó)）等行業(yè)內(nèi)知名企業(yè)。終端應(yīng)用是針對(duì)各類市場(chǎng)需求利用封裝好的元器件制成面向最終用戶的產(chǎn)品，包括汽車電子、智能手機(jī)、平板電腦、家用電器等終端消費(fèi)電子產(chǎn)品。通常情況下，在半導(dǎo)體靶材濺射鍍膜后，需要將鍍膜硅片切割并進(jìn)行芯片封裝。封裝是指將電路用導(dǎo)線連接到外部接頭處，以便與其他器件連接的工序，不僅能夠起到保護(hù)芯片的作用，還將芯片與外界隔離，防止空氣中的雜質(zhì)對(duì)芯片電路造成腐蝕而損害導(dǎo)電性能。此外，終端應(yīng)用也包括制備太陽能電池、光學(xué)鍍膜、工具改性、高檔裝飾用品等，此環(huán)節(jié)技術(shù)面較寬，呈現(xiàn)多樣化特征。全球范圍內(nèi)，濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)參與企業(yè)數(shù)量基本呈金字塔型分布，高

36、純?yōu)R射靶材制造環(huán)節(jié)技術(shù)門檻高、設(shè)備投資大，具有規(guī)模化生產(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對(duì)較少，主要分布在美國(guó)、日本等國(guó)家和地區(qū)，其中，部分企業(yè)同時(shí)開展金屬提純業(yè)務(wù)，將產(chǎn)業(yè)鏈延伸到上游領(lǐng)域；部分企業(yè)只擁有濺射靶材生產(chǎn)能力，高純度金屬需要上游企業(yè)供應(yīng)。濺射靶材最高端的應(yīng)用是在超大規(guī)模集成電路芯片制造領(lǐng)域，這個(gè)領(lǐng)域只有美國(guó)和日本的少數(shù)公司（日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯等）從事相關(guān)業(yè)務(wù)，是一個(gè)被跨國(guó)公司壟斷的行業(yè)。作為濺射靶材客戶端的濺射鍍膜環(huán)節(jié)具有規(guī)?；a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對(duì)較多，但質(zhì)量參差不齊，美國(guó)、歐洲、日本、韓國(guó)等知名企業(yè)居于技術(shù)領(lǐng)先地位，品牌知名度高、市場(chǎng)影響力大，通常會(huì)將產(chǎn)業(yè)鏈擴(kuò)展至下游應(yīng)用領(lǐng)域，

37、利用技術(shù)先導(dǎo)優(yōu)勢(shì)和高端品牌迅速占領(lǐng)終端消費(fèi)市場(chǎng)，如IBM、飛利浦、東芝、三星等。終端應(yīng)用環(huán)節(jié)是整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈中規(guī)模最大的領(lǐng)域，其產(chǎn)品的開發(fā)與生產(chǎn)分散在各個(gè)行業(yè)領(lǐng)域，同時(shí)，此環(huán)節(jié)具有突出的勞動(dòng)密集性特點(diǎn)，參與企業(yè)數(shù)量最多，機(jī)器設(shè)備投資一般，主要分布在日本、中國(guó)臺(tái)灣和中國(guó)大陸等，并逐漸將生產(chǎn)工廠向人力成本低的國(guó)家和地區(qū)轉(zhuǎn)移。濺射靶材產(chǎn)業(yè)分布具有一定的區(qū)域性特征，美國(guó)、日本跨國(guó)集團(tuán)產(chǎn)業(yè)鏈完整，囊括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用各個(gè)環(huán)節(jié)，具備規(guī)?；a(chǎn)能力，在掌握先進(jìn)技術(shù)以后實(shí)施壟斷和封鎖，主導(dǎo)著技術(shù)革新和產(chǎn)業(yè)發(fā)展；韓國(guó)、新加坡及中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)在磁記錄及光學(xué)薄膜領(lǐng)域有所特長(zhǎng)。另外由于上述地區(qū)芯片及液

38、晶面板產(chǎn)業(yè)發(fā)展較早，促使服務(wù)分工明確，可以為產(chǎn)業(yè)鏈下游的品牌企業(yè)提供如焊接、清洗、包裝等專業(yè)代工服務(wù)，將上游基礎(chǔ)材料和下游終端應(yīng)用對(duì)接，起到承上啟下的作用，并在一定程度上推動(dòng)上游濺射靶材的產(chǎn)品開發(fā)和市場(chǎng)擴(kuò)展。但是上述地區(qū)的靶材服務(wù)廠商缺少核心技術(shù)及裝備，不能夠在金屬的提純、組織的控制等核心技術(shù)領(lǐng)域形成競(jìng)爭(zhēng)力濺射靶材的材料即靶坯依然依賴美國(guó)和日本的進(jìn)口。超高純金屬材料及濺射靶材在我國(guó)還屬于較新的行業(yè)，以芯片制造廠商、液晶面板制造企業(yè)為代表的下游濺射鍍膜和終端用戶正在加大力度擴(kuò)展產(chǎn)能。從全球來看，芯片及液晶面板行業(yè)制造向中國(guó)大陸轉(zhuǎn)移趨勢(shì)愈演愈烈，中國(guó)正在迎來這一領(lǐng)域的投資高峰。為此高端濺射靶材的應(yīng)

39、用市場(chǎng)需求正在快速增長(zhǎng)。由于濺射鍍膜工藝起源于國(guó)外，所需要的濺射靶材產(chǎn)品性能要求高、專業(yè)應(yīng)用性強(qiáng)，因此，長(zhǎng)期以來全球?yàn)R射靶材研制和生產(chǎn)主要集中在美國(guó)、日本少數(shù)幾家公司，產(chǎn)業(yè)集中度相當(dāng)高。以霍尼韋爾（美國(guó)）、日礦金屬（日本）、東曹（日本）等跨國(guó)集團(tuán)為代表的濺射靶材生產(chǎn)商較早涉足該領(lǐng)域，經(jīng)過幾十年的技術(shù)積淀，憑借其雄厚的技術(shù)力量、精細(xì)的生產(chǎn)控制和過硬的產(chǎn)品質(zhì)量居于全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)的主導(dǎo)地位，占據(jù)絕大部分市場(chǎng)份額。這些企業(yè)在掌握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術(shù)以后，實(shí)施極其嚴(yán)格的保密措施，限制技術(shù)擴(kuò)散，同時(shí)不斷進(jìn)行橫向擴(kuò)張和垂直整合，將業(yè)務(wù)觸角積極擴(kuò)展到濺射鍍膜的各個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域，牢牢把握著全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)的主動(dòng)

40、權(quán)，并引領(lǐng)著全球?yàn)R射靶材行業(yè)的技術(shù)進(jìn)步。受到發(fā)展歷史和技術(shù)限制的影響，濺射靶材行業(yè)在我國(guó)起步較晚，目前仍然屬于一個(gè)較新的行業(yè)。與國(guó)際知名企業(yè)生產(chǎn)的濺射靶材相比，我國(guó)濺射靶材研發(fā)生產(chǎn)技術(shù)還存在一定差距，市場(chǎng)影響力相對(duì)有限，尤其在半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽能電池等領(lǐng)域，全球高純?yōu)R射靶材市場(chǎng)依然被美國(guó)、日本的濺射靶材生產(chǎn)廠商所控制或壟斷。隨著濺射靶材朝著更高純度、更大尺寸的方向發(fā)展，我國(guó)濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)只有不斷進(jìn)行研發(fā)創(chuàng)新，具備較強(qiáng)的產(chǎn)品開發(fā)能力，研制出適用不同應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材產(chǎn)品，才能在全球?yàn)R射靶材市場(chǎng)中占得一席之地。半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽能電池等下游工業(yè)對(duì)產(chǎn)品的品質(zhì)和穩(wěn)定性等方面有較高

41、的要求，為了嚴(yán)格控制產(chǎn)品質(zhì)量，下游客戶尤其是全球知名廠商在選擇供應(yīng)商時(shí)，供應(yīng)商資格認(rèn)證壁壘較高，且認(rèn)證周期較長(zhǎng)。我國(guó)高純?yōu)R射靶材企業(yè)要進(jìn)入國(guó)際市場(chǎng)，首先要通過部分國(guó)際組織和行業(yè)協(xié)會(huì)為高純?yōu)R射靶材設(shè)置的行業(yè)性質(zhì)量管理體系標(biāo)準(zhǔn)，例如，應(yīng)用于汽車電子的半導(dǎo)體廠商普遍要求上游濺射靶材供應(yīng)商能夠通過ISO/TS16949質(zhì)量管理體系認(rèn)證，應(yīng)用于電器設(shè)備的濺射靶材生產(chǎn)商需要滿足歐盟制定的RoHS強(qiáng)制性標(biāo)準(zhǔn)；其次，半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽能電池等下游知名客戶均建立了十分完善的客戶認(rèn)證體系，在高純?yōu)R射靶材供應(yīng)商滿足行業(yè)性質(zhì)量管理體系認(rèn)證的基礎(chǔ)上，下游客戶往往還會(huì)根據(jù)自身的質(zhì)量管理要求再對(duì)供應(yīng)商進(jìn)行合格供應(yīng)

42、商認(rèn)證。認(rèn)證過程主要包括技術(shù)評(píng)審、產(chǎn)品報(bào)價(jià)、樣品檢測(cè)、小批量試用、批量生產(chǎn)等幾個(gè)階段，認(rèn)證過程相當(dāng)苛刻，從新產(chǎn)品開發(fā)到實(shí)現(xiàn)大批量供貨，整個(gè)過程一般需要2-3年時(shí)間。為了降低供應(yīng)商開發(fā)與維護(hù)成本，保證產(chǎn)品質(zhì)量的持續(xù)性，濺射靶材供應(yīng)商在通過下游客戶的資格認(rèn)證后，下游客戶會(huì)與濺射靶材供應(yīng)商保持長(zhǎng)期穩(wěn)定的合作關(guān)系，不會(huì)輕易更換供應(yīng)商，并在技術(shù)合作、供貨份額等方面向優(yōu)質(zhì)供應(yīng)商傾斜。近年來，受益于國(guó)家從戰(zhàn)略高度持續(xù)地支持電子材料行業(yè)的發(fā)展及應(yīng)用推廣，我國(guó)國(guó)內(nèi)開始出現(xiàn)不少專業(yè)從事高純?yōu)R射靶材研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè)，并成功開發(fā)出一批能適應(yīng)高端應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材，為高純?yōu)R射靶材大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化提供了良好的研發(fā)基礎(chǔ)和市場(chǎng)化

43、條件。通過將濺射靶材研發(fā)成果產(chǎn)業(yè)化，積極參與濺射靶材的國(guó)際化市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)，我國(guó)濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)在技術(shù)和市場(chǎng)方面都取得了長(zhǎng)足的進(jìn)步，改變了高純?yōu)R射靶材長(zhǎng)期依賴進(jìn)口的不利局面。目前，包括長(zhǎng)沙鑫康在內(nèi)的一些國(guó)內(nèi)企業(yè)已經(jīng)掌握了高純?yōu)R射靶材生產(chǎn)的關(guān)鍵技術(shù)，積累了較為豐富的產(chǎn)業(yè)經(jīng)驗(yàn)，擁有了一定的市場(chǎng)知名度，獲得了全球知名客戶的認(rèn)可。二、靶材市場(chǎng)分析預(yù)測(cè)靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)息息相關(guān)，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn)，靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡(jiǎn)單說的話，靶材就是高速荷

44、能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(zhǎng)的激光與不同的靶材相互作用時(shí)，會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等)，即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導(dǎo)體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如LCD

45、、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計(jì)算機(jī)的顯示器制造;在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲(chǔ)器的存儲(chǔ)容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對(duì)所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。日本。就美國(guó)而言.約有50家中小規(guī)模的靶材制造商及經(jīng)銷商，其中最大的公司員工大約有幾百人。不過為了能更接近使用者，以便提供更完善的售后服務(wù)，全球主要靶材制造商通常會(huì)在客戶所在地設(shè)立分公司。近段時(shí)間，亞洲的一些國(guó)家和地區(qū)，如臺(tái)灣.韓國(guó)和新加坡，就建立了越來越多制造薄膜元件或產(chǎn)品的工廠，如IC、液晶顯示器及光碟制造廠。對(duì)靶材廠商而言，這是相當(dāng)重要的新興市場(chǎng)。中國(guó)靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展也是

46、與日俱增，不斷的擴(kuò)大自己的規(guī)模和生產(chǎn)技術(shù)，國(guó)內(nèi)一線生產(chǎn)制造靶材的品牌已經(jīng)達(dá)到國(guó)外最頂尖的技術(shù)水平。2010年，日本三菱公司就在中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)建立了光碟塒靶材的生產(chǎn)基地，可以滿足臺(tái)灣50%的靶材需要。BCC(BusinessCommunicationsCompany，商業(yè)咨詢公司)最新的統(tǒng)計(jì)報(bào)告指出，全球靶材市場(chǎng)將以8.8%的年平均增長(zhǎng)率(AAGR)在今后的5年內(nèi)持續(xù)增長(zhǎng)，估計(jì)銷售額將從1999年的7.2億美元增加到2004年的11億美元。靶材是一種具有高附加價(jià)值的特種電子材料，主要使用在微電子，顯示器，存儲(chǔ)器以及光學(xué)鍍膜等產(chǎn)業(yè)上，用以濺射用于尖端技術(shù)的各種薄膜材料。BCC的報(bào)告顯示：全球的上述產(chǎn)

47、業(yè)在1999年使用了2.88百萬公斤靶材。換算為面積，則濺射了363百萬平方米的薄膜。而若以單位靶材來計(jì)算，全球在1999年則大約使用了37400單位的靶材。這里所要指出的是，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的不同，靶材的形狀與大小也有所差異，其直徑從15Gm到3m都有，而上述的統(tǒng)計(jì)資料，則是平均化后的結(jié)果。在所有應(yīng)用產(chǎn)業(yè)中，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是最苛刻的。如今12英寸(300衄口)的硅晶片已制造出來.而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對(duì)靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細(xì)晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。靶材的結(jié)晶粒子直徑和均勻性已被認(rèn)為是影響薄膜沉積率的關(guān)鍵因素。另外，薄膜的純度與

48、靶材的純度關(guān)系極大，過去99.995%(4N5)純度的銅靶，或許能夠滿足半導(dǎo)體廠商0.35pm工藝的需求，但是卻無法滿足如今0.25um的工藝要求，而未米的0.18um藝甚至0.13m工藝，所需要的靶材純度將要求達(dá)到5甚至6N以上。平面顯示器(FPD)這些年來大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機(jī)市場(chǎng)，亦將帶動(dòng)ITO靶材的技術(shù)與市場(chǎng)需求。如今的iTO靶材有兩種.一種是采用納米狀態(tài)的氧化銦和氧化錫粉混合后燒結(jié)，一種是采用銦錫合金靶材。銦錫合金靶材可以采用直流反應(yīng)濺射制造ITO薄膜，但是靶表面會(huì)氧化而影響濺射率，并且不易得到大尺寸的臺(tái)金靶材。如今一般采取第一種方法生產(chǎn)ITO靶材，利

49、用LIRF反應(yīng)濺射鍍膜.靶材具有沉積速度快.且能精確控制膜厚，電導(dǎo)率高，薄膜的一致性好，與基板的附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)l。但是靶材制作困難，這是因?yàn)檠趸熀脱趸a不容易燒結(jié)在一起。一般采用ZrO2、Bi2O3、CeO等作為燒結(jié)添加劑，能夠獲得密度為理論值的93%98%的靶材，這種方式形成的ITO薄膜的性能與添加劑的關(guān)系極大。在儲(chǔ)存技術(shù)方面，高密度、大容量硬盤的發(fā)展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，CoFCu多層復(fù)合膜是如今應(yīng)用廣泛的巨磁阻薄膜結(jié)構(gòu)。磁光盤需要的TbFeCo合金靶材還在進(jìn)一步發(fā)展，用它制造的磁光盤具有存儲(chǔ)容量大，壽命長(zhǎng)，可反復(fù)無接觸擦寫的特點(diǎn)。如今開發(fā)出來的磁光盤，具有TbFeCo/Ta和Tb

50、FeCo/Al的層復(fù)合膜結(jié)構(gòu)，TbFeCo/AI結(jié)構(gòu)的Kerr旋轉(zhuǎn)角達(dá)到58，而TbFeCofFa則可以接近0.8。經(jīng)過研究發(fā)現(xiàn)，低磁導(dǎo)率的靶材高交流局部放電電壓l抗電強(qiáng)度?；阪N銻碲化物的相變存儲(chǔ)器(PCM)顯示出顯著的商業(yè)化潛力,是NOR型閃存和部分DRAM市場(chǎng)的一項(xiàng)替代性存儲(chǔ)器技術(shù)，不過,在實(shí)現(xiàn)更快速地按比例縮小的道路上存在的挑戰(zhàn)之一,便是缺乏能夠生產(chǎn)可進(jìn)一步調(diào)低復(fù)位電流的完全密閉單元。降低復(fù)位電流可降低存儲(chǔ)器的耗電量,延長(zhǎng)電池壽命和提高數(shù)據(jù)帶寬,這對(duì)于當(dāng)前以數(shù)據(jù)為中心的、高度便攜式的消費(fèi)設(shè)備來說都是很重要的特征。 第五章 項(xiàng)目規(guī)劃分析一、產(chǎn)品規(guī)劃項(xiàng)目主要產(chǎn)品為靶材，根據(jù)市場(chǎng)情況，預(yù)計(jì)年

51、產(chǎn)值46705.00萬元。進(jìn)入二十一世紀(jì)以來，隨著我國(guó)國(guó)民經(jīng)濟(jì)的快速持續(xù)發(fā)展，經(jīng)濟(jì)建設(shè)提出了走新型工業(yè)化發(fā)展道路的目標(biāo)，國(guó)家出臺(tái)并實(shí)施了加快經(jīng)濟(jì)發(fā)展的一系列政策，對(duì)于相關(guān)行業(yè)來說，調(diào)整產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)、提高管理水平、籌措發(fā)展資金、參與國(guó)際分工，都將起到積極的推動(dòng)作用，尤其是隨著我國(guó)國(guó)民經(jīng)濟(jì)逐漸融入全球經(jīng)濟(jì)大循環(huán)，各行各業(yè)面臨市場(chǎng)國(guó)際化，相應(yīng)企業(yè)將面對(duì)極具技術(shù)優(yōu)勢(shì)、管理優(yōu)勢(shì)、品牌優(yōu)勢(shì)的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手，市場(chǎng)份額將會(huì)形成新的分配格局。二、建設(shè)規(guī)模（一）用地規(guī)模該項(xiàng)目總征地面積47563.77平方米（折合約71.31畝），其中：凈用地面積47563.77平方米（紅線范圍折合約71.31畝）。項(xiàng)目規(guī)劃總建筑面積532

52、71.42平方米，其中：規(guī)劃建設(shè)主體工程38432.74平方米，計(jì)容建筑面積53271.42平方米；預(yù)計(jì)建筑工程投資3737.54萬元。（二）設(shè)備購置項(xiàng)目計(jì)劃購置設(shè)備共計(jì)131臺(tái)（套），設(shè)備購置費(fèi)5299.64萬元。（三）產(chǎn)能規(guī)模項(xiàng)目計(jì)劃總投資18044.43萬元；預(yù)計(jì)年實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入46705.00萬元。 第六章 項(xiàng)目選址評(píng)價(jià)一、項(xiàng)目選址該項(xiàng)目選址位于某經(jīng)濟(jì)新區(qū)。園區(qū)不斷創(chuàng)新建設(shè)發(fā)展模式。充分發(fā)揮市場(chǎng)機(jī)制作用，探索建立政府引導(dǎo)、業(yè)主開發(fā)、政企共建、項(xiàng)目先行等建設(shè)模式，積極培育1-2家具有品牌影響力和核心競(jìng)爭(zhēng)力的產(chǎn)業(yè)園區(qū)開發(fā)運(yùn)營(yíng)商和產(chǎn)業(yè)園區(qū)管理上市公司。園區(qū)招商引資要堅(jiān)持市場(chǎng)主導(dǎo)與政府引導(dǎo)相結(jié)合

53、，從政府部門主導(dǎo)招商引資向?qū)I(yè)化、市場(chǎng)化的招商引資運(yùn)作機(jī)制轉(zhuǎn)變。探索推行市縣共建，政府與企業(yè)共建，企業(yè)與企業(yè)聯(lián)建，引進(jìn)國(guó)際國(guó)內(nèi)企業(yè)承建，鼓勵(lì)社會(huì)團(tuán)體承建等多種聯(lián)建方式，實(shí)現(xiàn)資源整合、功能互補(bǔ)、人才互動(dòng)。強(qiáng)化土地集約利用，嚴(yán)格執(zhí)行土地使用標(biāo)準(zhǔn)，加強(qiáng)土地開發(fā)利用動(dòng)態(tài)監(jiān)管。對(duì)產(chǎn)業(yè)園區(qū)閑置土地進(jìn)行清理整頓，鼓勵(lì)開展產(chǎn)業(yè)園區(qū)新增用地的前期開發(fā)和存量用地的二次開發(fā)，鼓勵(lì)對(duì)現(xiàn)有工業(yè)用地通過追加投資、轉(zhuǎn)型改造，提高單位土地面積投資強(qiáng)度和使用效率。未來園區(qū)將依托自身優(yōu)勢(shì)，擴(kuò)大對(duì)外合作，建設(shè)高端裝備制造集群、民生產(chǎn)業(yè)集群以及商貿(mào)物流為主的現(xiàn)代服務(wù)業(yè)”構(gòu)成的“1+3+1”的現(xiàn)代產(chǎn)業(yè)體系，預(yù)計(jì)到2020年，園區(qū)產(chǎn)值達(dá)

54、到1000億元以上，成為區(qū)域內(nèi)有重要影響的千億級(jí)特色園區(qū)。浙江，簡(jiǎn)稱浙，是中華人民共和國(guó)省級(jí)行政區(qū)。省會(huì)杭州，位于中國(guó)東南沿海，浙江界于東經(jīng)1180112310，北緯27023111之間，東臨東海，南接福建，西與安徽、江西相連，北與上海、江蘇接壤，境內(nèi)最大的河流錢塘江，因江流曲折，稱之江，又稱浙江，省以江名，簡(jiǎn)稱浙。浙江省總面積10.55萬平方千米。浙江地勢(shì)由西南向東北傾斜，地形復(fù)雜。山脈自西南向東北成大致平行的三支。地跨錢塘江、甌江、靈江、苕溪、甬江、飛云江、鰲江、曹娥江八大水系，由平原、丘陵、盆地、山地、島嶼構(gòu)成。浙江省地處亞熱帶中部，屬季風(fēng)性濕潤(rùn)氣候，自然條件較優(yōu)越。截至2018年底，浙

55、江省下轄11個(gè)省轄市（其中兩個(gè)副省級(jí)市），20個(gè)縣級(jí)市，32個(gè)縣，1個(gè)自治縣，37個(gè)市轄區(qū)。2019年，浙江生產(chǎn)總值（GD）為62352億元（合9039億美元），按可比價(jià)格計(jì)算，比上年增長(zhǎng)6.8%。其中，第一產(chǎn)業(yè)增加值2097億元，增長(zhǎng)2.0%；第二產(chǎn)業(yè)增加值26567億元，增長(zhǎng)5.9%；第三產(chǎn)業(yè)增加值33688億元，增長(zhǎng)7.8%。人均GD為107624元，合15601美元。2019年10月，入選國(guó)家數(shù)字經(jīng)濟(jì)創(chuàng)新發(fā)展試驗(yàn)區(qū)。場(chǎng)址應(yīng)靠近交通運(yùn)輸主干道，具備便利的交通條件，有利于原料和產(chǎn)成品的運(yùn)輸，同時(shí)，通訊便捷有利于及時(shí)反饋產(chǎn)品市場(chǎng)信息。投資項(xiàng)目對(duì)其生產(chǎn)工藝流程、設(shè)施布置等都有較為嚴(yán)格的標(biāo)準(zhǔn)化要

56、求，為了更好地發(fā)揮其經(jīng)濟(jì)效益并綜合考慮環(huán)境等多方面的因素，根據(jù)項(xiàng)目選址的一般原則和項(xiàng)目建設(shè)地的實(shí)際情況，該項(xiàng)目選址應(yīng)遵循以下基本原則的要求。對(duì)各種設(shè)施用地進(jìn)行統(tǒng)籌安排，提高土地綜合利用效率，同時(shí)，采用先進(jìn)的工藝技術(shù)和設(shè)備，達(dá)到“節(jié)約能源、節(jié)約土地資源”的目的。項(xiàng)目承辦單位現(xiàn)有資產(chǎn)運(yùn)營(yíng)優(yōu)良，財(cái)務(wù)管理制度健全且完善，企業(yè)的資金雄厚，憑借優(yōu)異的產(chǎn)品質(zhì)量、嚴(yán)謹(jǐn)科學(xué)的管理和靈活通暢的銷售網(wǎng)絡(luò)，連年實(shí)現(xiàn)盈利，能夠?yàn)轫?xiàng)目建設(shè)提供充足的計(jì)劃自籌資金。項(xiàng)目周邊市場(chǎng)存在著巨大的項(xiàng)目產(chǎn)品需求空間，與此同時(shí)，項(xiàng)目建設(shè)地也成為資本市場(chǎng)追逐的熱點(diǎn)，而且項(xiàng)目已經(jīng)列入當(dāng)?shù)亟?jīng)濟(jì)總體發(fā)展規(guī)劃和項(xiàng)目建設(shè)地發(fā)展規(guī)劃，符合地區(qū)規(guī)劃要求。隨著互聯(lián)網(wǎng)的發(fā)展網(wǎng)上交易給項(xiàng)目承辦單位搭建了很好的發(fā)展平臺(tái)，目前，很多公司都已經(jīng)不是以前傳統(tǒng)銷售方式，僅僅依靠一家供應(yīng)商供貨，而是充分加強(qiáng)網(wǎng)絡(luò)在市場(chǎng)營(yíng)銷的應(yīng)用，這就給公司創(chuàng)造了新的發(fā)展空間；憑著公司產(chǎn)品良好的性價(jià)比和穩(wěn)定的質(zhì)量，通過開展網(wǎng)上銷售，完善電子商務(wù)會(huì)進(jìn)