2019生態(tài)環(huán)境狀況評價(jià)技術(shù)規(guī)范 電子工業(yè)

排污許可證申請與核發(fā)技術(shù)規(guī)范電子工業(yè)ii目 次前言 ii適用范圍 1規(guī)范性引用文件 1術(shù)語和定義 2排污單位基本情況填報(bào)要求 3產(chǎn)排污環(huán)節(jié)對應(yīng)排放口及許可排放限值確定方法 15污染防治可行技術(shù)要求 20自行監(jiān)測管理要求 21環(huán)境管理臺賬記錄與排污許可證執(zhí)行報(bào)告編制要求 25實(shí)際排放量核算方法 28合規(guī)判定方法 32附 錄 A（資料性附錄）電子工業(yè)產(chǎn)品名稱參考表 35附 錄 B（資料性附錄）廢氣和廢水防治可行技術(shù)參考表 39附 錄 C（資料性附錄）環(huán)境管理臺賬記錄參考表 43附 錄 D（資料性附錄）排污許可證年度執(zhí)行報(bào)告表格形式（重點(diǎn)管理） 48附 錄 E（資料性附錄）排污許可證年度執(zhí)行報(bào)告表格形式（簡化管理） 63附 錄 F（資料性附錄）揮發(fā)性有機(jī)物實(shí)際排放量計(jì)算推薦性方法 7311排污許可證申請與核發(fā)技術(shù)規(guī)范 電子工業(yè)適用范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)排污單位排污許可證申請與核發(fā)的基本情況填報(bào)要求、許可排放限值確定、實(shí)際排放量核算和合規(guī)判定的方法，以及自行監(jiān)測、環(huán)境管理臺賬與排污許可證執(zhí)行報(bào)告等環(huán)境管理要求，本標(biāo)準(zhǔn)適用于電子工業(yè)排污單位排放大氣污染物、水污染物的排污許可管理。有電鍍工序的電子工業(yè)排污單位，適用于本標(biāo)準(zhǔn)。電子工業(yè)排污單位中，執(zhí)行《鍋爐大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB13271）的生產(chǎn)設(shè)施和排放口，適用于《排污許可證申請與核發(fā)技術(shù)規(guī)范（HJ95。本標(biāo)準(zhǔn)未做規(guī)定但排放工業(yè)廢水、廢氣或者國家規(guī)定的有毒有害污染物的電子工業(yè)排污單位其他產(chǎn)污設(shè)施和排放口，參照《排污許可證申請與核發(fā)技術(shù)規(guī)范總則》（HJ942）執(zhí)行。規(guī)范性引用文件本標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容引用了下列文件或者其中的條款。凡是不注日期的引用文件，其有效版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。GB8978 污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)GB13271 鍋爐大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)GB/T16157 固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態(tài)污染物采樣方法GB16297 大氣污染物綜合排放標(biāo)準(zhǔn)GB18597 危險(xiǎn)廢物貯存污染控制標(biāo)準(zhǔn)GB37822 揮發(fā)性有機(jī)物無組織排放控制標(biāo)準(zhǔn)GB□□ 電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)HJ/T55 大氣污染物無組織排放監(jiān)測技術(shù)導(dǎo)則HJ/T91 地表水和污水監(jiān)測技術(shù)規(guī)范HJ/T298 危險(xiǎn)廢物鑒別技術(shù)規(guī)范HJ/T353 水污染源在線監(jiān)測系統(tǒng)安裝技術(shù)規(guī)范（試行）HJ/T354 水污染源在線監(jiān)測系統(tǒng)驗(yàn)收技術(shù)規(guī)范（試行）HJ/T355 水污染源在線監(jiān)測系統(tǒng)運(yùn)行與考核技術(shù)規(guī)范（試行）HJ/T356 水污染源在線監(jiān)測系統(tǒng)數(shù)據(jù)有效性判別技術(shù)規(guī)范（試行）HJ/T373 固定污染源監(jiān)測質(zhì)量保證與質(zhì)量控制技術(shù)規(guī)范（試行）HJ/T397 固定源廢氣監(jiān)測技術(shù)規(guī)范22HJ493 HJ494 HJ495 HJ521 廢水排放規(guī)律代碼(試行)HJ608 排污單位編碼規(guī)則HJ732 HJ819 HJ942 排污許可證申請與核發(fā)技術(shù)規(guī)范總則HJ944 排污單位環(huán)境管理臺賬及排污許可證執(zhí)行報(bào)告技術(shù)規(guī)范總則（試行）HJ953 排污許可證申請與核發(fā)技術(shù)規(guī)范鍋爐《國務(wù)院關(guān)于印發(fā)打贏藍(lán)天保衛(wèi)戰(zhàn)三年行動計(jì)劃的通知》（國發(fā)〔2018〕22號）《國務(wù)院關(guān)于印發(fā)“十三五”生態(tài)環(huán)境保護(hù)規(guī)劃的通知》（國發(fā)〔2016〕65號））《國家危險(xiǎn)廢物名錄》（環(huán)境保護(hù)部令第39號）《有毒有害大氣污染物名錄》（生態(tài)環(huán)境部公告2019年第4號）（環(huán)境保護(hù)部2018年第9號）《優(yōu)先控制化學(xué)品名錄（第一批（201783號）《關(guān)于執(zhí)行大氣污染物特別排放限值的公告》（環(huán)境保護(hù)部公告2013年第14號）《揮發(fā)性有機(jī)物（VOCs）污染防治技術(shù)政策》（環(huán)境保護(hù)部公告2013年第31號）《關(guān)于加強(qiáng)固定污染源氮磷污染防治的通知》（環(huán)水體〔2018〕16號）《關(guān)于執(zhí)行大氣污染物特別排放限值有關(guān)問題的復(fù)函》（環(huán)辦大氣函〔2016〕1087號）《污染源自動監(jiān)控設(shè)施運(yùn)行管理辦法》（環(huán)發(fā)〔2008〕6號）《排污口規(guī)范化整治技術(shù)要求（試行（環(huán)監(jiān)〔1996〕470號）《固定污染源排污許可分類管理名錄》術(shù)語和定義下列術(shù)語和定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)。electronicsindustrypollutantemissionunit指從事生產(chǎn)計(jì)算機(jī)、電子器件、電子元件及電子專用材料、其他電子設(shè)備的排污單位。computermanufacturingpollutantemissionunit指從事生產(chǎn)計(jì)算機(jī)整機(jī)、計(jì)算機(jī)零部件、計(jì)算機(jī)外圍設(shè)備、工業(yè)控制計(jì)算機(jī)及系統(tǒng)、信息安全設(shè)備以及其他計(jì)算機(jī)的排污單位。electronicdevicemanufacturingpollutantemissionunit指從事生產(chǎn)電子真空器件、半導(dǎo)體分立器件、集成電路、顯示器件、半導(dǎo)體照明器件、光電子器件以及其他電子器件的排污單位。electroniccomponentmanufacturingpollutantemissionunit指從事生產(chǎn)電阻電容電感元件、電子電路、敏感元件及傳感器、電聲器件及零件以及其他電子元件的排污單位。specialelectronicmaterialmanufacturingpollutantemissionunit指從事生產(chǎn)用于電子元器件、組件及系統(tǒng)制備的專用電子功能材料、互聯(lián)與封裝材料、工藝與輔助材料的排污單位。otherelectronicterminalmanufacturingpollutantemissionunit指從事生產(chǎn)電子（氣）物理設(shè)備以及其他未列明的電子設(shè)備的排污單位。permittedemissionlimits指排污許可證中規(guī)定的允許電子工業(yè)排污單位排放的污染物最大排放濃度（速率）和排放量。specialperiods指根據(jù)地方政府依法制定的環(huán)境質(zhì)量限期達(dá)標(biāo)規(guī)劃或者其他相關(guān)環(huán)境管理規(guī)定，對電子工業(yè)排污單位的污染物排放有特殊要求的時(shí)段，包括重污染天氣應(yīng)對期間及冬防等。volatileorganiccompounds（VOCs）指參與大氣光化學(xué)反應(yīng)的有機(jī)化合物，或者根據(jù)有關(guān)規(guī)定確定的有機(jī)化合物。本標(biāo)準(zhǔn)用非甲烷總烴作為揮發(fā)性有機(jī)物排放的綜合控制指標(biāo)。待《電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施后，從其規(guī)定。排污單位基本情況填報(bào)要求基本原則電子工業(yè)排污單位應(yīng)按照本標(biāo)準(zhǔn)要求，在全國排污許可證管理信息平臺申報(bào)系統(tǒng)填報(bào)相應(yīng)信息表。填報(bào)系統(tǒng)未包括的、地方生態(tài)環(huán)境主管部門有規(guī)定需要填報(bào)或者電子工業(yè)排污單位認(rèn)為需要填報(bào)的，可自行增加內(nèi)容。設(shè)區(qū)的市級以上地方生態(tài)環(huán)境主管部門可以根據(jù)環(huán)境保護(hù)地方性法規(guī)，增加需要在排污許可證中載明的內(nèi)容，并填入全國排污許可證管理信息平臺申報(bào)系統(tǒng)中“有核發(fā)權(quán)的地方生態(tài)環(huán)境主管部門增加的管理內(nèi)容”一欄。排污單位基本信息電子工業(yè)排污單位的基本信息應(yīng)填報(bào)申報(bào)單位名稱、是否需要改正、排污許可證管理類別、郵政編碼、行業(yè)類別、是否投產(chǎn)及投產(chǎn)日期、生產(chǎn)經(jīng)營場所中心經(jīng)緯度、所在地是否屬于環(huán)境敏感區(qū)（如大氣重點(diǎn)控制區(qū)域、總磷總氮控制區(qū)等、是否位于工業(yè)園區(qū)及所屬工業(yè)園區(qū)名稱、環(huán)境影響評價(jià)審批文號（備案編號、地方政府對違規(guī)項(xiàng)目的認(rèn)定或者備案文件文號、主要污染物總量控制指標(biāo)分配計(jì)劃文件文號，顆粒物總量指標(biāo)（a、二氧化硫總量指標(biāo)（a、氮氧化物總量指標(biāo)（a、揮發(fā)性有機(jī)物（VOs）總量指標(biāo)（a、化學(xué)需氧量總量指標(biāo)（a、氨氮總量指標(biāo)（a、涉及的其他污染物總量指標(biāo)等。344填報(bào)行業(yè)類別時(shí)，生產(chǎn)計(jì)算機(jī)整機(jī)、計(jì)算機(jī)零部件、計(jì)算機(jī)外圍設(shè)備、工業(yè)控制計(jì)算機(jī)及系統(tǒng)、信息安全設(shè)備、其他計(jì)算機(jī)等的電子工業(yè)排污單位應(yīng)選擇計(jì)算機(jī)制造（國民經(jīng)濟(jì)代碼391，生產(chǎn)電子真空器件、半導(dǎo)體分立器件、集成電路、顯示器件、半導(dǎo)體照明器件、光電子器件等的電子工業(yè)排污單位應(yīng)選擇電子器件制造（國民經(jīng)濟(jì)代碼397，生產(chǎn)電阻電容電感元件、電子電路、敏感元件及傳感器、電聲器件及零件、電子專用材料等的電子工業(yè)排污單位應(yīng)選擇電子元件及電子專用材料制造（國民經(jīng)濟(jì)代碼39，生產(chǎn)其他電子設(shè)備的電子工業(yè)排污單位應(yīng)選擇其他電子設(shè)備制造（國民經(jīng)濟(jì)代碼39。主要產(chǎn)品及產(chǎn)能一般原則電子工業(yè)排污單位在填報(bào)“主要產(chǎn)品及產(chǎn)能”時(shí)，按照所屬行業(yè)類別，填報(bào)主要生產(chǎn)單元名稱、主要工藝名稱、生產(chǎn)設(shè)施名稱、生產(chǎn)設(shè)施編號、設(shè)施參數(shù)、產(chǎn)品名稱、生產(chǎn)能力、計(jì)量單位、設(shè)計(jì)年生產(chǎn)時(shí)間及其他。以下“4.3.～4.364.3.”為選填項(xiàng)。主要生產(chǎn)單元、主要工藝及生產(chǎn)設(shè)施名稱1-1~1-5填報(bào)主要生產(chǎn)單元、主要工藝及生產(chǎn)設(shè)施名稱、設(shè)施參數(shù)等內(nèi)容。同類型設(shè)施填報(bào)單臺設(shè)施參數(shù)及設(shè)施數(shù)量。1-1行業(yè)類別主要生產(chǎn)單元主要工藝生產(chǎn)設(shè)施設(shè)施參數(shù)單位計(jì)算機(jī)制造排污單位、其他電子設(shè)備制造排污單位電路板三防涂覆生產(chǎn)線涂覆涂覆機(jī)涂覆速度mm/min噴漆生產(chǎn)線噴漆噴漆設(shè)備噴漆量L/min烘干烘干設(shè)備烘干速度個/min注塑生產(chǎn)線注塑注塑機(jī)注塑量kg/min電鍍生產(chǎn)線電鍍電鍍設(shè)備電鍍速度m2/min注：表中未列明的主要生產(chǎn)單元、主要工藝、生產(chǎn)設(shè)施按實(shí)際生產(chǎn)自行填報(bào)，表中所列內(nèi)容在實(shí)際生產(chǎn)中未涉及的可不填；設(shè)施參數(shù)按設(shè)計(jì)產(chǎn)能填報(bào)。表1-2電子器件制造排污單位主要生產(chǎn)單元、主要工藝及生產(chǎn)設(shè)施名稱一覽表行業(yè)類別主要生產(chǎn)單元主要工藝生產(chǎn)設(shè)施設(shè)施參數(shù)單位電子真空器件制造排污單位零件處理清洗清洗機(jī)清洗劑量L/h表面涂覆有機(jī)涂覆涂覆機(jī)鍍膜速度個/h電鍍電鍍設(shè)備電鍍速度個/h半導(dǎo)體分立器件制造、集成電路制造、半導(dǎo)體照明器件制造、光電子器件制造、其他電子器件制造排污單位清洗清洗清洗機(jī)清洗劑量L/h薄膜制備化學(xué)氣相沉積化學(xué)氣相沉積設(shè)備鍍膜速度片/h光刻涂布涂膠機(jī)涂膠速度片/h曝光光刻機(jī)光刻速度片/h顯影顯影機(jī)顯影速度片/h刻蝕濕法刻蝕濕法刻蝕機(jī)刻蝕速度片/h干法刻蝕干法刻蝕機(jī)刻蝕速度片/h銅制程銅制程銅制程機(jī)處理量片/h封裝引腳電鍍電鍍設(shè)備電鍍速度個/h55行業(yè)類別主要生產(chǎn)單元主要工藝生產(chǎn)設(shè)施設(shè)施參數(shù)單位塑封+烘烤塑封壓機(jī)、烤箱處理量個/h顯示器件制造排污單位陣列清洗清洗機(jī)清洗劑量L/h化學(xué)氣相沉積化學(xué)氣相沉積設(shè)備鍍膜速度片/h涂膠涂膠機(jī)涂膠速度片/h光刻光刻機(jī)光刻速度片/h顯影顯影機(jī)顯影速度片/h濕法刻蝕濕法刻蝕機(jī)刻蝕速度片/h干法刻蝕干法刻蝕機(jī)刻蝕速度片/h剝離剝離設(shè)備處理量片/h彩膜清洗清洗機(jī)清洗劑量L/h涂膠涂膠機(jī)涂膠速度片/h光刻光刻機(jī)光刻速度片/h顯影顯影機(jī)顯影速度片/h剝離ITO剝離設(shè)備、RGB剝離設(shè)備處理量片/h成盒清洗清洗機(jī)清洗劑量L/h封框涂膠封框涂膠機(jī)涂膠速度片/h蒸鍍掩模版清洗清洗機(jī)清洗劑量L/h化學(xué)氣相沉積化學(xué)氣相沉積設(shè)備鍍膜速度片/h注：表中未列明的主要生產(chǎn)單元、主要工藝、生產(chǎn)設(shè)施按實(shí)際生產(chǎn)自行填報(bào)，表中所列內(nèi)容在實(shí)際生產(chǎn)中未涉及的可不填；設(shè)施參數(shù)按設(shè)計(jì)產(chǎn)能填報(bào)。表1-3電子元件制造排污單位主要生產(chǎn)單元、主要工藝及生產(chǎn)設(shè)施名稱一覽表行業(yè)類別主要生產(chǎn)單元主要工藝生產(chǎn)設(shè)施設(shè)施參數(shù)單位電阻電容電感元件制造、敏感元件及傳感器制造、電聲器件及零件制造、其他電子元件制造排污單位原料系統(tǒng)開料、修邊機(jī)床開料量m2/h混合混合混合機(jī)混合速度只/h成型成型成型機(jī)成型速度只/h印刷印刷印刷機(jī)印刷速度只/h研磨研磨研磨機(jī)研磨速度只/h清洗清洗清洗機(jī)清洗速度只/h烘干/燒成烘干/燒成烘干/燒成爐烘干/燒成速度只/h電鍍電鍍鍍鎳/鍍錫設(shè)備電鍍速度只/h涂覆涂覆涂覆機(jī)涂覆速度只/min點(diǎn)膠點(diǎn)膠點(diǎn)膠機(jī)點(diǎn)膠速度只/min電子電路制造排污單位原料系統(tǒng)開料剪板機(jī)開料量m2/h清洗表面清洗內(nèi)層磨板機(jī)、噴砂機(jī)磨板速度m2/h化學(xué)清洗清洗機(jī)清洗速度m2/h線路制作底片制作底片制作設(shè)備底片制作速度m2/h涂膠涂膠機(jī)涂膠速度m2/h顯影顯影機(jī)顯影速度m2/h刻蝕刻蝕機(jī)刻蝕速度m2/h退膜退膜機(jī)退膜速度m2/h棕化氧化棕化線棕化速度m2/h鉆孔鉆孔鉆孔機(jī)鉆孔速度孔/h電鍍鍍銅/鍍錫鍍銅/鍍錫設(shè)備鍍銅/鍍錫速度m2/h退錫退錫設(shè)備退錫速度m2/h66行業(yè)類別主要生產(chǎn)單元主要工藝生產(chǎn)設(shè)施設(shè)施參數(shù)單位防焊印刷防焊印刷防焊印刷設(shè)備防焊印刷速度m2/h表面處理表面處理噴錫設(shè)備噴錫速度m2/h沉銅/銀/鎳/金設(shè)備沉銅/銀/鎳/度m2/h成型成型成型機(jī)成型速度m2/h有機(jī)涂覆有機(jī)涂覆涂覆機(jī)涂覆速度m2/h注：表中未列明的主要生產(chǎn)單元、主要工藝、生產(chǎn)設(shè)施，排污單位實(shí)際生產(chǎn)自行填報(bào)，表中所列內(nèi)容在實(shí)際生產(chǎn)中未涉及的可不填；設(shè)施參數(shù)按設(shè)計(jì)產(chǎn)能填報(bào)。表1-4電子專用材料制造排污單位主要生產(chǎn)單元、主要工藝及生產(chǎn)設(shè)施名稱一覽表行業(yè)類別主要生產(chǎn)單元主要工藝生產(chǎn)設(shè)施設(shè)施參數(shù)單位電子功能材料制造排污單位刻蝕刻蝕刻蝕機(jī)刻蝕速度只/h電蝕電蝕腐蝕機(jī)電蝕速度m2/h互聯(lián)與封裝材料制造排污單位合成與配置合成與配置反應(yīng)釜熟化時(shí)間h上膠上膠上膠機(jī)上膠速度m/min烘干烘干烘干機(jī)烘干速度臺/min清洗清洗清洗機(jī)清洗劑量kg/min表面處理電鍍鍍銅/鋅/鉻設(shè)備鍍銅/鋅/鉻速度m2/h有機(jī)涂覆有機(jī)涂覆涂覆機(jī)涂覆速度m2/h工藝與輔助材料制造排污單位配料投料、混合熔化坩堝處理量kg/h粉碎粉碎粉碎機(jī)處理量kg/h研磨研磨磨砂機(jī)、三輥研磨機(jī)處理量kg/h注：表中未列明的主要生產(chǎn)單元、主要工藝、生產(chǎn)設(shè)施按實(shí)際生產(chǎn)自行填報(bào)，表中所列內(nèi)容在實(shí)際生產(chǎn)中未涉及的可不填；設(shè)施參數(shù)按設(shè)計(jì)產(chǎn)能填報(bào)。表1-5電子工業(yè)排污單位公用工程、環(huán)保工程設(shè)施及設(shè)施參數(shù)表主要單元生產(chǎn)設(shè)施設(shè)施參數(shù)單位公用工程供水系統(tǒng)純水制備與供應(yīng)設(shè)施處理水量m3/h去離子水制備與供應(yīng)設(shè)施超純水制備與供應(yīng)設(shè)施軟化水制備與供應(yīng)設(shè)施環(huán)保工程污水處理系統(tǒng)車間廢水處理設(shè)施設(shè)計(jì)處理能力m3/h廠區(qū)廢水處理設(shè)施廢氣處理系統(tǒng)酸/堿/有機(jī)/含塵廢氣處理系統(tǒng)注：表中未列明的主要單元、生產(chǎn)設(shè)施按實(shí)際生產(chǎn)自行填報(bào)，表中所列內(nèi)容在實(shí)際生產(chǎn)中未涉及的可不填；設(shè)施參數(shù)按設(shè)計(jì)能力填報(bào)。生產(chǎn)設(shè)施編號電子工業(yè)排污單位填報(bào)內(nèi)部生產(chǎn)設(shè)施編號，若排污單位無內(nèi)部生產(chǎn)設(shè)施編號，則根據(jù)HJ608進(jìn)行編號并填報(bào)。產(chǎn)品名稱產(chǎn)品名稱填報(bào)參見資料性附錄A。生產(chǎn)能力及計(jì)量單位生產(chǎn)能力為主要產(chǎn)品設(shè)計(jì)產(chǎn)能，不包括國家或者地方政府明確規(guī)定予以淘汰或者取締的產(chǎn)能。沒有設(shè)計(jì)產(chǎn)能數(shù)據(jù)時(shí)，以近三年實(shí)際產(chǎn)量均值計(jì)算。計(jì)算機(jī)整機(jī)、計(jì)算機(jī)零部件、計(jì)算機(jī)外圍設(shè)備、工業(yè)控制計(jì)算機(jī)及系統(tǒng)、信息安全設(shè)備、其他計(jì)算機(jī)的產(chǎn)能單位為臺（套、個）/a；電子真空器件、半導(dǎo)體分立器件、集成電路、顯示器件、半導(dǎo)體照明器件、光電子器件、其他電子器件的產(chǎn)能單位為片（m2、個）/a；電阻電容電感元件、敏感元件及傳感器、電聲器件及零件的產(chǎn)能單位為萬只/am2/akg（只）/a；其他電子設(shè)備的產(chǎn)能單位為臺（套、個）/a。設(shè)計(jì)年生產(chǎn)時(shí)間按環(huán)境影響評價(jià)文件及審批意見或者地方政府對違規(guī)項(xiàng)目的認(rèn)定或者備案文件中的年生產(chǎn)時(shí)間填報(bào)。若無相關(guān)文件或者文件中未明確生產(chǎn)時(shí)間，則按實(shí)際生產(chǎn)時(shí)間填報(bào)。其他電子工業(yè)排污單位如有需要說明的內(nèi)容，可填報(bào)。主要原輔材料及燃料一般原則主要原輔材料及燃料應(yīng)填報(bào)與產(chǎn)排污相關(guān)的主要原輔材料及燃料種類、設(shè)計(jì)年使用量及計(jì)量單位；原輔材料中有毒有害成分及占比；燃料成分，包括灰分、硫分、揮發(fā)分、水分、熱值；其他。以下“.4.4.”為選填項(xiàng)。主要原輔料及燃料種類主要原輔料計(jì)算機(jī)制造排污單位、其他電子設(shè)備制造排污單位原料種類包括：HIPS（抗沖擊性聚苯乙烯）顆粒、ABS（丙烯腈-苯乙烯-丁二烯共聚物）顆粒、其他。輔料種類包括：油墨、油漆、固化劑、稀釋劑、化鍍劑、其他。電子器件制造排污單位原料種類包括：陰極貴金屬、熒光粉、襯底、金屬靶材、其他。輔料種類包括：光刻膠、清洗劑、稀釋劑、顯影液、刻蝕液、剝離液、特氣、其他。電子元件制造排污單位電阻電容電感元件、敏感元件及傳感器、電聲器件及零件、其他電子元件原料種類包括：鋁箔、其他。輔料種類包括：分散劑、電鍍液、環(huán)氧膠、清洗劑、其他。電子電路原料種類包括：覆銅板、銅箔、鎳片、錫條、撓性基材、其他。電子專用材料制造排污單位7原料種類包括：襯底、貴金屬、銅箔、環(huán)氧樹脂、石英、其他。輔料種類包括：研磨液、刻蝕液、電解液、清洗劑、其他。燃料種類燃料種類包括燃料油、天然氣、其他。設(shè)計(jì)年使用量及計(jì)量單位設(shè)計(jì)年使用量為與產(chǎn)能相匹配的原輔材料及燃料年使用量。主要原輔材料設(shè)計(jì)年使用量的計(jì)量單位包括：t/a、kg/a、m3/a、L/a、m2/a、片/a，燃料計(jì)量單位分別為t/a，萬t/a，Nm3/a，萬Nm3/a。主要原輔材料有毒有害成分及占比原輔材料中有毒有害成分根據(jù)GB8978中第一類污染物以及《優(yōu)先控制化學(xué)品名錄》、《有毒有害大氣污染物名錄》及其他有關(guān)文件規(guī)定確定，其占比即其在原輔材料中的含量。原輔材料中不含有毒有害物質(zhì)或者元素的可不填報(bào)。其他電子工業(yè)排污單位如有需要說明的內(nèi)容，可填報(bào)。產(chǎn)排污環(huán)節(jié)、污染物及污染治理設(shè)施一般原則廢氣產(chǎn)排污環(huán)節(jié)、污染物及污染防治設(shè)施包括生產(chǎn)設(shè)施對應(yīng)的產(chǎn)排污環(huán)節(jié)名稱、主要污染物項(xiàng)目、排放形式（有組織、無組織、污染防治設(shè)施名稱及工藝、是否為可行技術(shù)、有組織排放口編號及名稱、排放口設(shè)置是否符合要求、排放口類型。廢水產(chǎn)排污環(huán)節(jié)、污染物及污染防治設(shè)施包括廢水類別、主要污染物項(xiàng)目、污染防治設(shè)施名稱及工藝、是否為可行技術(shù)、排放去向、排放方式、排放規(guī)律、排放口編號及名稱、排放口設(shè)置是否符合要求、排放口類型。廢氣廢氣主要產(chǎn)污環(huán)節(jié)、污染物項(xiàng)目、排放形式及污染防治設(shè)施電子工業(yè)排污單位的廢氣主要產(chǎn)污環(huán)節(jié)名稱、主要污染物項(xiàng)目、排放形式及污染防治設(shè)施填報(bào)內(nèi)容見表2-1~表2-4。表中未列明的其他生產(chǎn)設(shè)施、廢氣產(chǎn)污環(huán)節(jié)、污染物項(xiàng)目、排放形式及污染防治設(shè)施由排污單位自行填報(bào)。電子工業(yè)排污單位污染控制項(xiàng)目依據(jù)GB16297確定，待《電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施后，從其規(guī)定。地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)有更嚴(yán)要求的，從其規(guī)定。899表2-1計(jì)算機(jī)制造排污單位、其他電子設(shè)備制造排污單位廢氣產(chǎn)污環(huán)節(jié)、污染物項(xiàng)目、排放形式及污染防治設(shè)施一覽表行業(yè)類別主要生產(chǎn)單元生產(chǎn)設(shè)施廢氣產(chǎn)污環(huán)節(jié)污染物項(xiàng)目排放形式污染防治設(shè)施排放口類型污染防治設(shè)施名稱及工藝是否為可行技術(shù)計(jì)算機(jī)制造排污單位、其他電子設(shè)備制造排污單位覆生產(chǎn)線、注塑生產(chǎn)線涂覆機(jī)、注塑機(jī)涂覆、注塑揮發(fā)性有機(jī)物a有組織有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)：活性炭吸附法、其他是否如采用不屬于“6污染防治可行技術(shù)要求”中的技術(shù)，應(yīng)提供相關(guān)證明材料一般排放口噴漆生產(chǎn)線噴漆設(shè)備、烘干設(shè)備噴漆、烘干揮發(fā)性有機(jī)物a、苯、甲苯、二甲苯、顆粒物有組織有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)：水簾柜+噴淋塔、水簾柜+噴淋塔+吸附法、其他主要排放口b一般排放口電鍍生產(chǎn)線電鍍設(shè)備電鍍硫酸霧、氰化氫等c有組織酸性廢氣處理系統(tǒng)：堿液噴淋洗滌吸收法、其他一般排放口a待《電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施后，從其規(guī)定。b適用于納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點(diǎn)管理的計(jì)算機(jī)制造或者其他電子設(shè)備制造排污單位的噴漆生產(chǎn)線有機(jī)廢氣排放口。c污染物項(xiàng)目依據(jù)GB16297確定，待《電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施后，從其規(guī)定。地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)有更嚴(yán)格要求的，從其規(guī)定。1010表2-2電子器件制造排污單位廢氣產(chǎn)污環(huán)節(jié)、污染物項(xiàng)目、排放形式及污染防治設(shè)施一覽表行業(yè)類別主要生產(chǎn)單元生產(chǎn)設(shè)施廢氣產(chǎn)污環(huán)節(jié)污染物項(xiàng)目排放方式污染防治設(shè)施排放口類型污染防治設(shè)施名稱及工藝是否為可行技術(shù)電子真空器件制造排污零件處理、表面涂覆清洗機(jī)、涂覆機(jī)有機(jī)溶劑清洗、有機(jī)涂覆揮發(fā)性有機(jī)物a有組織有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)：活性炭吸附法、燃燒法、濃縮+燃燒法、其他一般排放口單位表面涂覆電鍍設(shè)備電鍍硫酸霧、氰化氫有組織酸性廢氣處理系統(tǒng)：一般排放口等d堿液噴淋洗滌吸收法、其他半導(dǎo)體分立器件制造、集成電路制清洗、光刻、封裝清洗機(jī)、光刻機(jī)、顯影機(jī)、涂膠機(jī)、塑封壓機(jī)、烤箱有機(jī)溶劑清洗、光刻、塑封+烘烤揮發(fā)性有機(jī)物a有組織有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)：活性炭吸附法、燃燒法、濃縮+燃燒法、其他主要排放口b一般排放口造、半導(dǎo)體照明器件制造、光電子器件制造、其他電子器件制造排污單位是否如采用不屬于“6污染防治可行技術(shù)要求”中的技術(shù)，應(yīng)提供相關(guān)證明材料清洗、濕法刻蝕、薄膜制備清洗機(jī)、濕法刻蝕機(jī)、化學(xué)氣相沉積設(shè)備硝酸清洗、濕法刻蝕，化學(xué)氣相沉積氮氧化物有組織本地處理系統(tǒng)（POU）、酸性廢氣處理系統(tǒng)：電熱/燃燒+水洗法、堿液噴淋洗滌吸收法、其他一般排放口制備、刻蝕、封裝蝕設(shè)備、電鍍設(shè)備酸洗、堿洗、化學(xué)氣相沉積、干法刻蝕、引腳電鍍氟化物、氯化氫、氨、硫酸霧、氰化氫等d有組織本地處理系統(tǒng)（POU）、酸性處理系統(tǒng)、堿性處理系統(tǒng)：酸堿噴淋洗滌吸收法、其他一般排放口陣列、彩清洗機(jī)、光刻機(jī)、顯影機(jī)、涂膠機(jī)、剝離設(shè)備有機(jī)溶劑清洗、光刻、剝離、掩模版清洗揮發(fā)性有機(jī)物a有組織有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)：活性炭吸附法、燃燒法、濃縮+燃燒法、其他主要排放口c一般排放口顯示器件制造排污單位膜、成盒、模組、蒸鍍清洗機(jī)、濕法刻蝕機(jī)、化學(xué)氣相沉積設(shè)備硝酸清洗、濕法刻蝕、化學(xué)氣相沉積氮氧化物有組織本地處理系統(tǒng)（POU）、酸性廢氣處理系統(tǒng)：電熱/燃燒+水洗法、堿液噴淋洗滌吸收法、其他一般排放口陣列化學(xué)氣相沉積設(shè)備、濕法刻蝕機(jī)化學(xué)氣相沉積、濕法刻蝕氟化物、氯化d有組織本地處理系統(tǒng)（POU）、酸性處理系統(tǒng)、堿性處理系統(tǒng)：酸堿噴淋洗滌吸收法、其他一般排放口a待《電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施后，從其規(guī)定。b適用于納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點(diǎn)管理的集成電路制造排污單位的有機(jī)廢氣排放口。c適用于納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點(diǎn)管理的顯示器件制造排污單位的有機(jī)廢氣排放口。d污染物項(xiàng)目依據(jù)GB16297確定，待《電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施后，從其規(guī)定。地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)有更嚴(yán)格要求的，從其規(guī)定。1111表2-3電子元件制造排污單位廢氣產(chǎn)污環(huán)節(jié)、污染物項(xiàng)目、排放形式及污染防治設(shè)施一覽表行業(yè)類別主要生產(chǎn)單元生產(chǎn)設(shè)施廢氣產(chǎn)污環(huán)節(jié)污染物項(xiàng)目排放形式污染防治設(shè)施排放口類型污染防治設(shè)施名稱及工藝是否為可行性技術(shù)電阻電容電感元件制造、敏感元件及傳感器制造、電聲器件及零件制造、其他電子元件制造排污單位原料系統(tǒng)機(jī)床開料、修邊顆粒物有組織含塵廢氣處理系統(tǒng)：袋式除塵法、其他是否如采用不屬于“6污染防治可行技術(shù)要求”中的技術(shù)，應(yīng)提供相關(guān)證明材料一般排放口無組織密閉操作，廢氣收集，排至粉塵處理系統(tǒng)：布袋除塵法、其他/電鍍電鍍設(shè)備電鍍氯化氫、氨等a有組織酸性廢氣處理系統(tǒng)：堿液噴淋洗滌吸收法、其他一般排放口混合、成型、印刷、清洗、烘干/燒成、涂覆、點(diǎn)膠混合機(jī)、成型機(jī)、印刷機(jī)、清洗機(jī)、烘干機(jī)/燒成爐、涂覆機(jī)、點(diǎn)膠機(jī)混合、成型、印刷、有機(jī)溶劑清洗、烘干/燒成、表面涂覆、點(diǎn)膠揮發(fā)性有機(jī)物b、甲苯有組織有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)：活性炭吸附法、燃燒法、濃縮+燃燒法、其他一般排放口電子電路制造排污單位原料系統(tǒng)、鉆孔、成型剪板機(jī)、鉆孔機(jī)、成型機(jī)開料、鉆孔、成型顆粒物有組織含塵廢氣處理系統(tǒng)：袋式除塵、濾筒除塵、濾板式除塵、其他一般排放口無組織密閉操作，廢氣收集，排至粉塵處理系統(tǒng)：布袋除塵法、其他/電鍍、表面處理、線路制作鍍銅/鍍錫設(shè)備、退錫設(shè)備、沉銅設(shè)備、蝕刻機(jī)鍍銅/鍍錫、退錫、沉銅、蝕刻氮氧化物氯化氫、氨、硫酸霧、甲醛、氰化氫等a有組織酸性廢氣處理系統(tǒng)、堿性廢氣處理系統(tǒng)：酸堿噴淋洗滌吸收法、其他一般排放口清洗、涂覆清洗機(jī)、涂膠機(jī)、防焊印刷機(jī)、涂覆機(jī)有機(jī)溶劑清涂覆揮發(fā)性有機(jī)物b、苯有組織有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)：活性炭吸附法、燃燒法、濃縮+燃燒法、其他一般排放口a污染物項(xiàng)目依據(jù)GB16297確定，待《電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施后，從其規(guī)定。地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)有更嚴(yán)格要求的，從其規(guī)定。b待《電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施后，從其規(guī)定。1212表2-4電子專用材料制造排污單位廢氣產(chǎn)污環(huán)節(jié)、污染物項(xiàng)目、排放形式及污染防治設(shè)施一覽表行業(yè)類別主要生產(chǎn)單元生產(chǎn)設(shè)施廢氣產(chǎn)污環(huán)節(jié)污染物項(xiàng)目排放形式污染防治設(shè)施排放口類型污染防治設(shè)施名稱及工藝是否為可行性技術(shù)電子專用材料制造排污單位電子功能材料刻蝕、電蝕刻蝕機(jī)、腐蝕機(jī)刻蝕、鋁箔腐蝕氮氧化物氟化物、氯化氫、硫酸霧等a有組織酸性廢氣處理系統(tǒng)：堿液噴淋洗滌吸收法、其他是否如采用不屬于“6污染防治可行技術(shù)要求”中的技術(shù)，應(yīng)提供相關(guān)證明材料一般排放口互聯(lián)與封裝材料合成與配涂覆反應(yīng)釜、上膠覆機(jī)樹脂合成與膠液配機(jī)涂覆揮發(fā)性有機(jī)物b有組織有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)：活性炭吸附法、燃燒法、濃縮+燃燒法、其他一般排放口清洗、表面處理清洗機(jī)、鍍銅/鋅/鉻設(shè)備酸液清洗氮氧化物硫酸霧等a有組織酸性廢氣處理系統(tǒng)：堿液噴淋洗滌吸收法、其他一般排放口工藝與輔助材料配料、粉碎熔化坩堝、粉碎機(jī)投料、混合、粉碎顆粒物有組織含塵廢氣處理系統(tǒng)：布袋除塵法、其他一般排放口無組織密閉操作，廢氣收集，排至粉塵處理系統(tǒng)：布袋除塵法、其他/研磨磨砂機(jī)、三輥研磨機(jī)研磨揮發(fā)性有機(jī)物b有組織有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)：活性炭吸附法、燃燒法、其他一般排放口無組織密閉操作，廢氣收集，排至有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)：活性炭吸附法、燃燒法、其他/a污染物項(xiàng)目依據(jù)GB16297確定，待《電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施后，從其規(guī)定。地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)有更嚴(yán)格要求的，從其規(guī)定。b待《電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施后，從其規(guī)定。污染防治設(shè)施、有組織排放口編號HJ608進(jìn)行編號并填報(bào)。HJ608進(jìn)行編號后填報(bào)。排放口設(shè)置根據(jù)《排污口規(guī)范化整治技術(shù)要求（試行》、地方相關(guān)管理要求，以及電子工業(yè)排污單位執(zhí)行的污染物排放標(biāo)準(zhǔn)中有關(guān)排放口規(guī)范化設(shè)置的規(guī)定，填報(bào)廢氣排放口設(shè)置是否符合規(guī)范化要求。地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)有更嚴(yán)要求的，從其規(guī)定。排放口類型電子工業(yè)排污單位的廢氣排放口分為主要排放口和一般排放口。納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點(diǎn)管理排污單位的揮發(fā)性有機(jī)物產(chǎn)生量、排放量大的有機(jī)廢氣排放口為主要排放口。其他為一般排放口。主要排放口、一般排放口劃分詳見表2-1~表2-4。廢水廢水類別、污染物項(xiàng)目及污染防治設(shè)施3。污染物GB8978確定，待《電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施后，從其規(guī)定。地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)有更嚴(yán)格要求的，從其規(guī)定。133電子工業(yè)排污單位廢水類別、污染物項(xiàng)目及污染防治設(shè)施一覽表廢水類別a污染物項(xiàng)目a污染防治設(shè)施流向/排放去向?qū)?yīng)排放口排放口類型污染防治設(shè)施名稱及工藝是否為可行技術(shù)含重金屬生產(chǎn)廢水六價(jià)鉻、總鉻、總鎘、總鎳、總銀、總砷、總鉛重金屬廢水處理設(shè)施：化學(xué)還原法、電解法；化學(xué)沉淀法、離子交換法、反滲透法、其他是否如采用不屬于“6污染防治可行技術(shù)要求”中的技術(shù)，應(yīng)提供相關(guān)證明材料廠內(nèi)綜合污水處理設(shè)施車間或者生產(chǎn)設(shè)施排放口主要排放口b一般排放口其他生產(chǎn)廢水含氰廢水總氰化物含氰廢水處理設(shè)施；堿性氯化法、臭氧氧化法、電解法、樹脂吸附法、其他//含銅廢水總銅含銅廢水處理設(shè)施：化學(xué)沉淀法、其他//含鋅廢水總鋅含鋅廢水處理設(shè)施：化學(xué)沉淀法、其他//絡(luò)合銅廢水總銅、氨氮、化學(xué)需氧量絡(luò)合銅廢水廢水處理設(shè)施：（破絡(luò)+沉淀）//銅氨廢水總銅、氨氮銅氨廢水處理設(shè)施：折點(diǎn)加氯法、選擇性離子交換法、磷酸銨鎂脫氮法、其他//含氨廢水氨氮、氟化物含氨廢水處理設(shè)施：吹脫法、生化法、其他//含氟廢水氟化物含氟廢水處理設(shè)施：化學(xué)沉淀法、其他//有機(jī)廢水化學(xué)需氧量、氨氮有機(jī)廢水處理設(shè)施：生化法、酸析法+Fenton氧化法、酸析法+微電解法、膜法、其他//含磷廢水總磷含磷廢水處理設(shè)施：化學(xué)沉淀法、生化法、其他//生活污水化學(xué)需氧量、氨氮等生活污水處理設(shè)施：隔油池+化糞池、其他//市政污水處理廠生活污水單獨(dú)排放口說明排放去向即可廠內(nèi)綜合污水（生產(chǎn)廢水處理設(shè)施出水、生活污水處理設(shè)施出水）化學(xué)需氧量、氨氮、總銅、總鋅、氟化物、總氰化物、總磷廠內(nèi)綜合污水處理設(shè)施：入江河等廢水總排口主要排放口b一般排放口公共污水處理設(shè)施a電子工業(yè)排污單位根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)工藝填報(bào)廢水類別和污染物項(xiàng)目。b適用于納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點(diǎn)管理排污單位。14排放去向及排放規(guī)律電子工業(yè)排污單位應(yīng)明確廢水排放去向及排放規(guī)律。排放去向分為車間或者生產(chǎn)設(shè)施處理設(shè)施；生產(chǎn)廢水處理設(shè)施；廠內(nèi)綜合污水處理設(shè)施；直接進(jìn)入江河、湖、庫等水環(huán)境；直接進(jìn)入海域；進(jìn)入城市下水道（再進(jìn)入江河、湖、庫；進(jìn)入城市下水道（再進(jìn)入海域；進(jìn)入市政污水處理廠；進(jìn)入公共污水處理設(shè)施；其他。當(dāng)廢水直接或者間接進(jìn)入環(huán)境水體時(shí)填報(bào)排放規(guī)律，不外排時(shí)不用填報(bào)。廢水排放規(guī)律類別參見HJ521。污染治理設(shè)施、排放口編號污染治理設(shè)施編號可填報(bào)電子工業(yè)排污單位內(nèi)部編號。若排污單位無內(nèi)部編號，則根據(jù)HJ608進(jìn)行編號并填報(bào)。廢水排放口編號填報(bào)地方生態(tài)環(huán)境主管部門現(xiàn)有編號，或者由電子工業(yè)排污單位根據(jù)HJ608進(jìn)行編號后填報(bào)。排放口設(shè)置要求根據(jù)《排污口規(guī)范化整治技術(shù)要求（試行排放口類型電子工業(yè)排污單位廢水主要排放口與一般排放口劃分如表3所示。納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點(diǎn)管理排污單位的廢水總排口、車間或者生產(chǎn)設(shè)施排放口為主要排放口。其他為一般排放口。圖件要求電子工業(yè)排污單位基本情況還應(yīng)包括生產(chǎn)工藝流程圖（包括全廠及各工序、廠區(qū)總平面布置圖、雨水和污水管網(wǎng)平面布置圖。生產(chǎn)工藝流程圖應(yīng)至少包括主要生產(chǎn)設(shè)施（設(shè)備、主要生產(chǎn)工藝流程、主要原輔材料和產(chǎn)排污節(jié)點(diǎn)等內(nèi)容。廠區(qū)總平面布置圖應(yīng)至少包括主體設(shè)施、公輔設(shè)施、廢氣處理設(shè)施、廢水處理設(shè)施等，并標(biāo)注廢氣主要排放口、一般排放口和無組織排放的生產(chǎn)單元。雨水和污水管網(wǎng)平面布置圖應(yīng)包括廠區(qū)雨水和污水集輸管線走向、排放口位置及排放去向等內(nèi)容。產(chǎn)排污環(huán)節(jié)對應(yīng)排放口及許可排放限值確定方法排放口及執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)廢氣排放口及執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)廢氣排放口應(yīng)填報(bào)排放口地理坐標(biāo)、排氣筒高度、國家或者地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)限值、環(huán)境影響評價(jià)審批意見及承諾更加嚴(yán)格的排放限值。15廢水排放口及執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)廢水直接排放口應(yīng)填報(bào)排放口地理坐標(biāo)、排放規(guī)律、對應(yīng)入河排污口名稱及編碼、受納自然水體信息、匯入受納自然水體處的地理坐標(biāo)及執(zhí)行的國家或者地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)；廢水間接排放口應(yīng)填報(bào)排放口地理坐標(biāo)、排放規(guī)律、受納污水處理廠信息及執(zhí)行的國家或者地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)，單獨(dú)排入城鎮(zhèn)污水集中處理設(shè)施的生活污水僅說明去向。廢水間歇式排放的，應(yīng)當(dāng)載明排放污染物的時(shí)段。廢水向海洋排放的，還應(yīng)說明岸邊排放或者深海排放。深海排放的，還應(yīng)說明排污口的深度、與岸線直線距離。許可排放限值一般原則電子工業(yè)排污單位許可排放限值包括污染物許可排放濃度（速率）和許可排放量。許可排放量包括年許可排放量和特殊時(shí)段許可排放量。年許可排放量是指允許排污單位連續(xù)生產(chǎn)12對于大氣污染物，以排放口為單位確定主要排放口和一般排放口的許可排放濃度（速率，廠界監(jiān)控點(diǎn)確定無組織許可排放濃度。廢氣排放口和無組織廢氣原則上不許可排放量。對于水污染物，以排放口為單位確定主要排放口的許可排放濃度和排放量，一般排放口僅許可排放濃度。單獨(dú)排入市政污水處理廠的生活污水僅說明排放去向，不許可濃度和排放量。根據(jù)國家或者地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)，按從嚴(yán)原則確定許可排放濃度。按照本標(biāo)準(zhǔn)5.2.3規(guī)定的許可排放量核算方法和依法分解落實(shí)到電子工業(yè)排污單位的重點(diǎn)污染物排放總量控制指標(biāo)，從嚴(yán)確定許可排放量。2015年1月1日及以后取得環(huán)境影響評價(jià)審批意見的電子工業(yè)排污單位，許可排放量還應(yīng)同時(shí)滿足環(huán)境影響評價(jià)文件和審批意見確定的排放量的要求。電子工業(yè)排污單位填報(bào)許可排放量時(shí)，應(yīng)在全國排污許可證管理信息平臺申報(bào)系統(tǒng)中寫明許可排放量計(jì)算過程。電子工業(yè)排污單位承諾的排放濃度嚴(yán)于本標(biāo)準(zhǔn)要求的，應(yīng)在排污許可證中載明。許可排放濃度廢氣電子工業(yè)排污單位依據(jù)GB16297確定廢氣有組織和無組織的許可排放濃度（速率）及無組織排放管控位置。有組織排放廢氣許可排放濃度的污染物項(xiàng)目包括揮發(fā)性有機(jī)物、苯、甲苯、二甲苯、顆粒物、氮氧化物、二氧化硫、其他污染物（氟化物、氯化氫、硫酸霧、氨、氰化氫、甲醛等）；無組織廢氣許可排放濃度的污染物包括揮發(fā)性有機(jī)物、苯、甲醛?！峨娮庸I(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施后，從其規(guī)定。地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)有更嚴(yán)要求的，從其規(guī)定。大氣污染防治重點(diǎn)控制區(qū)按照《關(guān)于執(zhí)行大氣污染物特別排放限值的公告》《關(guān)于執(zhí)行大氣污染物特別排放限值有關(guān)問題的復(fù)函》和《關(guān)于京津冀大氣污染傳輸通道城市執(zhí)行大氣污染物特別排放限值的公告》等要求執(zhí)行。其他執(zhí)行大氣污染物特別排放限值的地域范圍、時(shí)間，由國務(wù)院生態(tài)環(huán)境主管部門或者省級人民政府規(guī)定。161717若執(zhí)行不同許可排放濃度的多臺生產(chǎn)設(shè)施或者排放口采用混合方式排放廢氣，且選擇的監(jiān)控位置只能監(jiān)測混合廢氣中的大氣污染物濃度，則應(yīng)執(zhí)行各許可排放限值要求中最嚴(yán)格限值。廢水GB8978確定廢水許可排放濃度限值，許可排放濃度為日均濃度。廢水許可排放濃度的污染物項(xiàng)目包括化學(xué)需氧量、氨氮、總磷、總鉛、總砷、六價(jià)鉻、總鉻、總鎘、總鎳、總銀、總銅、總鋅、氟化物、總氰化物等?！峨娮庸I(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施后，從其規(guī)定。地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)有更嚴(yán)要求的，從其規(guī)定。若電子工業(yè)排污單位同時(shí)生產(chǎn)兩種以上產(chǎn)品，且可適用不同排放控制要求或者不同行業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，應(yīng)執(zhí)行排放標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定的最嚴(yán)格的濃度限值。按照國務(wù)院生態(tài)環(huán)境主管部門或者省級人民政府規(guī)定執(zhí)行水污染物特別排放限值的區(qū)域，應(yīng)按照規(guī)定的行政區(qū)域范圍、時(shí)間，執(zhí)行相關(guān)排放標(biāo)準(zhǔn)的污染物特別排放限值。許可排放量廢氣地方生態(tài)環(huán)境主管部門對重點(diǎn)管理的電子工業(yè)排污單位廢氣污染物排放量有許可要求的，許可排放量的核算方法見公式（1）~（3）。廢氣許可排放量包括年許可排放量和特殊時(shí)段許可排放量。排污單位的廢氣年許可排放量為各廢氣主要排放口許可排放量之和。年許可排放量年許可排放量按照許可排放濃度、風(fēng)量、年生產(chǎn)時(shí)間確定，核算方法見公式（1）和公式（2）。Mi=Qi

×C×

×

（1）E年許可

nn=∑i=1

（2）——i個主要排放口某項(xiàng)污染物年許可排放量，t/a；Qi——第i個主要排放口風(fēng)量（標(biāo)態(tài)），m3/h；C——某項(xiàng)污染物許可排放濃度限值（標(biāo)態(tài)），mg/m3；——i個主要排放口對應(yīng)生產(chǎn)單元設(shè)計(jì)年生產(chǎn)時(shí)間，h；年許可——廢氣中某項(xiàng)污染物年許可排放量，t/a。特殊時(shí)段許可排放量特殊時(shí)段電子工業(yè)排污單位應(yīng)按照國家或者所在地區(qū)人民政府制定的重污染天氣應(yīng)急預(yù)案等文件，根據(jù)停產(chǎn)、減產(chǎn)、減排等要求，確定特殊時(shí)段許可排放量要求。國家和地方生態(tài)環(huán)境主管部門依法規(guī)定的其他特殊時(shí)段許可排放量應(yīng)當(dāng)在排污許可證中明確。在排污許可證有效期內(nèi)，國家或者排污單位所在地區(qū)人民政府發(fā)布新的特殊時(shí)段要求的，電子工業(yè)排污單位應(yīng)當(dāng)按照新的停產(chǎn)、減產(chǎn)、減排等要求進(jìn)行排放。特殊時(shí)段日（月）許可排放量根據(jù)電子工業(yè)排污單位前一年實(shí)際排放量折算的日（月）均值、特殊時(shí)段產(chǎn)量或者排放量削減比例核算，核算方法見公式3。1818式中：

E日（月）許可

=E前一年日（月）實(shí)際排放量

-

E日（月）許可——特殊時(shí)段日（月）許可排放量，t；E前一年日（月）實(shí)際排放量——排污單位前一年實(shí)際排放量折算的日（月）均值，t；α——特殊時(shí)段日（月）產(chǎn)量或者排放量削減比例。廢水納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點(diǎn)管理排污單位的廢水總排口應(yīng)申請化學(xué)需氧量、氨氮的年許可排放量，車間或者生產(chǎn)設(shè)施排放口應(yīng)申請六價(jià)鉻、總鉻、總鎳、總鎘、總銀、總砷、總鉛的年許可排放量；半導(dǎo)體液晶面板制造（有表面涂裝工序的）的排污單位，其廢水總排口應(yīng)申請總年許可排放量依據(jù)許可排放濃度、單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量、主要產(chǎn)品產(chǎn)能確定，污染物年許可排放量按照公式（4）計(jì)算。nE =∑(Q×S×10?6n

年許可

i ii=1——某項(xiàng)污染物年許可排放量，t/a；產(chǎn)品種類數(shù)，無量綱。當(dāng)只生產(chǎn)一種產(chǎn)品時(shí)，n=1；i種產(chǎn)品的單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量；Si——第i種產(chǎn)品的設(shè)計(jì)產(chǎn)能；Ci——第i種產(chǎn)品產(chǎn)生某項(xiàng)污染物執(zhí)行的許可排放濃度限值，mg/L。電鍍產(chǎn)品設(shè)計(jì)產(chǎn)能可按照公式（5）計(jì)算。 g × η S = （5）ρ × h × 10 ?6式中：S——產(chǎn)品設(shè)計(jì)產(chǎn)能，m2/a；金屬離子的年消耗量，kg/a；鍍層金屬利用率，%；金屬離子的密度，kg/m3；金屬鍍層的厚度，μm。電子工業(yè)排污單位的單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量見表4，《電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施后從其規(guī)定。1919表4電子工業(yè)排污單位基準(zhǔn)排水量序號行業(yè)類別產(chǎn)品規(guī)格單位單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量a排水量計(jì)量位置1計(jì)算機(jī)制造排污單位、其他電子設(shè)備制造排污單位含電鍍工藝的m3/m2（鍍件鍍層）0.2與污染物排放監(jiān)控位置一致2電子器件制造排污單位半導(dǎo)體器件制造排污單位6英寸及以下芯片m3/片3.28英寸芯片m3/片6.012英寸芯片掩膜層數(shù)35層及以下m3/片11掩膜層數(shù)35層以上20封裝產(chǎn)品傳統(tǒng)封裝產(chǎn)品m3/千塊產(chǎn)品2.0圓片級封裝產(chǎn)品m3/片11分立器件m3/萬塊產(chǎn)品3.53顯示器件及光電子器件制造排污單位薄膜晶體管液晶顯示器件(TFT-LCD）bm3/m21.8c/3.5d/6.2e有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極管顯示器件（AMOLED）m3/m2（以陣列玻璃基板投入面積計(jì)）12發(fā)光二極管（LED）m3/萬粒0.5其他m3/只0.54電子元件制造排污單位電子電路制造排污單位單面板m3/m20.225雙面板m3/m20.786多層板（（2+n）層）m3/m2(0.78+0.39n)f7HDI板（（2+n）層）m3/m2(0.85+0.59n)f8IC載板m3/m25.09電阻電容電感元件制造、敏感元件及傳感器制造、電聲器件及零件制造、其他電子元件制造排污單位壓電晶體元器件m3/萬只產(chǎn)品3.510其他m3/萬只產(chǎn)品0.211電子專用材料制造排污單位硅單晶材料、壓電晶體材料、藍(lán)寶石基片m3/t產(chǎn)品220012電子銅箔m3/t產(chǎn)品10013鋁電解電容器電極箔m3/m20.1514其他m3/t產(chǎn)品5.0a本表中規(guī)定的單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量值應(yīng)按照滿產(chǎn)情況進(jìn)行測算。b本限值對應(yīng)的工藝過程包括：陣列-彩膜-成盒-模組。以彩膜玻璃基板或者陣列玻璃基板投入面積大的計(jì)算。c本限值對應(yīng)6代以上a-Si-TFT-LCD和Oxide-TFT-LCD企業(yè)。d本限值對應(yīng)6代及以下a-Si-TFT-LCD企業(yè)。e本限值對應(yīng)6代及以下LTPS-TFT-LCD企業(yè)。fn為正整數(shù)，2n6層多層板是（2，n4。I35%。2020污染防治可行技術(shù)要求一般原則本標(biāo)準(zhǔn)中所列污染防治可行技術(shù)及運(yùn)行管理要求可作為生態(tài)環(huán)境主管部門對電子工業(yè)排污單位排污許可證申請材料審核時(shí)參考。待電子工業(yè)相關(guān)污染防治可行技術(shù)指南發(fā)布后，從其規(guī)定。廢氣污染防治可行技術(shù)要求電子工業(yè)排污單位廢氣防治可行技術(shù)可參考資料性附錄B中表B.1。廢水污染防治可行技術(shù)要求電子工業(yè)排污單位廢水防治可行技術(shù)可參考資料性附錄B中表B.2。運(yùn)行管理要求廢氣有組織排放廢氣污染治理設(shè)施應(yīng)依據(jù)國家和地方規(guī)范進(jìn)行設(shè)計(jì)。污染治理設(shè)施應(yīng)與產(chǎn)生廢氣的生產(chǎn)設(shè)施同步運(yùn)行。由于事故或者設(shè)備維修等原因造成污染治理設(shè)施停止運(yùn)行時(shí)，應(yīng)立即報(bào)告當(dāng)?shù)厣鷳B(tài)環(huán)境主管部門。污染治理設(shè)施應(yīng)在滿足設(shè)計(jì)工況的條件下運(yùn)行，并根據(jù)工藝要求，定期對設(shè)備、電氣、自控儀表及構(gòu)筑物進(jìn)行檢查維護(hù)，確保污染治理設(shè)施可靠運(yùn)行。污染治理設(shè)施正常運(yùn)行中廢氣的排放在《電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施前應(yīng)符合GB16297的規(guī)定，發(fā)布實(shí)施后從其規(guī)定；地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)有更嚴(yán)要求的，從其規(guī)定。無組織排放電子工業(yè)排污單位的揮發(fā)性有機(jī)物物料儲存無組織排放控制要求、揮發(fā)性有機(jī)物物料轉(zhuǎn)移和輸送無組織排放控制要求、設(shè)備與管線組件揮發(fā)性有機(jī)物泄漏控制要求、敞開液面揮發(fā)性有機(jī)物無組織排放控制要求、揮發(fā)性有機(jī)物無組織排放廢氣收集處理系統(tǒng)要求，應(yīng)符合GB37822規(guī)定。溶劑復(fù)配、噴涂、光刻、研磨、清洗等使用含揮發(fā)性有機(jī)物原輔材料（VOCs質(zhì)量占比大于等10%）的工序，在使用過程（設(shè)備維護(hù)中的使用過程除外）應(yīng)采用密閉設(shè)備或者在密閉空間內(nèi)操作，廢氣應(yīng)排至揮發(fā)性有機(jī)物廢氣收集處理系統(tǒng)；無法密閉的，應(yīng)采取局部氣體收集措施，且廢氣應(yīng)排至揮發(fā)性有機(jī)物廢氣收集處理系統(tǒng)。通風(fēng)生產(chǎn)設(shè)備、操作工位、車間廠房等應(yīng)在符合安全生產(chǎn)、職業(yè)衛(wèi)生相關(guān)規(guī)定的前提下，根據(jù)行業(yè)作業(yè)規(guī)程與標(biāo)準(zhǔn)、工業(yè)建筑及潔凈廠房通風(fēng)設(shè)計(jì)規(guī)范等的要求，采用合理的通風(fēng)量。VOCs物料的設(shè)備及其管道在開停工（車）、檢維修和清洗時(shí)，應(yīng)在退料階段將殘存物料退凈，并用密閉容器盛裝，退料過程廢氣應(yīng)排至VOCs廢氣收集處理系統(tǒng)；清洗及吹掃過程排氣應(yīng)VOCs廢氣收集處理系統(tǒng)。VOCs廢料（渣、液）GB37822要求進(jìn)行儲存、轉(zhuǎn)移和輸送。盛裝過VOCs物料的廢包裝容器應(yīng)加蓋密閉。重點(diǎn)地區(qū)的實(shí)驗(yàn)室，若涉及使用含揮發(fā)性有機(jī)物的化學(xué)品進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，應(yīng)使用通風(fēng)櫥（柜）或者進(jìn)行局部氣體收集，廢氣應(yīng)排至揮發(fā)性有機(jī)物廢氣收集處理系統(tǒng)。g）開料、修邊、鉆孔、成型、粉碎及粉狀物料投料混合等產(chǎn)生含顆粒物廢氣的工序，應(yīng)采用密閉設(shè)備或者在密閉空間內(nèi)操作，廢氣收集排至粉塵處理系統(tǒng)；無法密閉的，應(yīng)安裝粉塵收集設(shè)施，排至粉塵處理系統(tǒng)。廢水廢水污染治理設(shè)施應(yīng)按照國家和地方規(guī)范進(jìn)行設(shè)計(jì)。由于事故或者設(shè)備維修等原因造成污染治理設(shè)施停止運(yùn)行時(shí)，應(yīng)立即報(bào)告當(dāng)?shù)厣鷳B(tài)環(huán)境主管部門。污水處理設(shè)施應(yīng)在滿足設(shè)計(jì)工況的條件下運(yùn)行，并根據(jù)工藝要求，定期對設(shè)備、電氣、自控儀表及構(gòu)筑物進(jìn)行檢查維護(hù)，確保污染治理設(shè)施可靠運(yùn)行。污染治理設(shè)施正常運(yùn)行中廢水的排放在《電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施前應(yīng)符合GB8978的規(guī)定，發(fā)布后從其規(guī)定；地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)有更嚴(yán)要求的，從其規(guī)定。工業(yè)固體廢物一般工業(yè)固體廢物和危險(xiǎn)廢物在專門區(qū)域分隔存放，減少固體廢物的轉(zhuǎn)移次數(shù)，防止發(fā)生撒落和混入的情況。一般工業(yè)固體廢物暫存間應(yīng)設(shè)置防滲、防風(fēng)、防曬、防雨措施，設(shè)置環(huán)境保護(hù)圖形標(biāo)志。GB18597相關(guān)要求執(zhí)行，有效防止臨時(shí)存放過程中二次污染。土壤污染預(yù)防源頭控制：對有毒有害物質(zhì)特別是液體或者粉狀固體物質(zhì)的儲存及輸送、生產(chǎn)加工，污水治理、固體廢物堆放，采取相應(yīng)的防滲漏、泄漏措施。分區(qū)防控：原輔料及燃料儲存區(qū)、生產(chǎn)裝置區(qū)、輸送管道、污水治理設(shè)施、固體廢物堆存區(qū)的防滲要求，應(yīng)滿足國家和地方標(biāo)準(zhǔn)、防滲技術(shù)規(guī)范要求。滲漏、泄漏檢測：對管道、儲罐等配置泄漏、滲漏檢測裝置，對陰極保護(hù)系統(tǒng)等配置防泄漏、滲漏裝置并配套相應(yīng)措施。自行監(jiān)測管理要求一般原則電子工業(yè)排污單位在申請排污許可證時(shí)，應(yīng)按照本標(biāo)準(zhǔn)確定的產(chǎn)排污環(huán)節(jié)、排放口、污染物項(xiàng)目及許可限值等要求，制定自行監(jiān)測方案，并在全國排污許可證管理信息平臺填報(bào)。本標(biāo)準(zhǔn)未規(guī)定的其他監(jiān)測因子指標(biāo)按照HJ819等標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范執(zhí)行。電子工業(yè)排污單位自行監(jiān)測技術(shù)指南發(fā)布后，排污單位自行監(jiān)測管理要求從其規(guī)定。有核發(fā)權(quán)的地方生態(tài)環(huán)境主管部門可根據(jù)環(huán)境質(zhì)量改善需求，增加自行監(jiān)測管理要求。21《國務(wù)院關(guān)于印發(fā)打贏藍(lán)天保衛(wèi)戰(zhàn)三年行動計(jì)劃的通知》（國發(fā)〔2018〕22號）規(guī)定，排氣口高度超過45米的高架源，以及石化、化工、包裝印刷、工業(yè)涂裝等VOCs的排放重點(diǎn)源，納入重點(diǎn)排污單位名錄，督促企業(yè)安裝煙氣排放自動監(jiān)控設(shè)施，2019年底前，重點(diǎn)區(qū)域基本完成；2020年底前，全國基本完成。設(shè)區(qū)的市級以上生態(tài)環(huán)境主管部門納入重點(diǎn)排污單位名錄的電子工業(yè)排污單位，應(yīng)當(dāng)按期落實(shí)國發(fā)〔2018〕22號相關(guān)要求。自行監(jiān)測方案電子工業(yè)排污單位應(yīng)在自行監(jiān)測方案中明確排污單位基本情況、監(jiān)測點(diǎn)位及示意圖、監(jiān)測指標(biāo)、執(zhí)行排放標(biāo)準(zhǔn)及其限值、監(jiān)測頻次、采樣和樣品保存方法、監(jiān)測分析方法和儀器、質(zhì)量保證與質(zhì)量控制、自行監(jiān)測信息公開等。對于采用自動監(jiān)測的電子工業(yè)排污單位，應(yīng)如實(shí)填報(bào)采用自動監(jiān)測的污染物指標(biāo)、自動監(jiān)測系統(tǒng)聯(lián)網(wǎng)情況、自動監(jiān)測系統(tǒng)的運(yùn)行維護(hù)情況等；對于未要求開展自動監(jiān)測的污染物指標(biāo)，電子工業(yè)排污單位應(yīng)填報(bào)開展手工監(jiān)測的污染物排放口和監(jiān)測點(diǎn)位、監(jiān)測方法、監(jiān)測頻次。自行監(jiān)測要求一般原則電子工業(yè)排污單位應(yīng)開展自行監(jiān)測的污染源包括產(chǎn)生有組織廢氣、無組織廢氣、生產(chǎn)廢水等主要污染源，污染源的監(jiān)測點(diǎn)位、指標(biāo)、頻次具體見表5-1~表5-2。監(jiān)測點(diǎn)位、指標(biāo)及頻次電子工業(yè)排污單位監(jiān)測點(diǎn)位包括廢氣有組織排放口、無組織排放監(jiān)測點(diǎn)、廢水排放口、內(nèi)部監(jiān)測點(diǎn)等。廢氣排放口各類廢氣污染源通過排氣筒等方式排放至外環(huán)境的廢氣，應(yīng)在排氣筒上設(shè)置廢氣排放口監(jiān)測點(diǎn)位。點(diǎn)位設(shè)置應(yīng)滿足GB/T16157等技術(shù)規(guī)范的要求。廢氣監(jiān)測平臺、監(jiān)測斷面和監(jiān)測孔的設(shè)置應(yīng)符合HJ/T397等的要求。電子工業(yè)排污單位有組織廢氣監(jiān)測指標(biāo)及最低監(jiān)測頻次見表5-1。廢氣無組織排放《電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施前，應(yīng)根據(jù)GB16297的相關(guān)規(guī)定設(shè)置廢氣無組織排放監(jiān)測點(diǎn)位，該標(biāo)準(zhǔn)發(fā)布實(shí)施后從其規(guī)定。電子工業(yè)排污單位無組織廢氣監(jiān)測指標(biāo)及最低監(jiān)測頻次見表5-1。表5-1電子工業(yè)排污單位廢氣污染源監(jiān)測點(diǎn)位、監(jiān)測指標(biāo)及最低監(jiān)測頻次一覽表有組織排放行業(yè)類別監(jiān)測點(diǎn)位監(jiān)測指標(biāo)最低監(jiān)測頻次重點(diǎn)管理簡化管理主要排放口一般排放口一般排放口計(jì)算機(jī)制造排污單位、其他電子設(shè)備制造排污單位有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)排放口揮發(fā)性有機(jī)物a自動監(jiān)測b次/半年次/年苯、甲苯、二甲苯次/季度顆粒物次/半年22有組織排放行業(yè)類別監(jiān)測點(diǎn)位監(jiān)測指標(biāo)最低監(jiān)測頻次重點(diǎn)管理簡化管理主要排放口一般排放口一般排放口電子真空器件制造排污單位有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)排放口揮發(fā)性有機(jī)物a/次/半年次/年半導(dǎo)體分立器件制造、集成電路制造、半導(dǎo)體照明器件制造、光電子器件制造、其他電子器件制造排污單位酸性廢氣處理系統(tǒng)排放口氮氧化物、氟化物、氯化氫、硫酸霧/次/半年次/年有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)排放口揮發(fā)性有機(jī)物a自動監(jiān)測c次/半年次/年堿性廢氣處理系統(tǒng)排放口氨/次/半年次/年顯示器件制造排污單位酸性廢氣處理系統(tǒng)排放口氮氧化物、氟化物、氯化氫、硫酸霧/次/半年次/年有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)排放口揮發(fā)性有機(jī)物a自動監(jiān)測d次/半年次/年堿性廢氣處理系統(tǒng)排放口氨/次/半年次/年電阻電容電感元件制造、敏感元件及傳感器制造、電聲器件及零件制造、其他電子元件制造排污單位含塵廢氣處理系統(tǒng)排放口顆粒物/次/半年次/年有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)排放口揮發(fā)性有機(jī)物a/次/半年次/年甲苯/電子電路制造排污單位含塵廢氣處理系統(tǒng)排放口顆粒物/次/半年次/年酸性廢氣處理系統(tǒng)排放口氮氧化物、甲醛氰化氫/次/半年次/年有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)排放口揮發(fā)性有機(jī)物a/次/半年次/年苯/堿性廢氣處理系統(tǒng)排放口氨/次/半年次/年電子專用材料制造排污單位電子功能材料排污單位酸性廢氣處理系統(tǒng)排放口氮氧化物/次/半年次/年互聯(lián)與封裝材料排污單位酸性廢氣處理系統(tǒng)排放口氮氧化物/次/半年次/年有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)排放口揮發(fā)性有機(jī)物a/次/半年次/年工藝與輔助材料排污單位含塵廢氣處理系統(tǒng)排放口顆粒物/次/半年次/年有機(jī)廢氣處理系統(tǒng)排放口揮發(fā)性有機(jī)物a/次/半年次/年涉及揮發(fā)性有機(jī)物燃燒（焚燒、氧化）處理的電子工業(yè)排污單位揮發(fā)性有機(jī)物燃燒（焚燒、氧化）裝置排氣筒揮發(fā)性有機(jī)物a自動監(jiān)測e次/半年次/年顆粒物、二氧化硫、氮氧化物次/半年次/年二噁英類f次/年無組織排放監(jiān)測點(diǎn)位監(jiān)測指標(biāo)最低監(jiān)測頻次重點(diǎn)管理簡化管理廠界g揮發(fā)性有機(jī)物a、苯、甲醛次/年次/年ab適用于納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點(diǎn)管理排污單位的噴漆生產(chǎn)線有機(jī)廢氣排放口。cde適用于納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點(diǎn)管理排污單位的有機(jī)廢氣主要排放口。f適用于燃燒含氯有機(jī)廢氣的排污單位。g廠界監(jiān)測污染物項(xiàng)目根據(jù)排污單位的生產(chǎn)工藝填報(bào)。23廢水排放口按照排放標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的監(jiān)控位置設(shè)置廢水排放口監(jiān)測點(diǎn)位，廢水排放口應(yīng)符合《排污口規(guī)范化整治技術(shù)要求（試行）》、HJ/T91和地方相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)等的要求，單獨(dú)排向市政污水處理廠的生活污水不要求開展自行監(jiān)測。電子工業(yè)排污單位廢水監(jiān)測指標(biāo)及最低監(jiān)測頻次見表5-2。表5-2電子工業(yè)排污單位廢水監(jiān)測點(diǎn)位、監(jiān)測指標(biāo)及最低監(jiān)測頻次一覽表監(jiān)測點(diǎn)位監(jiān)測指標(biāo)a最低監(jiān)測頻次重點(diǎn)管理簡化管理直接排放間接排放直接排放間接排放車間或者生產(chǎn)設(shè)施排放口流量自動監(jiān)測自動監(jiān)測次/月次/年總鉻、六價(jià)鉻、總鎳、總鎘、總銀、總鉛、總砷次/日次/日生產(chǎn)廢水總排口流量自動監(jiān)測自動監(jiān)測次/季度次/年化學(xué)需氧量、氨氮自動監(jiān)測自動監(jiān)測總銅、總鋅、總氰化物、總磷、氟化物次/月次/月a電子工業(yè)排污單位根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)工藝，確定監(jiān)測污染物指標(biāo)。內(nèi)部監(jiān)測點(diǎn)位當(dāng)排放標(biāo)準(zhǔn)中有污染物去除效率要求時(shí)，應(yīng)在相應(yīng)污染物處理設(shè)施單元的進(jìn)出口設(shè)置監(jiān)測點(diǎn)。當(dāng)環(huán)境管理有要求，或者電子工業(yè)排污單位認(rèn)為有必要的，可以在電子工業(yè)排污單位內(nèi)部設(shè)置監(jiān)測點(diǎn)，監(jiān)測與污染物濃度密切相關(guān)的關(guān)鍵工藝參數(shù)等。監(jiān)測技術(shù)手段自行監(jiān)測的技術(shù)手段包括手工監(jiān)測和自動監(jiān)測。對于相關(guān)管理規(guī)定要求采用自動監(jiān)測的指標(biāo)，應(yīng)采用自動監(jiān)測技術(shù)；對于監(jiān)測頻次高、自動監(jiān)測技術(shù)成熟的監(jiān)測指標(biāo)，應(yīng)優(yōu)先選用自動監(jiān)測技術(shù)；其他監(jiān)測指標(biāo)，可選用手工監(jiān)測技術(shù)。采樣和測定方法自動監(jiān)測廢水自動監(jiān)測參照HJ/T353、HJ/T354、HJ/T355、HJ/T356執(zhí)行。手工采樣有組織廢氣手工采樣方法參照GB/T16157、HJ/T397、HJ732執(zhí)行，單次監(jiān)測中，氣態(tài)污染物采樣，應(yīng)獲得小時(shí)均值濃度。無組織廢氣手工采樣方法參照HJ/T55執(zhí)行。廢水手工采樣方法的選擇參照HJ494、HJ495和HJ/T91執(zhí)行。樣品的保存、管理參照HJ493。測定方法GB8978、GB16297中規(guī)定的污染物濃度測定方法標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行；《電子工業(yè)污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》發(fā)布實(shí)施后，從其規(guī)定；國家或者地方法律法規(guī)等另有規(guī)定的，從其規(guī)定。24數(shù)據(jù)記錄要求監(jiān)測期間，手工監(jiān)測的記錄和自動監(jiān)測運(yùn)行維護(hù)記錄按照HJ819執(zhí)行。應(yīng)同步記錄監(jiān)測期間的生產(chǎn)工況。監(jiān)測質(zhì)量保證與質(zhì)量控制按照HJ819、HJ/T373的要求，電子工業(yè)排污單位應(yīng)根據(jù)自行監(jiān)測方案及開展?fàn)顩r，梳理全過程監(jiān)測質(zhì)控要求，建立自行監(jiān)測質(zhì)量保證與質(zhì)量控制體系。自行監(jiān)測信息公開電子工業(yè)排污單位應(yīng)按照HJ819要求進(jìn)行自行監(jiān)測信息公開。環(huán)境管理臺賬記錄與排污許可證執(zhí)行報(bào)告編制要求環(huán)境管理臺賬記錄要求一般原則電子工業(yè)排污單位在申請排污許可證時(shí)，應(yīng)按本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定，在《排污許可證申請表》中明確環(huán)境管理臺賬記錄要求。有核發(fā)權(quán)的地方生態(tài)環(huán)境主管部門可以依據(jù)法律法規(guī)、標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范增加和加嚴(yán)記錄要求。排污單位也可自行增加和加嚴(yán)記錄要求。電子工業(yè)排污單位應(yīng)建立環(huán)境管理臺賬記錄制度，落實(shí)環(huán)境管理臺賬記錄的責(zé)任部門和責(zé)任人，明確工作職責(zé)，并對環(huán)境管理臺賬的真實(shí)性、完整性和規(guī)范性負(fù)責(zé)。電子工業(yè)排污單位生產(chǎn)設(shè)施、污染防治設(shè)施、排放口編碼應(yīng)與排污許可證副本中載明的編碼一致。記錄形式分為電子臺賬和紙質(zhì)臺賬兩種形式。記錄內(nèi)容包括排污單位基本信息、生產(chǎn)設(shè)施運(yùn)行管理信息、污染防治設(shè)施運(yùn)行管理信息、監(jiān)測記錄信息及其他環(huán)境管理信息等，參見資料性附錄C。生產(chǎn)設(shè)施、污染防治設(shè)施、排放口編碼應(yīng)與排污許可證副本中載明的編碼一致?；拘畔⑴盼蹎挝换拘畔ⅲ簡挝幻Q、生產(chǎn)經(jīng)營場所地址、行業(yè)類別、法定代表人、統(tǒng)一社會信用代碼、主要產(chǎn)品名稱、生產(chǎn)工藝、生產(chǎn)規(guī)模、環(huán)保投資、環(huán)評批復(fù)文號、排污權(quán)交易文件、排污許可證編號等。記錄內(nèi)容參見附錄C中表C.1。生產(chǎn)設(shè)施運(yùn)行管理信息a)生產(chǎn)設(shè)施正常工況信息：主要生產(chǎn)設(shè)施名稱及對應(yīng)的產(chǎn)品名稱、主要生產(chǎn)工藝、設(shè)施數(shù)量、編碼、設(shè)施規(guī)格參數(shù)、累計(jì)生產(chǎn)時(shí)間、對應(yīng)產(chǎn)品或半成品的實(shí)際產(chǎn)量等。參見附錄C中表C.2。主要原輔料信息：產(chǎn)品名稱、生產(chǎn)該產(chǎn)品使用的原輔材料名稱、累計(jì)用量、有毒有害成分及CC.3。燃料信息：燃料名稱、累計(jì)用量、品質(zhì)等。參見附錄CC.4。25生產(chǎn)設(shè)施非正常工況信息：生產(chǎn)設(shè)施名稱、編號、非正常情況起止時(shí)間、產(chǎn)品名稱、使用原輔料及燃料名稱、起因、應(yīng)對措施、是否報(bào)告等。參見附錄CC.5。污染治理設(shè)施運(yùn)行管理信息正常工況：廢氣、廢水污染防治設(shè)施名稱、編號、規(guī)格參數(shù)、控制污染物因子及其排放情CC.6～C.7。非正常情況：發(fā)生非正常情況的設(shè)施名稱、編號、起止時(shí)間、污染物排放情況、原因、應(yīng)對CC.8。監(jiān)測記錄信息監(jiān)測記錄信息包括有組織廢氣、無組織廢氣、廢水污染物監(jiān)測原始結(jié)果，參見附錄C中表C.9～C.11。監(jiān)測記錄按照HJ819執(zhí)行，待電子工業(yè)排污單位自行監(jiān)測技術(shù)指南發(fā)布后，從其規(guī)定。監(jiān)測質(zhì)量控制按照HJ/T373和HJ819等規(guī)定執(zhí)行。其他環(huán)境管理信息無組織廢氣污染防治措施管理維護(hù)信息：管理維護(hù)時(shí)間及主要內(nèi)容等。特殊時(shí)段環(huán)境管理信息：具體管理要求及其執(zhí)行情況。企業(yè)自主記錄的環(huán)境管理信息：污染治理設(shè)施檢查、維護(hù)記錄情況等。其他信息：法律法規(guī)、標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范確定的其他信息。記錄頻次基本信息對于未發(fā)生變化的基本信息，按年記錄，1次/年；對于發(fā)生變化的基本信息，在發(fā)生變化時(shí)記錄1次。生產(chǎn)設(shè)施運(yùn)行管理信息正常工況：1次。主要產(chǎn)品或半成品實(shí)際產(chǎn)量：連續(xù)生產(chǎn)的，按月記錄，1次/月。非連續(xù)生產(chǎn)的，按照生產(chǎn)周期記錄，1次/周期。1次。1次。非正常工況：按照工況期記錄，1次/工況期。污染治理設(shè)施運(yùn)行管理信息1次。非正常工況：按照工況期記錄，1次/工況期。監(jiān)測記錄信息7.3中所確定的監(jiān)測頻次要求記錄。26其他環(huán)境管理信息廢氣無組織污染防治措施管理信息：按月記錄，1次/月。具體內(nèi)容見和。特殊時(shí)段環(huán)境管理信息：按照～規(guī)定頻次記錄；對于停產(chǎn)或者錯峰生產(chǎn)的，原則上僅對停產(chǎn)或者錯峰生產(chǎn)的起止日期各記錄1次。企業(yè)自主記錄的環(huán)境管理信息：每日記錄1次。具體內(nèi)容見。其他信息：依據(jù)法律法規(guī)、標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范或者實(shí)際生產(chǎn)運(yùn)行規(guī)律等確定記錄頻次。記錄存儲及保存紙質(zhì)存儲：應(yīng)將紙質(zhì)臺賬存放于保護(hù)袋、卷夾或者保護(hù)盒等保存介質(zhì)中；由專人簽字、定點(diǎn)保存；應(yīng)采取防光、防熱、防潮、防細(xì)菌及防污染等措施；如有破損應(yīng)及時(shí)修補(bǔ)，并留存?zhèn)?年。電子化存儲：應(yīng)存放于電子存儲介質(zhì)中，并進(jìn)行數(shù)據(jù)備份；可在全國排污許可證管理信息平臺填報(bào)并保存；由專人定期維護(hù)管理；保存時(shí)間原則上不低于3年。簡化管理要求實(shí)施簡化管理的電子工業(yè)排污單位，可依據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)及地方生態(tài)環(huán)境主管部門對環(huán)境管理臺賬的簡化要求，適當(dāng)簡化臺賬記錄，僅記錄污染治理設(shè)施運(yùn)行管理信息和監(jiān)測記錄信息。記錄內(nèi)容參見附錄C中表C.6～表C.11。污染治理設(shè)施運(yùn)行管理信息的記錄頻次為每季度1次，監(jiān)測記錄信息按照本標(biāo)準(zhǔn)7.3中所確定的監(jiān)測頻次要求記錄。排污許可證執(zhí)行報(bào)告編制要求一般原則電子工業(yè)排污單位應(yīng)按照排污許可證中規(guī)定的內(nèi)容和頻次定期提交執(zhí)行報(bào)告，排污單位可參照本標(biāo)準(zhǔn)，根據(jù)環(huán)境管理臺賬記錄等歸納總結(jié)報(bào)告期內(nèi)排污許可證執(zhí)行情況，按照執(zhí)行報(bào)告提綱編寫執(zhí)行報(bào)告，保證執(zhí)行報(bào)告的規(guī)范性和真實(shí)性，按時(shí)提交至有核發(fā)權(quán)的生態(tài)環(huán)境主管部門，臺賬記錄留存?zhèn)洳?。技術(shù)負(fù)責(zé)人發(fā)生變化時(shí)，應(yīng)當(dāng)在年度執(zhí)行報(bào)告中及時(shí)報(bào)告。報(bào)告分類及周期報(bào)告分類電子工業(yè)排污許可證執(zhí)行報(bào)告分為年度執(zhí)行報(bào)告、季度執(zhí)行報(bào)告和月度執(zhí)行報(bào)告。電子工業(yè)排污單位應(yīng)當(dāng)按照排污許可證規(guī)定的時(shí)間提交執(zhí)行報(bào)告。實(shí)行重點(diǎn)管理的電子工業(yè)排污單位應(yīng)提交年度執(zhí)行報(bào)告和季度執(zhí)行報(bào)告，實(shí)行簡化管理的電子工業(yè)排污單位應(yīng)提交年度執(zhí)行報(bào)告。地方生態(tài)環(huán)境主管部門根據(jù)環(huán)境管理需求，可要求排污單位提交季度/月度執(zhí)行報(bào)告，并在排污許可證中明確。報(bào)告周期年度執(zhí)行報(bào)告對于持證時(shí)間超過三個月的年度，報(bào)告周期為當(dāng)年全年（自然年）；對于持證時(shí)間不足三個月的27年度，當(dāng)年可不提交年度執(zhí)行報(bào)告，排污許可證執(zhí)行情況納入下一年度執(zhí)行報(bào)告。季度執(zhí)行報(bào)告對于持證時(shí)間超過一個月的季度，報(bào)告周期為當(dāng)季全季（自然季度）；對于持證時(shí)間不足一個月的季度，該報(bào)告周期內(nèi)可不提交季度執(zhí)行報(bào)告，排污許可證執(zhí)行情況納入下一季度執(zhí)行報(bào)告。編制流程包括資料收集與分析、編制、質(zhì)量控制、提交四個階段，具體要求按照HJ944執(zhí)行。編制內(nèi)容一般要求電子工業(yè)排污單位應(yīng)對提交的排污許可證執(zhí)行報(bào)告中各項(xiàng)內(nèi)容和數(shù)據(jù)的真實(shí)性、有效性負(fù)責(zé)，并自愿承擔(dān)相應(yīng)法律責(zé)任；應(yīng)自覺接受生態(tài)環(huán)境主管部門監(jiān)管和社會公眾監(jiān)督，如提交的內(nèi)容和數(shù)據(jù)與實(shí)際情況不符，應(yīng)積極配合調(diào)查，并依法接受處罰。電子工業(yè)排污單位應(yīng)對上述要求作出承諾，并將承諾書納入執(zhí)行報(bào)告中。執(zhí)行報(bào)告封面格式、編寫提綱參見HJ944。年度執(zhí)行報(bào)告年度執(zhí)行報(bào)告應(yīng)包括排污單位基本情況、污染防治設(shè)施運(yùn)行情況、自行監(jiān)測執(zhí)行情況、環(huán)境管理臺賬記錄執(zhí)行情況、實(shí)際排放情況及合規(guī)判定分析、信息公開情況、排污單位內(nèi)部環(huán)境管理體系建設(shè)與運(yùn)行情況、其他排污許可證規(guī)定的內(nèi)容執(zhí)行情況、其他需要說明的問題、結(jié)論、附圖附件等。具體內(nèi)容要求參見HJ944的5.3.1，實(shí)際排放量核算按照本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定方法進(jìn)行。表格形式參見本標(biāo)準(zhǔn)附錄D。季度/月執(zhí)行報(bào)告季度/月執(zhí)行報(bào)告應(yīng)包括污染物實(shí)際排放濃度和排放量、合規(guī)判定分析、超標(biāo)排放或者污染防治設(shè)施異常情況說明等內(nèi)容，其中季度執(zhí)行報(bào)告還應(yīng)包括各月度生產(chǎn)小時(shí)數(shù)、主要產(chǎn)品及其產(chǎn)量、主要原料及其消耗量、新水用量及廢水排放量、主要污染物排放量等信息。簡化管理要求實(shí)行簡化管理的電子工業(yè)排污單位應(yīng)提交年度執(zhí)行報(bào)告，年度執(zhí)行報(bào)告內(nèi)容至少包括排污單位基本情況、污染防治設(shè)施運(yùn)行情況、自行監(jiān)測執(zhí)行情況、環(huán)境管理臺賬執(zhí)行情況、實(shí)際排放情況及合規(guī)判定分析、結(jié)論等內(nèi)容。表格形式參見本標(biāo)準(zhǔn)附錄E。實(shí)際排放量核算方法一般原則電子工業(yè)排污單位的污染物在核算時(shí)段內(nèi)的實(shí)際排放量等于正常情況與非正常情況實(shí)際排放量之和。核算時(shí)段根據(jù)管理需求，可以是季度、年或者特殊時(shí)段等。核算廢氣中苯、甲苯、二甲苯的實(shí)際排放量采用實(shí)測法；地方生態(tài)環(huán)境主管部門對電子工業(yè)排污單位揮發(fā)性有機(jī)物實(shí)際排放量有核算要求的，核算方法參見附錄F。核算廢水污染物的實(shí)際排放量采用實(shí)測法，實(shí)測法包括自動監(jiān)測法和手工監(jiān)測法。排污許可證中28要求采用自動監(jiān)測而未采用的排放口或者污染物，采用產(chǎn)污系數(shù)法核算污染物實(shí)際排放量，且按直排進(jìn)行核算。對于排污許可證要求采用自動監(jiān)測的污染物項(xiàng)目，按照優(yōu)先順序依次選取自動監(jiān)測數(shù)據(jù)、執(zhí)法和手工監(jiān)測數(shù)據(jù)核算實(shí)際排放量。對于未要求采用自動監(jiān)測的污染物，可采用自動監(jiān)測數(shù)據(jù)或者手工監(jiān)測數(shù)據(jù)核算污染物實(shí)際排放量。采用自動監(jiān)測的污染物，若同一時(shí)段的手工監(jiān)測數(shù)據(jù)與自動監(jiān)測數(shù)據(jù)不一致，手工監(jiān)測數(shù)據(jù)符合法定的監(jiān)測標(biāo)準(zhǔn)和監(jiān)測方法的，以手工監(jiān)測數(shù)據(jù)為準(zhǔn)。若同一時(shí)段的手工監(jiān)測數(shù)據(jù)與執(zhí)法監(jiān)測數(shù)據(jù)不一致，以執(zhí)法監(jiān)測數(shù)據(jù)為準(zhǔn)。監(jiān)測數(shù)據(jù)應(yīng)符合國家環(huán)境監(jiān)測相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)規(guī)范要求。廢氣污染物實(shí)際排放量核算方法電子工業(yè)排污單位的廢氣污染物如需核算實(shí)際排放量，可以參照公式（6）~（9）進(jìn)行核算。正常情況采用自動監(jiān)測數(shù)據(jù)核算自動監(jiān)測實(shí)測法是指根據(jù)符合監(jiān)測規(guī)范的有效自動監(jiān)測數(shù)據(jù)污染物的小時(shí)平均排放濃度、平均排氣量、運(yùn)行時(shí)間核算污染物年排放量，某主要排放口某項(xiàng)大氣污染物實(shí)際排放量的核算方法見公式（6）和公式（7）。=

mm∑kk=1

×qk

×10?9

（6）E排放量

nn=∑i=1

（7）式中：Mi——核算時(shí)段內(nèi)第i個主要排放口某項(xiàng)污染物的實(shí)際排放量，t；ck——第i個主要排放口某項(xiàng)污染物在第k小時(shí)的自動實(shí)測平均排放濃度（標(biāo)態(tài)），mg/m3；qk——第i個主要排放口某項(xiàng)污染物在第k小時(shí)的干排氣量（標(biāo)態(tài)），m3；m——核算時(shí)段內(nèi)某項(xiàng)污染物的排放時(shí)間，h；n——排污單位主要排放口編號；E排放量——核算時(shí)段內(nèi)排污單位某項(xiàng)污染物的實(shí)際排放量，t。對于出現(xiàn)自動監(jiān)測數(shù)據(jù)缺失或者數(shù)據(jù)異常等情況的排污單位，若排污單位能提供材料充分證明不是其責(zé)任的，可按照排污單位提供的手工監(jiān)測數(shù)據(jù)等核算實(shí)際排放量，或者按照上一個半年申報(bào)期間的穩(wěn)定運(yùn)行期間自動監(jiān)測數(shù)據(jù)的小時(shí)濃度均值和半年平均排氣量，核算數(shù)據(jù)缺失時(shí)段的實(shí)際排放量。手工監(jiān)測手工監(jiān)測實(shí)測法應(yīng)采用每次手工監(jiān)測時(shí)段內(nèi)污染物的平均排放濃度、平均排氣量、運(yùn)行時(shí)間核算污染物實(shí)際排放量，核算方法見公式（8）和公式（9）。排污單位應(yīng)將手工監(jiān)測時(shí)段內(nèi)生產(chǎn)負(fù)荷與核算時(shí)段內(nèi)的平均生產(chǎn)負(fù)荷進(jìn)行對比，并給出對比結(jié)果。29Mi=

mm∑kk=1

×qk

×10?9

×

（8）E排放量

nn=∑Mii=1

（9）式中：Mi——核算時(shí)段內(nèi)第i個主要排放口某項(xiàng)污染物的實(shí)際排放量，t；ck——第i個主要排放口某項(xiàng)污染物在第k個監(jiān)測時(shí)段的實(shí)測平均排放濃度（標(biāo)態(tài)），mg/m3；qk——第i個主要排放口某項(xiàng)污染物在第k個監(jiān)測時(shí)段的平均干排氣量（標(biāo)態(tài)），m3/h；t——第k個監(jiān)測時(shí)段內(nèi)第i個主要排放口累計(jì)運(yùn)行時(shí)間，h；m——核算時(shí)段內(nèi)某項(xiàng)污染物的總監(jiān)測時(shí)段，h；n——排污單位主要排放口編號；E排放量——核算時(shí)段內(nèi)排污單位某項(xiàng)污染物的實(shí)際排放量，t。非正常情況非正常情況下污染物實(shí)際排放量優(yōu)先采用實(shí)測法核定，其次采用物料衡算法。廢水污染物實(shí)際排放量核算方法正常情況電子工業(yè)排污單位廢水主要排放口污染物實(shí)際排放量的核算方法包括實(shí)測法和產(chǎn)污系數(shù)法等。實(shí)測法采用自動監(jiān)測數(shù)據(jù)核算廢水自動監(jiān)測實(shí)測法是指根據(jù)符合監(jiān)測規(guī)范的有效自動監(jiān)測數(shù)據(jù)，按照公式（10）核算污染物排放量。ttE=∑i

×qi

×10?6

（10）i=1E——核算時(shí)段內(nèi)廢水主要排放口某項(xiàng)污染物的實(shí)際排放量，t；ci——核算時(shí)段內(nèi)廢水主要排放口某項(xiàng)污染物在第i日的實(shí)測平均排放濃度，mg/L；qi——核算時(shí)段內(nèi)廢水主要排放口第i日的流量，m3/d；t——核算時(shí)段內(nèi)廢水主要排放口的污染物排放時(shí)間，d。對要求采用自動監(jiān)測的排放口或者污染因子，在自動監(jiān)測數(shù)據(jù)由于某種原因出現(xiàn)中斷或者其他情況下，應(yīng)按照HJ/T356補(bǔ)遺。排污許可證中要求采用自動監(jiān)測而未采用的排放口或者污染物，采用產(chǎn)污系數(shù)法核算污染物實(shí)際排放量，且按直排進(jìn)行核算。30采用手工監(jiān)測數(shù)據(jù)核算手工監(jiān)測實(shí)測法是指根據(jù)每次手工監(jiān)測時(shí)段內(nèi)的監(jiān)測數(shù)據(jù)，按照公式（11）～（13）核算污染物排放量。E=c×q×t×10?6

（11）nn∑i×i)nc=i=1 n∑i=1

（12）nn∑iq=i=1 （13）n式中：E——核算時(shí)段內(nèi)廢水主要排放口某項(xiàng)污染物的實(shí)際排放量，t；c——核算時(shí)段內(nèi)廢水主要排放口某項(xiàng)污染物的實(shí)測日加權(quán)平均排放濃度，mg/L；q——核算時(shí)段內(nèi)廢水主要排放口的日平均排水量，m3/d；ci——核算時(shí)段內(nèi)某項(xiàng)污染物第i次監(jiān)測的日監(jiān)測濃度，mg/L；qi——核算時(shí)段內(nèi)第i次監(jiān)測的日排水量，m3/d；n——核算時(shí)段內(nèi)取樣監(jiān)測次數(shù)，無量綱；t——核算時(shí)段內(nèi)廢水主要排放口某項(xiàng)污染物排放時(shí)間，d。手工監(jiān)測數(shù)據(jù)包括核算時(shí)間內(nèi)的所有執(zhí)法監(jiān)測數(shù)據(jù)和排污單位自行或者委托其他有資質(zhì)的檢（監(jiān)）測機(jī)構(gòu)的有效手工監(jiān)測數(shù)據(jù)，若同一時(shí)段既有執(zhí)法監(jiān)測數(shù)據(jù)又有手工監(jiān)測數(shù)據(jù)，優(yōu)先使用執(zhí)法監(jiān)測數(shù)據(jù)。排污單位自行或者委托的手工監(jiān)測頻次、監(jiān)測期間生產(chǎn)工況、數(shù)據(jù)有效性等須符合相關(guān)規(guī)范文件等要求。b）產(chǎn)污系數(shù)法采用產(chǎn)污系數(shù)法核算污染物實(shí)際排放量的，按照公式（14）進(jìn)行核算。E=Q×β×10?3

（14）式中：E——核算時(shí)段內(nèi)廢水主要排放口某項(xiàng)污染物的實(shí)際排放量，t；Q——4；β——廢水中某項(xiàng)污染物的產(chǎn)污系數(shù)，kg/單位產(chǎn)品。見《全國污染源普查工業(yè)污染源產(chǎn)排污系數(shù)手冊》。9.3.2非正常情況廢水處理設(shè)施非正常情況下的排水，如無法滿足排放標(biāo)準(zhǔn)要求時(shí)，不應(yīng)直接排入外環(huán)境，待廢水處理設(shè)施恢復(fù)正常運(yùn)行且滿足排放標(biāo)準(zhǔn)要求后方可排放。如因特殊原因造成污染治理設(shè)施未正常運(yùn)行超標(biāo)排放污染物的或者偷排偷放污染物的，采用產(chǎn)污系數(shù)法核算污染物實(shí)際排放量，且按直排進(jìn)行核算，核算時(shí)段為非正常運(yùn)行時(shí)段（或者偷排偷放時(shí)段）。313232合規(guī)判定方法一般原則合規(guī)是指電子工業(yè)排污單位許可事項(xiàng)和環(huán)境管理要求符合排污許可證規(guī)定。許可事項(xiàng)合規(guī)是指電子工業(yè)排污單位排污口位置和數(shù)量、排放方式、排放去向、排放污染物項(xiàng)目、排放限值符合排污許可證規(guī)定。其中，排放限值合規(guī)是指電子工業(yè)排污單位污染物實(shí)際排放濃度（速率）和排放量滿足許可排放限值要求。環(huán)境管理要求合規(guī)是指電子工業(yè)排污單位按排污許可證規(guī)定落實(shí)自行監(jiān)測、臺賬記錄、執(zhí)行報(bào)告、信息公開等環(huán)境管理要求。電子工業(yè)排污單位可通過臺賬記錄、按時(shí)上報(bào)執(zhí)行報(bào)告和開展自行監(jiān)測、信息公開，自證其依證排污，滿足排污許可證要求。生態(tài)環(huán)境主管部門可依據(jù)電子工業(yè)排污單位環(huán)境管理臺賬、執(zhí)行報(bào)告、自行監(jiān)測記錄中的內(nèi)容，判斷其污染物排放濃度（速率）和排放量是否滿足許可排放限值要求，也可通過執(zhí)法監(jiān)測判斷其污染物排放濃度（速率）是否滿足許可排放限值要求。產(chǎn)排污環(huán)節(jié)、污染治理設(shè)施及排放口符合許可證規(guī)定電子工業(yè)排污單位實(shí)際的生產(chǎn)地點(diǎn)、主要生產(chǎn)單元、生產(chǎn)工藝、生產(chǎn)設(shè)施、污染治理設(shè)施的位置、編號與排污許可證相符，實(shí)際情況與排污許可證載明的規(guī)模、參數(shù)等信息基本相符。所有有組織排放口和各類廢水排放口的個數(shù)、類別、排放方式和去向等與排污許可證載明信息一致。廢氣排放濃度合規(guī)判定電子工業(yè)排污單位有組織排放口廢氣污染物和企業(yè)邊界無組織排放廢氣污染物排放濃度達(dá)標(biāo)均是指“任一小時(shí)濃度均值均滿足許可排放濃度要求”。廢氣污染物小時(shí)濃度均值