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文檔簡(jiǎn)介
Home2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)與PN結(jié)2.2半導(dǎo)體二極管及應(yīng)用內(nèi)容簡(jiǎn)介小結(jié)2.3特殊半導(dǎo)體二極管2.半導(dǎo)體二極管及其應(yīng)用
本章簡(jiǎn)要地介紹半導(dǎo)體的基礎(chǔ)知識(shí),討論半導(dǎo)體的核心環(huán)節(jié)—PN結(jié),闡述了半導(dǎo)體二極管的工作原理、特性曲線和主要參數(shù)以及二極管基本電路和分析方法。Home內(nèi)容簡(jiǎn)介2.半導(dǎo)體二極管及其應(yīng)用Home1.半導(dǎo)體材料根據(jù)物體導(dǎo)電能力(電阻率)的不同,來劃分導(dǎo)體、絕緣體和半導(dǎo)體。
導(dǎo)體:ρ<10-4Ω·cm
絕緣體:ρ>109Ω·cm
半導(dǎo)體:導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體和絕緣體之間。
Next2.半導(dǎo)體的晶體結(jié)構(gòu)典型的元素半導(dǎo)體有硅Si和鍺Ge,此外,還有化合物半導(dǎo)體砷化鎵GaAs等。2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)13.本征半導(dǎo)體
本征半導(dǎo)體:化學(xué)成分純凈、結(jié)構(gòu)完整的半導(dǎo)體。它在物理結(jié)構(gòu)上呈單晶體形態(tài)。
半導(dǎo)體的導(dǎo)電性能是由其原子結(jié)構(gòu)決定的,就元素半導(dǎo)體硅和鍺而言,其原子序數(shù)分別為14和32,但它們有一個(gè)共同的特點(diǎn):即原子最外層的電子(價(jià)電子)數(shù)均為4,其原子結(jié)構(gòu)和晶體結(jié)構(gòu)如圖2.1.1所示。Back2
:受溫度、光照等環(huán)境因素的影響,半導(dǎo)體共價(jià)鍵中的價(jià)電子獲得足夠的能量而掙脫共價(jià)鍵的束縛,成為自由電子的現(xiàn)象,稱之為本征激發(fā)(熱激發(fā))(見圖2.1.2)。本征激發(fā)(熱激發(fā))HomeNext2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)
電子空穴對(duì):由本征激發(fā)(熱激發(fā))而產(chǎn)生的自由電子和空穴總是成對(duì)出現(xiàn)的,稱為電子空穴對(duì)。所以,在本征半導(dǎo)體中:ni=pi
(ni-自由電子的濃度;pi-空穴的濃度)。
空穴:共價(jià)鍵中的空位。3
K1—常數(shù),硅為3.8710-6K-3/2/cm3,鍺為1.7610-6K-3/2/cm3
;T—熱力學(xué)溫度;EGO—禁帶寬度,硅為1.21eV,鍺為0.785eV;k—波耳茲曼常數(shù),8.6310-5eV/K。(e—單位電荷,eV=J)BackHomeNext2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)
載流子:能夠參與導(dǎo)電的帶電粒子。
:如圖2.1.3所示。從圖中可以看出,空穴可以看成是一個(gè)帶正電的粒子,和自由電子一樣,可以在晶體中自由移動(dòng),在外加電場(chǎng)下,形成定向運(yùn)動(dòng),從而產(chǎn)生電流。所以,在半導(dǎo)體中具有兩種載流子:自由電子和空穴。半導(dǎo)體中載流子的移動(dòng)4
(1)兩種載流子的產(chǎn)生與復(fù)合,在一定溫度下達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡,則ni=pi的值一定;(2)ni與pi的值與溫度有關(guān),對(duì)于硅材料,大約溫度每升高8oC,ni或pi增加一倍;對(duì)于鍺材料,大約溫度每升高12oC,ni或pi增加一倍。BackHomeNext2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)4.雜質(zhì)半導(dǎo)體
雜質(zhì)半導(dǎo)體:在本征半導(dǎo)體中參入微量的雜質(zhì)形成的半導(dǎo)體。根據(jù)參雜元素的性質(zhì),雜質(zhì)半導(dǎo)體分為P型(空穴型)半導(dǎo)體和N型(電子型)半導(dǎo)體。由于參雜的影響,會(huì)使半導(dǎo)體的導(dǎo)電性能發(fā)生顯著的改變。
:在本征半導(dǎo)體中參入微量三價(jià)元素的雜質(zhì)形成的半導(dǎo)體,其共價(jià)鍵結(jié)構(gòu)如圖2.1.4所示。常用的三價(jià)元素的雜質(zhì)有硼、銦等。P型半導(dǎo)體5BackHomeNext2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)
受主雜質(zhì):因?yàn)槿齼r(jià)元素的雜質(zhì)在半導(dǎo)體中能夠接受電子,故稱之為受主雜質(zhì)或P型雜質(zhì)。
多子與少子:P型半導(dǎo)體在產(chǎn)生空穴的同時(shí),并不產(chǎn)生新的自由電子,所以控制參雜的濃度,便可控制空穴的數(shù)量。在P型半導(dǎo)體中,空穴的濃度遠(yuǎn)大于自由電子的濃度,稱之為多數(shù)載流子,簡(jiǎn)稱多子;而自由電子為少數(shù)載流子,簡(jiǎn)稱少子。
:既然P型半導(dǎo)體的多數(shù)載流子是空穴,少數(shù)載流子是自由電子,所以,P型半導(dǎo)體帶正電。此說法正確嗎?思考題6BackHomeNext2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)
:在本征半導(dǎo)體中參入微量五價(jià)元素的雜質(zhì)形成的半導(dǎo)體,其共價(jià)鍵結(jié)構(gòu)如圖2.1.5所示。常用的五價(jià)元素的雜質(zhì)有磷、砷和銻等。N型半導(dǎo)體
施主雜質(zhì):因?yàn)槲鍍r(jià)元素的雜質(zhì)在半導(dǎo)體中能夠產(chǎn)生多余的電子,故稱之為施主雜質(zhì)或N型雜質(zhì)。在N型半導(dǎo)體中,自由電子為多數(shù)載流子,而空穴為少數(shù)載流子。7BackHomeNext2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)
綜上所述,在雜質(zhì)半導(dǎo)體中,因?yàn)閰㈦s,載流子的數(shù)量比本征半導(dǎo)體有相當(dāng)程度的增加,盡管參雜的含量很小,但對(duì)半導(dǎo)體的導(dǎo)電能力影響卻很大,使之成為提高半導(dǎo)體導(dǎo)電性能最有效的方法。
摻雜對(duì)本征半導(dǎo)體的導(dǎo)電性的影響,其典型數(shù)據(jù)如下:T=300K室溫下,本征硅的電子和空穴濃度:
ni=pi=1.4×1010/cm3
摻雜后N型半導(dǎo)體中的自由電子濃度:
ni=5×1016/cm3
本征硅的原子濃度:4.96×1022/cm3
以上三個(gè)濃度基本上依次相差106/cm3
。8BackHomeNext2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)小結(jié)
本講主要介紹了下列半導(dǎo)體的基本概念:本征半導(dǎo)體本征激發(fā)、空穴、載流子雜質(zhì)半導(dǎo)體
P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體受主雜質(zhì)、施主雜質(zhì)、多子、少子9BackHomeNext2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)二.PN結(jié)的單向?qū)щ娦?/p>
正偏與反偏:當(dāng)外加電壓使PN結(jié)中P區(qū)的電位高于N區(qū)的電位,稱為加正向電壓,簡(jiǎn)稱正偏;反之稱為加反向電壓,簡(jiǎn)稱反偏。一.PN結(jié)的形成在一塊本征半導(dǎo)體在兩側(cè)通過擴(kuò)散不同的雜質(zhì),分別形成P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體。此時(shí)將在P型半導(dǎo)體和N型半導(dǎo)體的結(jié)合面上形成的物理過程示意圖如圖2.1.6所示。5.PN結(jié)
10BackHomeNext2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)PN結(jié)加正向電壓
PN結(jié)加正向電壓時(shí),呈現(xiàn)低電阻,具有較大的正向擴(kuò)散電流,PN結(jié)導(dǎo)通。其示意圖如圖2.1.7所示。112.PN結(jié)加反向電壓
PN結(jié)加反向電壓時(shí),呈現(xiàn)高電阻,具有很小的反向漂移電流,PN結(jié)截止。其示意圖如圖2.1.8所示。3.PN結(jié)的單向?qū)щ娦?/p>
PN結(jié)加正向電壓(正偏)時(shí)導(dǎo)通;加反向電壓(反偏)時(shí)截止的特性,稱為PN結(jié)的單向?qū)щ娦?。BackHomeNext2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)三.PN結(jié)的特性曲線
1.PN結(jié)的V-I特性表達(dá)式式中,IS—反向飽和電流;n
—發(fā)射系數(shù),與PN結(jié)的的尺寸、材料等有關(guān),其值為1~2;VT—溫度的電壓當(dāng)量,且在常溫下(T=300K):VT=kT/q=0.026V=26mV13BackHomeNext2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)2.PN結(jié)的正向特性
死區(qū)電壓Vth硅材料為0.5V左右;鍺材料為0.1V左右。
導(dǎo)通電壓Von硅材料為0.6~0.7V左右;鍺材料為0.2~0.3V左右。Is=10-8AVT=26mVn=2死區(qū)電壓導(dǎo)通電壓圖2.1.9PN結(jié)的正向特性14BackHomeNext2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)3.PN結(jié)的反向特性
反向電流:在一定溫度下,少子的濃度一定,當(dāng)反向電壓達(dá)到一定值后,反向電流IR
即為反向飽和電流IS,基本保持不變。
反向電流受溫度的影響大。-IS圖2.1.10PN結(jié)的反向特性鍺管硅管15BackHomeNext2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)4.PN結(jié)的反向擊穿特性
反向擊穿:當(dāng)反向電壓達(dá)到一定數(shù)值時(shí),反向電流急劇增加的現(xiàn)象稱為反向擊穿(電擊穿)。若不加限流措施,PN結(jié)將過熱而損壞,此稱為熱擊穿。電擊穿是可逆的,而熱擊穿是不可逆的,應(yīng)該避免。圖2.1.11PN結(jié)的反向擊穿特性VBR16BackHomeNext2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)
反向擊穿分為雪崩擊穿和齊納擊穿兩種類型。
雪崩擊穿:當(dāng)反向電壓增加時(shí),空間電荷區(qū)的電場(chǎng)隨之增強(qiáng),使通過空間電荷區(qū)的電子和空穴獲得的能量增大,當(dāng)它們與晶體中的原子發(fā)生碰撞時(shí),足夠大的能量將導(dǎo)致碰撞電離。而新產(chǎn)生的電子-空穴對(duì)在電場(chǎng)的作用下,同樣會(huì)與晶體中的原子發(fā)生碰撞電離,再產(chǎn)生新的電子-空穴對(duì),形成載流子的倍增效應(yīng)。當(dāng)反向電壓增加到一定數(shù)值時(shí),這種情況就象發(fā)生雪崩一樣,載流子增加得多而快,使反向電流急劇增加,于是導(dǎo)致了PN結(jié)的雪崩擊穿。
齊納擊穿:齊納擊穿的機(jī)理與雪崩擊穿不同。在較高的反向電壓作用下,空間電荷區(qū)的電場(chǎng)變成強(qiáng)電場(chǎng),有足夠的能力破壞共價(jià)鍵,使束縛在共價(jià)鍵中的電子掙脫束縛而形成電子-空穴對(duì),造成載流子數(shù)目的急劇增加,從而導(dǎo)致了PN結(jié)的齊納擊穿。17BackHomeNext2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)四.PN結(jié)的電容效應(yīng)1.勢(shì)壘電容Cb圖2.1.12勢(shì)壘電容示意圖18PN結(jié)外加電壓變化,空間電荷區(qū)的寬度將隨之變化,即耗盡層的電荷量隨外加電壓增加或減少,呈現(xiàn)出電容充放電的性質(zhì),其等效的電容稱之為勢(shì)壘電容Cb。當(dāng)PN結(jié)加反向電壓時(shí),Cb明顯隨外加電壓變化,利用該特性可以制成各種變?nèi)荻O管。BackHomeNext2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)2.擴(kuò)散電容Cd圖2.1.13擴(kuò)散電容示意圖19PN結(jié)外加正向電壓變化,擴(kuò)散區(qū)的非平衡少子的數(shù)量將隨之變化,擴(kuò)散區(qū)內(nèi)電荷的積累與釋放過程,呈現(xiàn)出電容充放電的性質(zhì),其等效的電容稱之為擴(kuò)散電容Cd。
結(jié)電容Cj=Cb+Cd
反偏時(shí),勢(shì)壘電容Cb為主;正偏時(shí),擴(kuò)散電容Cd為主。低頻時(shí)忽略,只有頻率較高時(shí)才考慮結(jié)電容的作用。BackHomeNext2.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)小結(jié)
本講主要介紹了以下基本內(nèi)容:
PN結(jié)形成:擴(kuò)散、復(fù)合、空間電荷區(qū)(耗盡層、勢(shì)壘區(qū)、阻擋層、內(nèi)建電場(chǎng))、動(dòng)態(tài)平衡
PN結(jié)的單向?qū)щ娦裕赫珜?dǎo)通、反偏截止
PN結(jié)的特性曲線:正向特性:死區(qū)電壓、導(dǎo)通電壓反向特性:反向飽和電流、溫度影響大擊穿特性:電擊穿(雪崩擊穿、齊納擊穿)、熱擊穿
PN結(jié)的電容效應(yīng):勢(shì)壘電容、擴(kuò)散電容HomeBack202.1半導(dǎo)體基礎(chǔ)及PN結(jié)2.2半導(dǎo)體二極管11.半導(dǎo)體二極管的結(jié)構(gòu)在PN結(jié)上加上引線和封裝,就成為一個(gè)二極管。二極管按結(jié)構(gòu)分有點(diǎn)接觸型、面接觸型和平面型三大類。一.點(diǎn)接觸型二極管PN結(jié)面積小,結(jié)電容小,用于檢波和變頻等高頻電路。(a)點(diǎn)接觸型
圖2.2.1二極管的結(jié)構(gòu)示意圖HomeNext二.面接觸型二極管PN結(jié)面積大,用于工頻大電流整流電路。(b)面接觸型圖2.2.1二極管的結(jié)構(gòu)示意圖2BackHomeNext2.2半導(dǎo)體二極管三.平面型二極管
往往用于集成電路制造藝中。PN結(jié)面積可大可小,用于高頻整流和開關(guān)電路中。(c)平面型圖2.2.1二極管的結(jié)構(gòu)示意圖陰極引線陽極引線PNP型支持襯底3BackHomeNext2.2半導(dǎo)體二極管四.二極管的圖形符號(hào)圖2.2.2二極管的符號(hào)k陰極陽極a2.半導(dǎo)體二極管的V-I特性二極管的特性與PN結(jié)的特性基本相同,也分正向特性、反向特性和擊穿特性。其差別在于二極管存在體電阻和引線電阻,在電流相同的情況下,其壓降大于PN結(jié)的壓降。在此不再贅述。4BackHomeNext2.2半導(dǎo)體二極管圖2.2.3半導(dǎo)體二極管圖片5BackHomeNext2.2半導(dǎo)體二極管3.半導(dǎo)體二極管的參數(shù)
(1)最大整流電流IF(2)反向擊穿電壓VBR和最大反向工作電壓VR(3)反向電流IR(4)正向壓降VF(5)最高工作頻率fM圖2.2.4二極管的高頻等效道路6(6)結(jié)電容Cj
:如何用萬用表的“
”檔來辨別一只二極管的陽極、陰極以及二極管的好壞?思考題BackHomeNext2.2半導(dǎo)體二極管74.二極管的等效模型電路(1)理想模型圖2.2.5二極管的理想等效模型正偏時(shí):uD=0,RD=0;反偏時(shí):iD=0,RD=
。相當(dāng)于一理想電子開關(guān)。BackHomeNext2.2半導(dǎo)體二極管(2)恒壓降模型
正偏時(shí):uD=Uon,RD=0;
反偏時(shí):iD=0,RD=
。相當(dāng)于一理想電子開關(guān)和恒壓源的串聯(lián)。8BackHomeNext圖2.2.6二極管的恒壓降等效模型uD>Uon2.2半導(dǎo)體二極管(3)折線型模型
正偏時(shí):uD=iDrD+UTH;
反偏時(shí):iD=0,RD=
。相當(dāng)于一理想電子開關(guān)、恒壓源和電阻的串聯(lián)。9BackHomeNext圖1.2.7二極管的折線型等效模型uD>UTH2.2半導(dǎo)體二極管(4)小信號(hào)模型二極管工作在正向特性的某一小范圍內(nèi)時(shí),其正向特性可以等效成一個(gè)微變電阻。即根據(jù)得Q點(diǎn)處的微變電導(dǎo)則常溫下(T=300K)圖2.2.8二極管的小信號(hào)等效模型10BackHomeNext2.2半導(dǎo)體二極管115.二極管基本電路及模型分析法(1)二極管的靜態(tài)工作情況分析ID+VD--R10K
+VDD—20VID+VD--R10K
+VDD—20VID+VD--R10K
+VDD—20V+Von—(a)原電路(b)理想模型電路(c)恒壓降模型電路圖2.2.9例1.2.1的電路圖解:(1)理想模型,VD=0,則(2)恒壓降模型,VD=0.7V,則例2.2.1
求圖2.2.9(a)所示電路的硅二極管電流ID和電壓VD。BackHomeNext2.2半導(dǎo)體二極管(2)二極管限幅電路解:請(qǐng)觀看仿真波形!ID+vo--R10K
+vi—20V圖2.2.10例1.2.2電路圖VREF
例2.2.2
如圖2.2.10所示電路。試畫出VREF分別為0、10V時(shí)的波形。其中vi=20sintV。(3)二極管開關(guān)電路
例2.2.3
如圖2.2.11所示電路。試求VI1、VI2為0和+5V時(shí)V0的值。R10K
V0Vcc+5V圖2.2.11例1.2.3電路圖VI1VI2D1D2000+5V000+5V+5V0+5V+5VV0VI1
VI2
12BackHomeNext2.2半導(dǎo)體二極管(1)穩(wěn)壓二極管的伏安特性
穩(wěn)定電壓VZ
穩(wěn)定電流IZ(IZmin、IZmin)
額定功耗PZM
動(dòng)態(tài)電阻rZ
溫度系數(shù)
圖2.2.12穩(wěn)壓管的伏安特性2.3特殊半導(dǎo)體二極管131.穩(wěn)壓二極管(2)穩(wěn)壓二極管的主要參數(shù)
利用二極管反向擊穿特性實(shí)現(xiàn)穩(wěn)壓。穩(wěn)壓二極管穩(wěn)壓時(shí)工作在反向電擊穿狀態(tài)。其伏安特性如圖1.2.12所示。Back
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