E.coli中的Y家族DNA聚合酶.doc 免費(fèi)下載
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PAGEPAGE9E.coli中的Y家族DNA聚合酶—PolⅣ和PolV(2023版)曲競超摘要:PolⅣ和PolV作為E.coli中的Y家族DNA聚合酶,分別由dinB和umuDC基因編碼。由于其特殊結(jié)構(gòu),PolⅣ和PolV可對帶有非編碼損傷的DNA進(jìn)行移損合成。移損合成作為一種損傷耐受機(jī)制,可在DNA損傷暫時(shí)未被修復(fù)的情況下保持DNA復(fù)制的連續(xù)性和基因組的完整性,但保真度相較同作為損傷耐受機(jī)制的依賴于同源重組的后復(fù)制缺口修復(fù)和復(fù)制叉回退明顯偏低。除移損合成外,PolⅣ和PolV還在其它多種不同的生化過程中發(fā)揮作用,并具有多重生理功能。本文將結(jié)合現(xiàn)有的有關(guān)實(shí)驗(yàn)和研究成果,對E.coli中的Y家族DNA聚合酶(PolⅣ和PolV)進(jìn)行比較全面和系統(tǒng)的介紹。概述。1999年,J·瓦格納等人(1)和M·F·古德曼等人(2)先后通過有關(guān)實(shí)驗(yàn),在E.coli中鑒定了屬于Y家族(3)的DNA聚合酶Ⅳ(PolⅣ)和DNA聚合酶V(PolV)。PolⅣ和PolV分別由dinB基因和umuDC基因編碼(1)(2)(4),(在靜止期和對數(shù)期細(xì)胞中)其表達(dá)均受SOS反應(yīng)正調(diào)控。PolⅣ可直接合成并具有活性,在E.coli細(xì)胞中的本底水平為250拷貝(5)(注:PolⅢ的水平僅為10-20拷貝(6)),僅次于PolⅠ(400拷貝);在SOS反應(yīng)早期,dinB基因激活表達(dá),PolⅣ的細(xì)胞水平可提升至2500拷貝(5)(7)。在靜止期細(xì)胞中,PolⅣ的表達(dá)除可受SOS反應(yīng)調(diào)控外,還受到RpoS反應(yīng)的正調(diào)控;RpoS反應(yīng)對PolⅣ的正調(diào)控發(fā)生于靜止期晚期,且完全不能歸結(jié)于(或者說,完全不通過)SOS反應(yīng)(4)。除表達(dá)外,在靜止期細(xì)胞中,PolⅣ還在蛋白穩(wěn)定性和活性方面分別受到GroE(8)和Rep(9)蛋白的正調(diào)控,而RpoS(4)和Ppk(10)蛋白也可能對PolⅣ的活性具有正調(diào)控作用。在對數(shù)期細(xì)胞中,RpoS雖不影響PolⅣ的表達(dá),但可間接(通過SbcCD和RecB等蛋白)影響(上調(diào))PolⅣ的活性(包括致變性[僅當(dāng)PolⅣ過量表達(dá)時(shí)]和移損合成活性)(11)(12)。PolV的合成過程十分復(fù)雜:由umuDC操縱子編碼的UmuD蛋白須在被Lon蛋白降解前經(jīng)RecA*催化自裂解,形成(在SOS反應(yīng)中具有致變活性的)UmuD'蛋白,繼而2個(gè)UmuD'蛋白和1個(gè)UmuC蛋白必須在被ClpXP和Lon蛋白降解前結(jié)合,以形成穩(wěn)定的UmuD'2UmuC復(fù)合物(UmuD'2C)——PolV(2)(13)(14)。PolV的表達(dá)受SOS反應(yīng)的正調(diào)控(15)。在沒有SOS反應(yīng)開啟的情況下,UmuC和UmuD的細(xì)胞含量分別為15和180拷貝,PolV則(由于UmuD'的缺乏)處于無法通過Western印記雜交分析被檢測到的水平;在SOS反應(yīng)開啟后且在SOS反應(yīng)晚期(SOS反應(yīng)開啟約30分鐘后[該時(shí)間可能由于實(shí)驗(yàn)條件的不同而有所差別]),umuDC基因激活表達(dá),UmuC和UmuD的細(xì)胞含量分別提升至200和2400拷貝,PolV的細(xì)胞含量則提升至15-60拷貝(15-19)。在經(jīng)紫外照射的細(xì)胞中,除SOS反應(yīng)外,PolV的細(xì)胞含量還受到GroE的正調(diào)控(GroE可與UmuC直接相互作用,從而保護(hù)其不受Lon的降解。)(20),而Ppk也可能對PolV的細(xì)胞含量或活性具有正調(diào)控作用(10)。PolV自身僅具有非常微弱的DNA合成活性,其DNA復(fù)制功能的有效發(fā)揮需要其它因子的輔助(見下文“PolV的TLS”和“PolV參與的后復(fù)制缺口修復(fù)和RecA振動(dòng)模型”)。注:①根據(jù)結(jié)構(gòu)域結(jié)構(gòu)之間的相似性,DNA聚合酶被歸于不同的家族。PolI、PolⅡ和PolⅢ被分別歸于A、B、C家族。PolⅣ和PolV被歸于Y家族,它們彼此相似,但與其它已知家族的DNA聚合酶均無相似性。(15)②UmuD的自裂解(即去除N末端的24個(gè)氨基酸殘基)需由RecA*催化;RecA*催化UmuD自裂解的機(jī)制與其催化LexA(與UmuD具有同源性)自裂解的機(jī)制相似,但效率要低很多,從而使得UmuD'在SOS反應(yīng)開啟約45分鐘后才開始積累。(19)③Lon可快速降解UmuC和UmuD,但難以降解UmuD';在體內(nèi),UmuD和UmuD'最初都以同二聚體的形式存在——UmuD2和UmuD'2,但同時(shí)存在的UmuD2和UmuD'2會(huì)快速的彼此交換亞基從而形成異二聚體——UmuDUmuD',在其中,由UmuD介導(dǎo),UmuD'會(huì)特異性的被ClpXP降解。(13)(14)④現(xiàn)有實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示:在E.coli菌株FC40進(jìn)入靜止期約10小時(shí)后,PolⅣ的細(xì)胞水平在RpoS的正調(diào)控下提高約3倍(在此之前,PolⅣ在靜止期FC40中的水平與其在對數(shù)期FC40中的水平基本相同。),且(在RpoS的細(xì)胞水平和活性基本保持穩(wěn)定的情況下,)這種高水平會(huì)維持至少3天(4)(21)。如果RpoS缺失(RpoS-),PolⅣ會(huì)快速減少,從而使得:在進(jìn)入靜止期48小時(shí)后,PolⅣ在RpoS-菌株中的數(shù)量比在野生型FC40中低30-50倍(4)(21)。PolⅣ并不穩(wěn)定,但RpoS對PolⅣ的穩(wěn)定性沒有影響,因而在靜止期,PolⅣ要保持高水平需要dinB基因在RpoS調(diào)控下的持續(xù)轉(zhuǎn)錄(21)。PolⅣ和PolV的結(jié)構(gòu)特性。與E.coli的其它三種DNA聚合酶”(PolI、PolⅡ和PolⅢ)相同,PolⅣ和PolV亦包含手指、拇指和手掌結(jié)構(gòu)域(均隸屬于N末端的聚合酶催化核心結(jié)構(gòu)域),但不同的是:由于其手指和拇指結(jié)構(gòu)域明顯較小,PolⅣ和PolV擁有開放和廣闊的DNA結(jié)合域,可使帶有巨大結(jié)構(gòu)性損傷的DNA進(jìn)入其催化活性中心。此外,PolⅣ和PolV在其C末端還有獨(dú)特的第四個(gè)結(jié)構(gòu)域——小指結(jié)構(gòu)域(或稱聚合酶輔助結(jié)構(gòu)域)。該結(jié)構(gòu)域可以固定DNA底物并使之朝向拇指結(jié)構(gòu)域,也可與其它輔因子(如β滑動(dòng)夾蛋白)相互作用共同調(diào)節(jié)DNA的合成。(22)-(24)PolⅣ和PolV進(jìn)行移損合成的方式及場景。憑借其獨(dú)特結(jié)構(gòu),PolⅣ和PolV可對帶有非編碼損傷的DNA進(jìn)行移損合成(translesionsynthesis,TLS),具體方式為:“通過延伸在DNA損傷處形成的鏈滑移中間體跳過模板鏈上的DNA損傷”(PolⅣ傾向于此種方式)或“在模板鏈的DNA損傷處向合成鏈插入核苷酸(不依賴于堿基配對但仍具有模板依賴性),并對新形成的引物末端進(jìn)行延伸(PolV傾向于此種方式)”。PolⅣ和PolV因此可被稱為E.coli中的TLS聚合酶。根據(jù)現(xiàn)有的有關(guān)試驗(yàn)結(jié)果,在正常的復(fù)制過程中,當(dāng)遇到存在于先導(dǎo)鏈或后隨鏈模板上的DNA損傷時(shí),復(fù)制叉至少會(huì)有兩種可能涉及TLS的表現(xiàn):一種是越過DNA損傷繼續(xù)前行(需要依賴于DnaG的復(fù)制重啟),從而在身后留下一段包含DNA損傷的子鏈缺口(平均長度為800nt[約為E.coli中岡崎片段平均長度的一半],亦被稱為“后復(fù)制缺口”[post-replicativegaps]);另一種(發(fā)生于DNA損傷存在于先導(dǎo)鏈模板時(shí))是陷于停滯(先導(dǎo)鏈DNA聚合酶[PolⅢ]會(huì)停止于DNA損傷前1nt處,或在DNA損傷上游空轉(zhuǎn),對新生鏈3'端反復(fù)進(jìn)行[少量DNA的]降解與合成,DNA解旋酶DnaB和后隨鏈復(fù)制則會(huì)超過DNA損傷位點(diǎn)繼續(xù)向前進(jìn)行一段距離,從而在DNA損傷下游形成一段DNA單鏈區(qū)。)。在前一種情況中,PolⅣ或PolV可憑借其TLS功能修復(fù)子鏈缺口——后復(fù)制TLS(E.coli亦可通過由RecA介導(dǎo)的切除修復(fù)[需要UvrABC]或同源重組[需要Holliday連接體的形成和拆分]修復(fù)子鏈缺口。這兩種路徑可統(tǒng)稱為同源依賴性缺口修復(fù)[homologydependentgaprepair--HDGR]。在通過同源重組修復(fù)子鏈缺口的過程中,DNA損傷可能不會(huì)被修復(fù),而需要在后續(xù)的修復(fù)過程中得到解決。);在后一種情況中,PolⅣ或PolV可憑借其TLS功能幫助復(fù)制叉通過DNA損傷繼續(xù)前行——復(fù)制中TLS(E.coli亦可通過復(fù)制叉回退[forkregression--FR,需要RecA]重啟復(fù)制過程。其間,DNA損傷可能不會(huì)被修復(fù),而需要在后續(xù)的修復(fù)過程中得到解決。)。在這兩種情況中,通過TLS,基因組的完整性和DNA復(fù)制的連貫性分別得以保持,但DNA損傷依然存在,需要在后續(xù)的修復(fù)過程中得到解決,因而TLS(以及HDGR和FR)被認(rèn)為是一種“損傷耐受機(jī)制(路徑)”,簡稱DT機(jī)制(路徑)-DamageToleranceMechanism(Pathway)。(15)(17)(18)(25-36)注:①“非編碼損傷”(noncodingorreplication-blockinglesions)是指對DNA復(fù)制構(gòu)成明顯阻礙的DNA損傷。那些對DNA復(fù)制沒有明顯阻礙但可導(dǎo)致點(diǎn)突變率顯著提升的DNA損傷被稱為“錯(cuò)碼損傷”(miscodinglesions)。(15)本文在討論TLS時(shí),只涉及“非編碼損傷”。②當(dāng)遇到后隨鏈模板上的DNA損傷時(shí),復(fù)制叉會(huì)幾乎沒有停頓的越過DNA損傷繼續(xù)前行,并在身后的后隨鏈上留下一段包含DNA損傷的子鏈缺口。當(dāng)遇到先導(dǎo)鏈模板上的DNA損傷時(shí),復(fù)制叉會(huì)陷于停滯,其重啟可通過三條路徑實(shí)現(xiàn):(一)復(fù)制體直接越過DNA損傷在下游重啟DNA復(fù)制;若復(fù)制體解體,則可通過PriC路徑在下游實(shí)現(xiàn)復(fù)制體的重新組裝和DNA復(fù)制的重啟(無論如何,DnaG都是必需的;在重啟的復(fù)制叉身后,會(huì)在先導(dǎo)鏈上形成一段包含DNA損傷的子鏈缺口。)。(二)憑TLS聚合酶直接通過DNA損傷。(三)復(fù)制叉回退。③現(xiàn)有實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示:在后復(fù)制缺口修復(fù)過程中,HDGR和TLS是具有競爭關(guān)系的兩條路徑,它們之間的競爭進(jìn)而對它們的調(diào)控發(fā)生于HDGR的聯(lián)會(huì)前階段(抑制子鏈缺口的擴(kuò)展或RecA蛋白絲在子鏈缺口處的組裝可同時(shí)導(dǎo)致HDGR的減少和TLS的增加)。(118)此外,這兩條路徑的配比還受DNA損傷的性質(zhì)和SOS反應(yīng)等因素的影響。(118)(119)④R·P·??怂沟热苏J(rèn)為:PolⅣ和PolV對后復(fù)制缺口的修復(fù)需要與PolⅠ、PolⅡ或PolⅢ共同完成。主要原因有三:(一)后復(fù)制缺口的平均長度為800nt,遠(yuǎn)超PolⅣ和PolV在進(jìn)行TLS和正常DNA復(fù)制時(shí)的延伸能力(見下文“PolⅣ和PolV的DNA合成速度和延伸能力”);(二)PolsⅠ-V與后復(fù)制缺口中的空置模板/引物接頭的結(jié)合是隨機(jī)的,且遵循經(jīng)典的質(zhì)量作用定律;(三)PolⅣ和PolV自身對模板/引物接頭的親和力很低,從而與模板/引物接頭的結(jié)合極不穩(wěn)定,其DNA復(fù)制需要β滑動(dòng)夾的輔助。因此,PolⅣ和PolV對后復(fù)制缺口的修復(fù)主要包括兩個(gè)階段:由PolⅣ或PolV催化的“TLS階段”和有PolⅠ、PolⅡ或PolⅢ參與的“后TLS階段”。(見下文“PolⅣ參與的后復(fù)制缺口修復(fù)”和“PolV參與的后復(fù)制缺口修復(fù)和RecA振動(dòng)模型”)PolⅣ的TLS。根據(jù)“工具帶模型”(toolbeltmodel)和現(xiàn)有的有關(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果(37-43),在復(fù)制叉處,PolⅣ的TLS需要β滑動(dòng)夾的輔助和調(diào)控:PolⅣ可通過小指結(jié)構(gòu)域與β滑動(dòng)夾的邊緣位點(diǎn)(鄰近β滑動(dòng)夾的二聚體界面和疏水裂隙)接觸,并與PolⅢ的ε亞基競爭β滑動(dòng)夾的疏水裂隙;通過(以非活化構(gòu)象)先后占據(jù)β滑動(dòng)夾的邊緣位點(diǎn)和ε疏水裂隙,PolⅣ可在復(fù)制過程中遇到PolⅢ不能通過的DNA損傷時(shí)迅速取代PolⅢ進(jìn)行TLS(該過程受到PolⅢ的ε亞基與β滑動(dòng)夾的疏水裂隙間的動(dòng)態(tài)相互作用的限制[見下文],且除需要PolⅣ與β滑動(dòng)夾的邊緣位點(diǎn)和疏水裂隙的接觸外,還[至少在SOS反應(yīng)條件下]需要PolⅣ和PolⅢ之間的相互作用(37)(39)(40)(43)。此外,至少在體外,對PolⅣ的復(fù)制而言,在占據(jù)β滑動(dòng)夾的疏水裂隙后,它與β滑動(dòng)夾的邊緣位點(diǎn)的接觸便不再必要(40)。)。在完成TLS后,由于PolⅣ的延伸能力較低,PolⅢ會(huì)快速取代PolⅣ繼續(xù)進(jìn)行復(fù)制,而在此之前,PolⅢ可能以非活化構(gòu)象結(jié)合于β滑動(dòng)夾的ɑ疏水裂隙,也可能脫離β滑動(dòng)夾但(由于PolⅢα-DnaXτ-DnaB相互作用)仍存在于復(fù)制體中。注:①首先,β滑動(dòng)夾是一包含兩個(gè)原聚體的同源二聚體,其每個(gè)原聚體都有一個(gè)疏水裂隙(即滑動(dòng)夾結(jié)合蛋白的結(jié)合位點(diǎn));PolⅢ擁有ɑεθ三個(gè)亞基,并在其(具有DNA復(fù)制活性的)ɑ亞基和(具有校對核酸外切酶活性的)ε亞基內(nèi)分別具有一強(qiáng)一弱兩個(gè)滑動(dòng)夾結(jié)合基序(CBM)。在進(jìn)行性復(fù)制過程中,PolⅢ的兩個(gè)CBM會(huì)同時(shí)結(jié)合于β滑動(dòng)夾的兩個(gè)(完全相同的)疏水裂隙(38)(與PolⅢ的ɑ和ε亞基結(jié)合的疏水裂隙可被相應(yīng)的記為ɑ疏水裂隙和ε疏水裂隙)。其次,與PolⅢ的ɑ亞基相比,PolⅢ的ε亞基對β滑動(dòng)夾疏水裂隙的親和力要弱約250倍,因而會(huì)在進(jìn)行性復(fù)制過程中頻繁脫離疏水裂隙(39),這為PolⅣ與ε疏水裂隙的結(jié)合提供了機(jī)會(huì),而與β滑動(dòng)夾的邊緣位點(diǎn)的接觸則使PolⅣ能夠更好的抓住這種機(jī)會(huì)。再次,對PolⅢ的復(fù)制而言,只有其ɑ亞基與β滑動(dòng)夾的疏水裂隙的結(jié)合是必要的(40)(41)。最后,PolⅢ的ε亞基同時(shí)與ɑ亞基和β滑動(dòng)夾結(jié)合,從而可促進(jìn)ɑ亞基與β滑動(dòng)夾結(jié)合的穩(wěn)定性,進(jìn)而有助于提高ɑ亞基的延伸能力和DNA合成速度(37)(38)。②PolⅣ的C末端小指結(jié)構(gòu)域包含243-351氨基酸殘基。在該結(jié)構(gòu)域與β滑動(dòng)夾的復(fù)合物共晶結(jié)構(gòu)中,該結(jié)構(gòu)域的346QLVLGL351殘基作為C末端CBM與β滑動(dòng)夾的一個(gè)原聚體的疏水裂隙結(jié)合,而其303VWP305殘基則越過β滑動(dòng)夾的二聚體界面與相鄰滑動(dòng)夾原聚體的邊緣位點(diǎn)(E93、L98)接觸。(44)與對β滑動(dòng)夾的疏水裂隙的親和力相比,PolⅣ對β滑動(dòng)夾的邊緣位點(diǎn)的親和力要弱約100倍。③與細(xì)胞含量處于較低的正常水平時(shí)相比,當(dāng)細(xì)胞含量因SOS反應(yīng)顯著提升時(shí),PolⅣ可更加頻繁的接觸鄰近ɑ疏水裂隙的β滑動(dòng)夾的低親和力邊緣位點(diǎn),并有效的與PolⅢ競爭β滑動(dòng)夾的ɑ疏水裂隙,從而促進(jìn)PolⅢ與β滑動(dòng)夾分離并以更高的頻率取代PolⅢ與β滑動(dòng)夾和模板/引物接頭結(jié)合,進(jìn)而導(dǎo)致PolⅢ延伸能力的下降(注:該過程發(fā)生于進(jìn)行性DNA復(fù)制過程中,且無需DNA損傷的存在,但需要PolⅣ與β滑動(dòng)夾的疏水裂隙和PolⅢ的相互作用,并受PolⅣ與β滑動(dòng)夾的邊緣位點(diǎn)的相互作用的促進(jìn),但受到PolⅢ的ε亞基與β滑動(dòng)夾的疏水裂隙間的動(dòng)態(tài)相互作用的限制;在細(xì)胞含量處于較低的正常水平時(shí),PolⅣ難以取代行進(jìn)中的PolⅢ并導(dǎo)致PolⅢ延伸能力的下降。(37)(39)(40)(43))。由于PolⅢα-DnaXτ-DnaB相互作用,在行進(jìn)過程中被PolⅣ取代并與β滑動(dòng)夾分離的PolⅢ可能持存于復(fù)制體中,直至PolⅣ因有限的延伸能力脫離模板/引物接頭,從而允許PolⅢ恢復(fù)對復(fù)制叉的控制(43)?,F(xiàn)有的有關(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果(37)(39)(40)(43)綜合傾向于表明:PolⅣ與受阻于DNA損傷的PolⅢ的轉(zhuǎn)換(switch)和對行進(jìn)中的PolⅢ的取代(displacement)是兩個(gè)不同的過程(前一個(gè)過程關(guān)乎復(fù)制中TLS,后一個(gè)過程則可能關(guān)乎在DNA損傷反應(yīng)中對DNA復(fù)制的抑制(108)。),β滑動(dòng)夾的ε疏水裂隙(及鄰近邊緣位點(diǎn))和ɑ疏水裂隙(及鄰近邊緣位點(diǎn))分別在這兩個(gè)過程中發(fā)揮著重要作用?!霸赟OS反應(yīng)條件下(PolⅣ的細(xì)胞含量較高),前一個(gè)過程需要PolⅣ和PolⅢ的相互作用(43)”,由此可以推測“在正常條件下(PolⅣ的細(xì)胞含量較低),該過程亦需要PolⅣ和PolⅢ的相互作用(與該假設(shè)一致,在正常條件下,PolⅣ并非被動(dòng)的等待受阻于DNA損傷的PolⅢ從模板-引物接頭上脫離,而是積極主動(dòng)的獲取對模板-引物接頭的控制(40)。)”,而如果該推測成立,那么“在正常條件下,PolⅣ只能與受阻于DNA損傷的PolⅢ發(fā)生切換(40)(42)(49)”這一實(shí)驗(yàn)結(jié)果則表明:PolⅢ的ɑ亞基在DNA損傷處可能會(huì)發(fā)生構(gòu)象上的變化,而這種變化可能揭露出ɑ亞基與PolⅣ的作用位點(diǎn),從而使PolⅣ能夠在結(jié)合于β滑動(dòng)夾的ε疏水裂隙后進(jìn)一步與PolⅢ的ɑ亞基相互作用,以獲取對模板引物接頭的控制。④即使在行進(jìn)復(fù)制叉中沒能通過與β滑動(dòng)夾的邊緣位點(diǎn)的接觸結(jié)合至β滑動(dòng)夾的ε疏水裂隙,PolⅣ也仍可在受阻于DNA損傷的復(fù)制叉處實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo),并進(jìn)而取代受阻的PolⅢ進(jìn)行TLS,而該過程依然受到PolⅢ的ε亞基與β滑動(dòng)夾的疏水裂隙間的動(dòng)態(tài)相互作用的限制(見下文)。⑤M·H·拉莫斯等人2017年通過體外實(shí)驗(yàn)(116)顯示:與“工具帶模型”做出的“在進(jìn)行性復(fù)制過程中,β滑動(dòng)夾可憑借其兩個(gè)疏水裂隙同時(shí)結(jié)合PolⅢ和另一TLS聚合酶”的假設(shè)不符,PolⅢ和PolⅣ無法同時(shí)與β滑動(dòng)夾穩(wěn)定結(jié)合,而只能交替結(jié)合至β滑動(dòng)夾,因而PolⅣ與β滑動(dòng)夾的穩(wěn)定結(jié)合要求PolⅢ從β滑動(dòng)夾上脫離。這些實(shí)驗(yàn)結(jié)果與S·C·科瓦爾奇科夫斯基等人2021年取得的體外實(shí)驗(yàn)結(jié)果(PolⅣ可以一種濃度和CBM依賴性的方式結(jié)合至復(fù)制體,并與復(fù)制體一起在無損DNA模板上行進(jìn)很長一段距離。(95))不符,并與張承宇等人2019年取得的體內(nèi)實(shí)驗(yàn)結(jié)果(E.coli對NFZ和MMS的敏感性只受PolⅢ的ε亞基和β滑動(dòng)夾疏水裂隙間的動(dòng)態(tài)相互作用的影響,PolⅢ的ɑ亞基對β滑動(dòng)夾疏水裂隙親和力的大幅提升不能增強(qiáng)E.coli對NFZ和MMS的敏感性(39))不相協(xié)調(diào)。⑥現(xiàn)有實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示:PolⅣ不僅可通過小指結(jié)構(gòu)域與β滑動(dòng)夾(的疏水裂隙和邊緣位點(diǎn))相互作用,還可與PolⅢ的ɑ和ε亞基以及SSB相互作用。(117)C·B·加巴伊等人雖認(rèn)為“PolⅣ可在復(fù)制叉處與受阻于DNA損傷的PolⅢ發(fā)生轉(zhuǎn)換”,但根據(jù)有關(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果指出:至少在體外,這種轉(zhuǎn)換無需PolⅣ與β滑動(dòng)夾的邊緣位點(diǎn)的接觸(雖可受到這種接觸的促進(jìn)),而是可通過PolⅣ與PolⅢ對β滑動(dòng)夾的疏水裂隙的直接競爭而實(shí)現(xiàn)(45)。除在受阻于DNA損傷的復(fù)制叉處取代PolⅢ并進(jìn)行TLS外,PolⅣ還可于后復(fù)制缺口處行使TLS功能(參與后復(fù)制缺口修復(fù))。在該過程中,PolⅣ很可能不必與PolⅢ相互作用。在復(fù)制叉越過DNA損傷繼續(xù)前進(jìn)(從而形成后復(fù)制缺口)時(shí),復(fù)制體會(huì)將β滑動(dòng)夾留在身后,該滑動(dòng)夾不會(huì)停留于(后復(fù)制缺口中)DNA損傷處的模板/引物接頭,而是會(huì)在DNA損傷上游的dsDNA上自由滑動(dòng)(46),并可在與PolⅣ隨機(jī)結(jié)合后輔助其進(jìn)行后復(fù)制TLS(見下文“PolⅣ參與的后復(fù)制缺口修復(fù)”)。S·S·亨利克斯等人利用單分子時(shí)差顯微鏡對熒光標(biāo)記的PolⅣ在分別經(jīng)環(huán)丙沙星、甲基磺酸甲酯(MMS)處理和經(jīng)紫外照射的E.coli中的活動(dòng)進(jìn)行了觀察,結(jié)果顯示:PolⅣ主要(約90%)在復(fù)制叉以外的區(qū)域行使功能,且即使在SOS反應(yīng)組成型開啟從而細(xì)胞含量大幅提升時(shí),PolⅣ與DNA的結(jié)合也依賴于DNA損傷的存在(這與傳統(tǒng)的由濃度驅(qū)動(dòng)的聚合酶競爭假設(shè)不符)(47)。與亨利克斯等人取得的實(shí)驗(yàn)結(jié)果有所不同,E·S·思羅爾等人構(gòu)建了承載功能性內(nèi)源PolⅣ和光激活熒光蛋白融合物的E.coli菌株,并使用粒子跟蹤光活化定位顯微鏡對該菌株進(jìn)行了成像研究,結(jié)果顯示,“PolⅣ的聚集位置和募集機(jī)制會(huì)依DNA損傷類型的不同而有所差別;在經(jīng)MMS處理的細(xì)胞中,PolⅣ富集于復(fù)制叉(這與M·K·斯科特蘭等人取得的有關(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果[即:若PolⅣ因突變特異性的喪失與PolⅢ相互作用的能力,其在體內(nèi)處理由MMS造成的DNA損傷的能力將顯著下降。(43)]相一致),且PolⅣ的募集需要β滑動(dòng)夾(48)。張承宇等人在有關(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果(39)(50)(51)的基礎(chǔ)上指出:“在E.coli中,復(fù)制中TLS和后復(fù)制TLS是兩條具有競爭關(guān)系的TLS路徑(加巴伊等人亦在有關(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的基礎(chǔ)上得出過類似結(jié)論(45)),對這兩條路徑的選擇受PolⅢ的ε亞基和β滑動(dòng)夾疏水裂隙間的動(dòng)態(tài)相互作用的調(diào)控,這種動(dòng)態(tài)相互作用(獨(dú)立于ε亞基的校對核酸外切酶活性)構(gòu)成了對PolⅣ與β滑動(dòng)夾的疏水裂隙進(jìn)而與模板/引物接頭的結(jié)合具有阻礙作用的動(dòng)力學(xué)屏障;PolⅣ克服這種屏障的能力與其細(xì)胞水平正相關(guān);與細(xì)胞水平較高時(shí)(如在SOS反應(yīng)條件下)相比,在細(xì)胞水平較低(如本底水平)時(shí),PolⅣ更難克服這種屏障(或者說,更難捕獲PolⅢ的ε亞基脫離β滑動(dòng)夾的疏水裂隙時(shí)形成的開放狀態(tài),或更難促進(jìn)這種開放狀態(tài)的形成。),從而會(huì)更多的進(jìn)行后復(fù)制TLS”;SSB可通過與PolⅣ的相互作用(非特異性的)促進(jìn)PolⅣ在受阻于DNA損傷的復(fù)制叉(而非在行進(jìn)復(fù)制叉)處的富集,從而有助于PolⅣ克服這種屏障,更多的進(jìn)行復(fù)制中TLS。注:PolⅢ的ε亞基和β滑動(dòng)夾疏水裂隙間的動(dòng)態(tài)相互作用不影響復(fù)制體越過DNA損傷并在下游重啟DNA復(fù)制的內(nèi)在傾向和能力。在遇到先導(dǎo)鏈模板上的DNA損傷時(shí),復(fù)制體越過DNA損傷并在下游重啟DNA復(fù)制的速度可能不受DNA損傷的化學(xué)性質(zhì)的影響;該過程在體外耗時(shí)約為4分鐘,在體內(nèi)耗時(shí)估計(jì)約為10秒鐘,因而在體內(nèi)可能有尚未發(fā)現(xiàn)的因子促進(jìn)該過程的進(jìn)行。(39)亨利克斯等人之所以觀察到“PolⅣ主要(約90%)在復(fù)制叉以外的區(qū)域行使功能,且即使在SOS反應(yīng)組成型開啟時(shí)PolⅣ與DNA的結(jié)合也依賴于DNA損傷的存在”可能在一定程度上是因?yàn)椋涸谄鋵?shí)驗(yàn)中,受試菌株的PolⅣ水平普遍較低。的確,經(jīng)亨利克斯等人測定,PolⅣ在其所用受試菌株(MG1655)中的本底水平僅為20拷貝(遠(yuǎn)低于S·R·吉姆等人在E.coli菌株YG2247[P90C的衍生菌株]中測定的250拷貝(5));在經(jīng)環(huán)丙沙星處理后,PolⅣ的細(xì)胞水平雖有顯著提升,但仍僅為250拷貝(遠(yuǎn)低于吉姆等人在經(jīng)MMS處理的YG2247中測定的2500拷貝(5))(47)。PolV的TLS。根據(jù)不同模型,PolV的TLS所需的輔助蛋白雖基本相同,但PolV在激活和進(jìn)行TLS的具體方式上卻有很大不同。根據(jù)福克斯等人提出的“順式激活模型”,PolV的TLS需要RecA*和β滑動(dòng)夾的輔助:在進(jìn)行性復(fù)制過程中,當(dāng)復(fù)制體遇到模板鏈上的DNA損傷時(shí),PolⅢ受阻于DNA損傷處,繼而從模板/引物接頭上脫離,在DNA損傷下游則會(huì)形成一段(會(huì)首先被SSB覆蓋的)DNA單鏈區(qū)。RecA*在RecFOR的催化下形成于該單鏈區(qū),并促進(jìn)SOS反應(yīng)的開啟和PolV(UmuD'2C)的合成。TLS聚合酶(PolsⅡ[見下文]、Ⅳ、V)隨機(jī)的與空置的模板/引物接頭結(jié)合(遵循經(jīng)典的質(zhì)量作用定律,各TLS聚合酶與空置模板/引物接頭隨機(jī)結(jié)合的概率取決于其相對細(xì)胞含量。)。PolV一旦結(jié)合至模板/引物接頭,并與RecA*的3'末端和β滑動(dòng)夾結(jié)合,具有完整的TLS功能的RecA*-PolV-β滑動(dòng)夾復(fù)合物便會(huì)形成。RecA*可通過對單鏈模板的拉伸(在模板鏈上存在難以復(fù)制的DNA序列[如二級結(jié)構(gòu)]時(shí))促進(jìn)PolV對新生鏈的延伸,并可通過其3'末端與PolV的相互作用激活作為TLS聚合酶的PolV,從而確保PolV相對于DNA底物的正確定位;隨對新生鏈的延伸,PolV不斷從3'末端按3'→5'方向置換RecA*,同時(shí)RecA*從5'末端按5'→3'方向發(fā)生解離。在整個(gè)TLS過程中,β滑動(dòng)夾促進(jìn)了PolV與DNA底物結(jié)合的穩(wěn)定性(根據(jù)P·法姆等人的假設(shè),這有助于PolV在延伸過程中與RecA*的3'末端保持接觸。)。在每次結(jié)合至模板/引物接頭后,PolV須在被高保真度DNA聚合酶替換前,于RecA*和β滑動(dòng)夾的輔助下合成足夠長的有效TLS補(bǔ)丁(TLSpatch),否則過短的TLS補(bǔ)丁會(huì)因DNA損傷導(dǎo)致的DNA結(jié)構(gòu)變形而被具有3'→5'校對活性的高保真度DNA聚合酶降解,從而使既發(fā)的TLS歸于無效(PolⅣ的TLS也有同樣的要求)。(15)(17)(28)(52-55)注:①??怂沟热巳〉玫挠嘘P(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示:5nt的TLS補(bǔ)丁(包括在損傷位點(diǎn)處插入的1nt和隨后[在損傷位點(diǎn)下游]插入的正確的4nt)即可得到PolⅢ和PolⅡ的有效延伸。(17)(54)②每次結(jié)合至模板/引物接頭后,PolV合成的TLS補(bǔ)丁的平均長度可受(所要通過的)DNA損傷的化學(xué)性質(zhì)和序列環(huán)境等因素的影響。比如,體外實(shí)驗(yàn)顯示:每次結(jié)合至位于G-AAF加合物處的模板/引物接頭后,PolV在RecA*和β滑動(dòng)夾的輔助下合成TLS補(bǔ)丁的平均長度約為18nt,合成有效TLS補(bǔ)丁的概率約為75%;相比之下,每次結(jié)合至位于TT(6-4)或TT-CPD損傷處的模板/引物接頭后,PolV在RecA*和β滑動(dòng)夾的輔助下合成TLS補(bǔ)丁的平均長度和合成有效TLS補(bǔ)丁的概率均略有下降。(52-54)根據(jù)古德曼等人提出的“反式激活模型”,PolV的TLS需要RecA、ATP和β滑動(dòng)夾的輔助:與DNA損傷反式排列的RecA*可通過其3'末端向PolV傳輸一個(gè)結(jié)合有ATP的RecA單體,從而形成具有DNA合成(包括TLS)活性的PolV-ATP-RecA復(fù)合物(PolVMut),繼而該復(fù)合物會(huì)沿DNA鏈搜索需要進(jìn)行TLS的部位,并會(huì)在完成TLS后,很快通過ATP水解脫離模板/引物接頭(注:PolVMut與模板/引物接頭的結(jié)合需要ATP,或者說,PolV-RecA復(fù)合物只有在與ATP結(jié)合形成PolVMut后,才能與模板/引物接頭結(jié)合;PolVMut具有DNA依賴性ATP酶活性,但其形成和TLS均無需ATP水解。),這在很大程度上限制了PolV復(fù)制未受損DNA的范圍。如果ssDNA和RecA*依然存在,脫離模板/引物接頭的PolV可通過與先前相同的方式被重新激活,并再次進(jìn)行DNA合成(包括TLS)。在PolVMut的TLS過程中,β滑動(dòng)夾可以促進(jìn)PolV與DNA底物結(jié)合的穩(wěn)定性,并可抑制PolVMut的ATP酶活性,從而延長其在模板/引物接頭上停留的時(shí)間(這可顯著提升PolVMut合成有效TLS補(bǔ)丁的效率)。(18)(55-64)注:①與“順式激活模型”截然相反,根據(jù)“反式激活模型”,在PolV的TLS過程中,RecA*并不存在于DNA損傷下游的單鏈區(qū),其對PolV的激活相對于DNA損傷(或者說,需要進(jìn)行TLS的部位)是反式的;在激活PolV后,RecA*遂不在PolV的TLS過程中發(fā)揮作用(19)(60)。導(dǎo)致這種不同的主要原因是:首先,古德曼等人進(jìn)行的體外實(shí)驗(yàn)顯示,“位于一個(gè)模板/引物DNA分子上的PolV可被形成于另一引物/模板DNA分子中之模板鏈的RecA*激活”(62);其次,古德曼等人在有關(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果(55)(56)的基礎(chǔ)上認(rèn)為,“PolV難以置換模板鏈上的RecA*,因而如果RecA*存在于DNA損傷下游的單鏈區(qū),PolV的TLS會(huì)受到極大阻礙(19)”。有趣的是,古德曼等人2012年發(fā)表的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)(62)顯示:于體外,在β滑動(dòng)夾存在的情況下,RecA*既可順式催化,也可反式催化PolV的TLS;被激活的PolV在沒有RecA*存在的模板鏈上的延伸能力明顯高于其在有RecA*存在的模板鏈上的延伸能力。據(jù)此,可以設(shè)想:在體內(nèi),PolV既可被RecA*順式激活,也可被RecA*反式激活,但通常激活以順式方式進(jìn)行(因?yàn)镻olV在SOS反應(yīng)晚期出現(xiàn)并發(fā)揮作用。此時(shí),RecA的細(xì)胞含量大幅提升,所有的ssDNA很可能都被RecA蛋白絲覆蓋。),并且(由于PolV自身具有一定的置換RecA*的能力,或由于某種[些]蛋白因子[如SSB、UvrD、PcrA]的作用)存在于DNA損傷下游的RecA*不會(huì)阻礙PolV有效進(jìn)行TLS,但會(huì)限制其復(fù)制未受損DNA的范圍。②至于PolV的TLS是否需要β滑動(dòng)夾,古德曼等人的觀點(diǎn)并非始終一致(15)。他們曾在2002年后的一段相當(dāng)長的時(shí)間里認(rèn)為:雖然可在某些條件下促進(jìn)PolV的TLS,但β滑動(dòng)夾并不為PolV的TLS所需要。直至2012-2021年,他們的觀點(diǎn)才(在有關(guān)生化實(shí)驗(yàn)[以含有TT-CPD或無堿基位點(diǎn)的環(huán)狀ssDNA模板為反應(yīng)底物,從而更接近體內(nèi)條件](62)(64)的基礎(chǔ)上)逐漸發(fā)生改變,認(rèn)為PolV的TLS需要β滑動(dòng)夾,從而與福克斯等人(通過有關(guān)遺傳實(shí)驗(yàn)(15)得出)的觀點(diǎn)取得一致。③與PolⅣ一樣,PolV亦可與β滑動(dòng)夾的疏水裂隙以外的區(qū)域相互作用(65);PolV亦可由β滑動(dòng)夾介導(dǎo)與PolⅢ發(fā)生轉(zhuǎn)換進(jìn)而催化TLS,且這種轉(zhuǎn)換亦受到PolⅢ的ε亞基和β滑動(dòng)夾疏水裂隙間的動(dòng)態(tài)相互作用的限制(39)(根據(jù)古德曼等人的觀點(diǎn),在這種轉(zhuǎn)換發(fā)生前,PolV可能就已被RecA*激活為PolVMut(19)。)。無論“順式激活模型”還是“反式激活模型”,PolV的TLS都需要RecA和β滑動(dòng)夾。此外,A·羅賓遜等人通過有關(guān)實(shí)驗(yàn)顯示:PolV主要在后復(fù)制TLS過程中發(fā)揮作用(59)。在“反式激活模型”描述的情境中,于DNA損傷上游的dsDNA上自由滑動(dòng)的β滑動(dòng)夾可與在DNA上游走的PolVMut結(jié)合,并輔助其進(jìn)行后復(fù)制TLS。dNTP池的大小對PolⅣ和PolV的TLS的影響。dNTP池的大小與PolⅢ的DNA合成活性正相關(guān),而與PolⅢ的3'→5'校對活性負(fù)相關(guān)。dNTP池的擴(kuò)大可抑制PolⅢ的3'→5'校對活性,從而顯著提升E.coli細(xì)胞通過TLS處理多種DNA損傷(如G-AAF、TT-CPD、TT(6-4))的能力,且同時(shí)不降低TLS過程對TLS聚合酶的依賴。在受到基因毒性壓力(如紫外照射)時(shí),E.coli細(xì)胞會(huì)通過SOS反應(yīng)上調(diào)TLS聚合酶的水平,同時(shí)通過不依賴于SOS反應(yīng)的路徑上調(diào)nrdAB基因的表達(dá),使dNTP池?cái)U(kuò)大(3-4倍);dNTP池的擴(kuò)大和TLS聚合酶水平的上調(diào)協(xié)同作用促進(jìn)TLS。(15)PolⅣ和PolV的TLS能力。PolⅣ和PolV通過DNA損傷的效率可受DNA損傷的性質(zhì)和序列環(huán)境的影響。從“可通過DNA損傷的類型”這個(gè)方面講,PolV可通過多種類型的DNA損傷(如6-4胸腺嘧啶光產(chǎn)物、cis-syn型胸腺嘧啶二聚物、無堿基位點(diǎn)、腺嘌呤加合物),因而對受損DNA的復(fù)制能力較強(qiáng),而與之相比,(有遺傳證據(jù)支持的)PolⅣ所能通過的DNA損傷的類型則比較有限(只有少數(shù)位于DNA小溝的[由諸如BaP、NFZ、4-NQO等導(dǎo)致的]N2-鳥嘌呤加合物和烷基化加合物[如3meA,可由MMS導(dǎo)致]),因而對受損DNA的復(fù)制能力較弱。目前,有研究人員在相關(guān)實(shí)驗(yàn)和研究成果的基礎(chǔ)上認(rèn)為:PolⅣ被進(jìn)化來專門處理輕微的小溝損傷,而PolV則可處理包括大溝損傷在內(nèi)的較為嚴(yán)重的DNA損傷。(1)(5)(15)(17)(29-33)(66)(也見參考文獻(xiàn)(94))注:①現(xiàn)有的以E.coli為材料進(jìn)行的有關(guān)實(shí)驗(yàn)表明:TLS是PolV的一項(xiàng)重要生理功能;在多種致變條件下,TLS均主要由PolV催化進(jìn)行。(33)(67)-(69)②PolⅣ和PolV在TLS能力和存在時(shí)間上的差異可對TLS的發(fā)生路徑產(chǎn)生影響。由于包含大溝損傷在內(nèi)的嚴(yán)重DNA損傷難以被PolⅣ通過,而多可被PolV通過,所以在正常生長的E.coli細(xì)胞中(無PolV),復(fù)制叉在遇到先導(dǎo)鏈模板上的此類損傷時(shí)往往只能選擇兩種方式加以應(yīng)對:一是復(fù)制叉回退;二是越過損傷繼續(xù)前進(jìn),從而在身后留下一段子鏈缺口(后復(fù)制缺口),繼而通過同源重組或待到SOS反應(yīng)晚期由PolV(和其它DNA聚合酶)進(jìn)行修復(fù)(見下文“PolⅤ參與的后復(fù)制缺口修復(fù)和‘RecA震動(dòng)模型’”)。因此,在正常生長的E.coli細(xì)胞中,由發(fā)生于先導(dǎo)鏈模板的嚴(yán)重DNA損傷引發(fā)的TLS主要為后復(fù)制TLS。③??怂沟热苏J(rèn)為:在E.coli中,不存在可根據(jù)DNA損傷的性質(zhì)(如DNA損傷的化學(xué)性質(zhì)和其在DNA雙螺旋結(jié)構(gòu)上的位置)特異性的募集適恰的TLS聚合酶的分子機(jī)制(或者說,DNA損傷不能“指導(dǎo)”TLS聚合酶與受阻模板/引物接頭的結(jié)合)。就TLS而言,TLS聚合酶與β滑動(dòng)夾和模板/引物接頭的結(jié)合是隨機(jī)的,且遵循經(jīng)典的質(zhì)量作用定律(主要參數(shù)為:TLS聚合酶的細(xì)胞含量及其對β滑動(dòng)夾和模板/引物接頭的親和力)(15)(17)。在此基礎(chǔ)上,TLS過程可被近似的看做一種試錯(cuò)過程:如果隨機(jī)結(jié)合至β滑動(dòng)夾和模板/引物接頭的TLS聚合酶可通過DNA損傷并合成足夠長的(或者說,有效的)TLS補(bǔ)丁,TLS便獲得成功;反之,如果隨機(jī)結(jié)合至β滑動(dòng)夾和模板/引物接頭的TLS聚合酶不能通過DNA損傷或不能合成足夠長的TLS補(bǔ)丁,TLS便以失敗告終,新一輪的嘗試(起始于新一輪的TLS聚合酶與β滑動(dòng)夾和模板/引物接頭的隨機(jī)結(jié)合)便會(huì)開始(15)(17)。此外,C·印第安尼等人通過有關(guān)實(shí)驗(yàn)顯示“在行進(jìn)復(fù)制叉中,達(dá)到SOS反應(yīng)誘導(dǎo)水平的RecA可顯著促進(jìn)PolsⅡ、Ⅳ、V取代PolⅢ進(jìn)行DNA復(fù)制,并導(dǎo)致DNA復(fù)制速度的下降(SSB則反而會(huì)促進(jìn)PolⅢ的DNA復(fù)制,并抑制TLS聚合酶的DNA復(fù)制。)”,從而表明“在行進(jìn)復(fù)制叉處,TLS聚合酶和PolⅢ之間的切換很可能受到比單純的‘質(zhì)量作用驅(qū)動(dòng)’更加復(fù)雜的機(jī)制的調(diào)控”(70)。PolⅣ和PolV對受損DNA的復(fù)制保真度和導(dǎo)致定標(biāo)突變(targetedmutagenesis)的能力。PolⅣ和PolV對受損DNA的復(fù)制保真度可受DNA損傷的化學(xué)性質(zhì)和序列環(huán)境的影響。總體而言,受各自對受損DNA的復(fù)制保真度和TLS能力等因素的影響,與PolⅣ相比,PolV導(dǎo)致定標(biāo)突變的能力更強(qiáng)。(5)(29)(32)(33)注:現(xiàn)有的以E.coli為材料進(jìn)行的有關(guān)實(shí)驗(yàn)表明,“在多種致變條件下,絕大部分定標(biāo)突變都源自PolV的TLS”。(33)(67)-(69)PolⅣ和PolV對未受損DNA的復(fù)制保真度。由于不具有3'–5'核酸外切酶活性從而缺乏校對功能(該功能的缺失可使DNA聚合酶的復(fù)制保真度下降102-103倍),且不具有獨(dú)特的α螺旋(相當(dāng)于PolI中的O螺旋,可提高DNA聚合酶的復(fù)制保真度),PolⅣ和PolV對未受損DNA的復(fù)制保真度遠(yuǎn)低于已知的E.coli的其它3種DNA聚合酶(PolI、PolⅡ、PolⅢ)(1)(2)(24)(71),而與PolⅣ相比,PolV對未受損DNA的復(fù)制保真度(10-3-10-4)還要低5-10倍(29)。因此,PolⅣ和PolV在對未受損DNA進(jìn)行復(fù)制時(shí),均會(huì)以很高的頻率導(dǎo)致非定標(biāo)突變(untargetedmutagenesis)的發(fā)生。在對未受損DNA進(jìn)行復(fù)制時(shí),PolⅣ的復(fù)制進(jìn)而致變能力的理想發(fā)揮依賴于β、γ復(fù)合物和SSB(β、γ復(fù)合物和SSB可顯著提升PolⅣ的延伸能力;β、γ復(fù)合物可使PolⅣ的延伸能力、DNA合成效率和對dNTP的親合力分別提高300-400倍、約3000倍和約10倍。)(29)(72-74);PolV的復(fù)制進(jìn)而致變能力的理想發(fā)揮依賴于RecA、ATP、SSB和β、γ復(fù)合物(RecA*、SSB和β,γ復(fù)合物可顯著提升PolV的延伸能力和DNA合成效率[RecA可在SSB、β,γ復(fù)合物和ATP存在的情況下,使PolV的DNA合成效率提高15000倍]。)(15)(17)(29)(53)(55)(57)(60-62)(75)。注:①由于對未受損DNA的復(fù)制保真度極低,PolV在E.coli細(xì)胞中受到極其嚴(yán)格的調(diào)控。除在上文中已提及的轉(zhuǎn)錄水平調(diào)控(涉及UmuC、UmuD的表達(dá))和轉(zhuǎn)錄后調(diào)控(涉及UmuC、UmuD、UmuD'的穩(wěn)定性和PolV的DNA復(fù)制活性)外,現(xiàn)有的有關(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示,PolV還在時(shí)間和空間上受到一種特殊機(jī)制的調(diào)控:在經(jīng)紫外照射約45分鐘后(不同實(shí)驗(yàn)條件下,該時(shí)間可能有所差異),UmuC開始合成,但不會(huì)被立即激活,其絕大部分先是被吸附于細(xì)胞內(nèi)膜,直至UmuD'(在RecA*催化下)出現(xiàn)(經(jīng)紫外照射約90分鐘后[不同實(shí)驗(yàn)條件下,該時(shí)間可能有所差異])并與UmuD'結(jié)合后,才會(huì)被釋放至細(xì)胞質(zhì)中。(59)②在E.coli細(xì)胞中,PolⅡ亦可在β滑動(dòng)夾的輔助下對含有某些損傷(如?C加合物、處于特定序列環(huán)境中的G-AAF加合物)的DNA進(jìn)行TLS,并導(dǎo)致定標(biāo)突變(如C
→T堿基轉(zhuǎn)換、-2移碼
)的高頻發(fā)生(76)(77)(注:取決于DNA損傷的化學(xué)性質(zhì)和序列環(huán)境,PolⅡ可單獨(dú)或與PolV一起進(jìn)行TLS(31)(78);與PolsⅣ、V一樣,PolⅡ亦可與β滑動(dòng)夾的疏水裂隙以外的區(qū)域相互作用(79),并亦可由β滑動(dòng)夾介導(dǎo)與PolⅢ發(fā)生轉(zhuǎn)換進(jìn)而催化TLS,且這種轉(zhuǎn)換亦受到PolⅢ的ε亞基和β滑動(dòng)夾的疏水裂隙間的動(dòng)態(tài)相互作用的限制(39)。),但由于具有3'–5'校對活性,其對未受損DNA的復(fù)制保真度較高。與PolⅣ和PolV一樣,PolⅡ亦可受SOS反應(yīng)正調(diào)控(在SOS反應(yīng)中,PolⅡ的細(xì)胞水平可從本底水平的≤50拷貝提升至≤350拷貝。);除SOS反應(yīng)外,PolⅡ在經(jīng)絲裂霉素C(MMC)處理的對數(shù)期細(xì)胞中的充分表達(dá)還需要RpoS反應(yīng)的調(diào)控(80)。至于PolⅡ的生理功能,現(xiàn)有實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示:除進(jìn)行TLS外,PolⅡ還可在復(fù)制(特別是后隨鏈復(fù)制)過程中糾正PolⅢ導(dǎo)致的復(fù)制錯(cuò)誤(81)(82);在經(jīng)紫外照射的細(xì)胞中參與催化高保真度的復(fù)制重啟(83);參與對鏈間交聯(lián)(84)以及由紫外照射(85)和氧化(80)(86)造成的DNA損傷的修復(fù);在細(xì)胞因養(yǎng)分脅迫而處于靜止期時(shí),增強(qiáng)和提高細(xì)胞的長期生存能力和進(jìn)化適合度(87);在對數(shù)期細(xì)胞中促進(jìn)遺傳多樣性(88)。③TLS雖然不總是致變,但本質(zhì)上容易出錯(cuò),因而被稱為誤性(error-prone)DT機(jī)制,而HDGR和FR則因其高保真度被稱為無誤(error-free)DT機(jī)制。PolⅣ和PolV導(dǎo)致的定標(biāo)突變的類型。雖然由PolⅣ和PolV導(dǎo)致的定標(biāo)突變譜可受DNA損傷的化學(xué)性質(zhì)和序列環(huán)境的影響,但總體而言,由于在進(jìn)行TLS的方式上的傾向性(見上文“PolⅣ和PolV進(jìn)行TLS的方式及場景”),PolⅣ傾向于導(dǎo)致移碼,而PolV傾向于導(dǎo)致堿基置換。(5)(18)(32)(33)PolⅣ和PolV導(dǎo)致的非定標(biāo)突變的類型。在對未受損DNA進(jìn)行復(fù)制時(shí),PolⅣ主要導(dǎo)致由單堿基缺失造成的移碼,而與PolⅢ相比,PolⅣ導(dǎo)致堿基置換的頻率也明顯較高;PolV主要導(dǎo)致發(fā)生于嘌呤與嘧啶之間的堿基顛換,而與PolⅢ相比,PolV導(dǎo)致其它類型突變(如移碼以及發(fā)生于嘌呤與嘌呤之間或嘧啶與嘧啶之間的堿基轉(zhuǎn)換)的頻率也明顯較高。值得注意的是:作為最重要的復(fù)制后DNA修復(fù)系統(tǒng),MMR可非常有效的防止移碼和堿基轉(zhuǎn)換的發(fā)生,但防止堿基顛換的效率相對較低。因此,相較于PolⅤ,PolⅣ的致變性在更大程度上受到MMR的抑制。(1)(5)(18)(29)(89-93)注:由PolⅢ導(dǎo)致的復(fù)制錯(cuò)誤如不被修復(fù),則有75%會(huì)導(dǎo)致移碼和堿基轉(zhuǎn)換。(91)PolⅣ和PolV的DNA合成速度和延伸能力。體外實(shí)驗(yàn)顯示:(一)在β滑動(dòng)夾存在的情況下,PolⅣ在無損DNA模板上的平均合成速度為3-5nt/秒,平均延伸能力為300-400nt(在無β滑動(dòng)夾存在的情況下,PolⅣ在無損DNA模板上的延伸能力僅為≤1nt。),每次駐留于模板/引物接頭的平均時(shí)間約為97秒;當(dāng)DNA損傷([-ta]-BaP-dG)存在時(shí),PolⅣ的平均延伸能力(相對于其在無損DNA模板上的平均延伸能力)大幅下降至約5nt,從而表明其駐留于模板/引物接頭的時(shí)間大部分用于通過DNA損傷。(二)在β滑動(dòng)夾和RecA存在的情況下,PolⅤ在無損DNA模板上的平均合成速度約為0.3nt/秒,平均延伸能力約為25nt(最大延伸能力約為100nt;在無β滑動(dòng)夾存在的情況下,PolⅤ在無損DNA模板上的延伸能力僅為1nt。),每次駐留于模板/引物接頭的平均時(shí)間約為86秒;當(dāng)DNA損傷(G-AAF加合物、TT(6-4)或TT-CPD)存在時(shí),PolⅤ通過DNA損傷的時(shí)間約為24-34秒,PolⅤ的平均延伸能力小幅下降至約15-18nt。(15)(17)(53)(54)(72)注:在E.coli中,PolⅤ是合成速度最慢的DNA聚合酶;PolⅢ的DNA合成速度最快,為>650nt/秒;PolⅠ和PolⅡ在無損DNA模板上的DNA合成速度則分別為13-15nt/秒和20-30nt/秒。此外,在無損DNA模板上,PolⅠ、PolⅡ和PolⅢ的延伸能力分別為≤700nt、≥1600nt和≥50000nt,且其延伸能力強(qiáng)烈依賴于β滑動(dòng)夾;若β滑動(dòng)夾不存在,其延伸能力將分別大幅下降至15-20nt、5nt和10-15nt(平均約12nt)。(15)(17)在無損DNA模板上,PolⅣ和PolⅤ的平均延伸能力和合成速度雖有顯著差異(300-400ntvs25nt;3-5nt/秒vs0.3nt/秒),但其每次駐留于模板/引物接頭的平均時(shí)間卻相差不大(97秒vs86秒),這表明其對模板/引物接頭的親和力比較接近,而這種親和力可能主要來源于其與β滑動(dòng)夾的相互作用。(17)PolⅣ參與的后復(fù)制缺口修復(fù)(Post-replicativeGapRepair)。2020年,??怂沟热嗽谟嘘P(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的基礎(chǔ)上明確指出,“PolⅣ和PolⅤ是在后復(fù)制缺口而非復(fù)制叉處行使TLS功能(該觀點(diǎn)值得商榷);PolⅣ和PolⅤ的TLS是后復(fù)制缺口修復(fù)的有機(jī)組成部分”,并對PolⅣ和PolⅤ參與的后復(fù)制缺口修復(fù)進(jìn)行了研究和描述。(17)在PolⅣ參與的后復(fù)制缺口修復(fù)過程中,根據(jù)??怂沟热说募僭O(shè):(一)β滑動(dòng)夾發(fā)揮著不可或缺的輔助作用;PolⅣ可隨機(jī)結(jié)合至DNA損傷處的模板/引物接頭,但這種結(jié)合很不穩(wěn)定,因而PolⅣ很難進(jìn)一步與在DNA損傷上游的dsDNA上自由滑動(dòng)的β滑動(dòng)夾結(jié)合。PolⅣ與β滑動(dòng)夾的結(jié)合因此成為整個(gè)后復(fù)制缺口修復(fù)反應(yīng)的限速步驟。(二)由于PolⅣ的細(xì)胞含量較高(本底水平250拷貝,SOS反應(yīng)誘導(dǎo)下可達(dá)2500拷貝),所以當(dāng)后復(fù)制缺口包含高保真度DNA聚合酶無法通過的小溝損傷時(shí),PolⅣ可通過反復(fù)結(jié)合至模板/引物接頭,最終實(shí)現(xiàn)與β滑動(dòng)夾的結(jié)合,進(jìn)而有效進(jìn)行TLS。(三)在進(jìn)行TLS時(shí),PolⅣ的延伸能力非常有限(見上文),因而在其完成TLS并脫離模板/引物接頭后,仍會(huì)有大段的后復(fù)制缺口需要填補(bǔ)。在正常(或者說無損)的模板/引物接頭上,PolⅣ無法與高保真度DNA聚合酶競爭(即使在SOS反應(yīng)條件下亦是如此),因而在PolⅤ未激活表達(dá)時(shí),后TLS時(shí)期的后復(fù)制缺口修復(fù)基本上完全由高保真度DNA聚合酶催化完成。這使得:當(dāng)PolⅤ未激活表達(dá)時(shí),在PolⅣ參與的包含小溝損傷的后復(fù)制缺口修復(fù)過程中,非定標(biāo)突變僅高發(fā)于TLS補(bǔ)丁。(17)注:①PolⅤ可能在大多數(shù)情況下都在后復(fù)制缺口(而非復(fù)制叉)處行使TLS功能,因?yàn)镻olⅤ僅在SOS反應(yīng)晚期才開始出現(xiàn)(此時(shí),需由PolⅤ進(jìn)行TLS處理的DNA損傷可能大都已存在于后復(fù)制缺口中。),且即使在SOS反應(yīng)的正調(diào)控下,PolⅤ也只能達(dá)到15-60拷貝的細(xì)胞水平,從而可能較難克服由PolⅢ的ε亞基和β滑動(dòng)夾疏水裂隙間的動(dòng)態(tài)相互作用構(gòu)成的動(dòng)力學(xué)屏障,進(jìn)而更傾向于進(jìn)行后復(fù)制TLS。PolⅣ的情況則有所不同:PolⅣ具有較高的本底水平(250拷貝),而在SOS反應(yīng)早期,PolⅣ更可達(dá)到2500拷貝的細(xì)胞水平,從而可更大程度的克服由PolⅢ的ε亞基和β滑動(dòng)夾疏水裂隙間的動(dòng)態(tài)相互作用構(gòu)成的動(dòng)力學(xué)屏障,進(jìn)而更多的進(jìn)行復(fù)制中TLS?,F(xiàn)有的一系列體外實(shí)驗(yàn)表明:PolⅣ可有效的在復(fù)制叉處對含某些損傷的DNA進(jìn)行TLS(39)(45)(66);現(xiàn)有的一系列體內(nèi)實(shí)驗(yàn)也傾向于表明:至少在某些條件下,PolⅣ會(huì)在相當(dāng)程度上于復(fù)制叉處行使TLS功能(39)(43)(48)(50)(94)。有研究人員甚至認(rèn)為:PolⅣ可能是(或至少在某些條件[如DNA損傷反應(yīng)]下是)復(fù)制體的一個(gè)組成部分,它有助于復(fù)制體克服模板鏈上的障礙,順暢前行(45)(66)(95)。②福克斯等人假設(shè):在后復(fù)制缺口修復(fù)過程中,在Y家族DNA聚合酶完成DNA復(fù)制并脫離模板/引物接頭后,留下的β滑動(dòng)夾不會(huì)停留于該接頭,而是會(huì)在其上游的dsDNA上自由滑動(dòng)。(17)PolⅤ參與的后復(fù)制缺口修復(fù)和“RecA震動(dòng)模型”。福克斯等人2018年通過有關(guān)實(shí)驗(yàn)顯示:在對含TT(6-4)損傷的后復(fù)制缺口進(jìn)行的修復(fù)過程中,非定標(biāo)突變不僅高發(fā)于TLS補(bǔ)丁,還頻發(fā)于TLS補(bǔ)丁的下游區(qū)域(長達(dá)數(shù)百nt),甚至可在DNA損傷的上游區(qū)域(以一定程度上低于DNA損傷下游區(qū)域的頻率)被觀察到;非定標(biāo)突變率雖自DNA損傷位點(diǎn)向下整體的逐漸下行,但下行幅度并不均勻,而是(在長達(dá)數(shù)百nt的后復(fù)制缺口內(nèi))呈現(xiàn)出具有周期性的震蕩模式(表現(xiàn)為:幾十nt的低突變區(qū)與約50nt的高突變區(qū)交替存在。從圖像上看,與TLS補(bǔ)丁相比,TLS補(bǔ)丁下游的高突變區(qū)[亦被稱為“后TLS補(bǔ)丁”--“post-TLSpatch”]由于受相鄰低突變區(qū)的影響,尺寸較為寬大,邊界也較為模糊。),且TLS補(bǔ)丁下游的高突變區(qū)的形成由PolⅤ介導(dǎo),而與PolⅣ無關(guān);在DNA損傷的上游區(qū)域觀察到的非定標(biāo)突變亦由PolⅤ導(dǎo)致(DNA損傷上游的高突變區(qū)亦被稱為“前TLS補(bǔ)丁”--“pre-TLSpatch”。);由PolⅤ導(dǎo)致的非定標(biāo)突變并未受到MMR的有效抑制。(17)(96)對于這些實(shí)驗(yàn)結(jié)果,??怂沟热私o出的解釋主要包括:(一)在后復(fù)制缺口修復(fù)過程中,PolsⅠ-V隨機(jī)的與空置模板/引物接頭結(jié)合,各聚合酶與空置模板/引物接頭隨機(jī)結(jié)合的概率取決于其相對細(xì)胞含量。(二)TLS補(bǔ)丁下游的高突變區(qū)的形成由PolⅤ介導(dǎo)而與PolⅣ無關(guān)是因?yàn)椋篜olⅣ與模板/引物接頭的結(jié)合極不穩(wěn)定,以至于即使在SOS反應(yīng)條件下(PolⅣ的細(xì)胞含量可大幅提升至2500拷貝),PolⅣ在結(jié)合至模板/引物接頭后進(jìn)一步與在該接頭上游的dsDNA上自由滑動(dòng)的β滑動(dòng)夾結(jié)合的效率依然很低,而若無β滑動(dòng)夾輔助,PolⅣ在正常DNA模板上的延伸能力僅為≤1nt。雖然PolⅤ與模板/引物接頭的結(jié)合同樣極不穩(wěn)定,但與PolⅣ不同,存在于后復(fù)制缺口的RecA*可通過其3'末端與PolⅤ的相互作用為PolⅤ與模板/引物接頭的結(jié)合提供額外的穩(wěn)定性,從而顯著提高了PolⅤ進(jìn)一步與β滑動(dòng)夾結(jié)合的效率,進(jìn)而使得PolⅤ在完成TLS后且在細(xì)胞含量較低的情況下依然能夠在后復(fù)制缺口修復(fù)過程中反復(fù)導(dǎo)致高突變區(qū)的形成。(三)在有損和無損DNA模板上,每次結(jié)合至模板/引物接頭后,在β滑動(dòng)夾和RecA的輔助下,PolⅤ的平均延伸能力分別僅為15-18nt和25nt(在無損DNA模板上的最大延伸能力也僅為約100nt)。“PolⅤ-RecA復(fù)合物”(即:PolⅤ脫離復(fù)合物--PolⅤdissociationcomplex[PolV-dc])離開模板/引物接頭后,在模板/引物接頭和RecA*的3'末端之間會(huì)留下一段空隙。這段空隙使得PolⅤ無法同時(shí)與模板/引物接頭和RecA*的3'末端結(jié)合(或者說,無法功能性的結(jié)合至模板/引物接頭),而高保真度DNA聚合酶此時(shí)可(功能性的)結(jié)合至模板/引物接頭,并(通常)在沒有β滑動(dòng)夾輔助的情況下進(jìn)行DNA復(fù)制,隨高保真度DNA聚合酶對模板/引物接頭的延伸,RecA*按3'→5'方向發(fā)生回退(由RecA單體從RecA*3'末端的解離導(dǎo)致)。由于沒有β滑動(dòng)夾的輔助,高保真度DNA聚合酶的延伸能力非常有限,平均僅為約12nt。當(dāng)高保真度DNA聚合酶脫離模板/引物接頭時(shí),在模板/引物接頭和RecA*的3'末端之間會(huì)形成0-3nt(即0nt、1nt、2nt或3nt)的空隙,且其中只有一種尺寸的空隙可供PolⅤ同時(shí)與模板/引物接頭和RecA*的3'末端結(jié)合。繼而,高保真度DNA聚合酶會(huì)以較大概率結(jié)合至模板/引物接頭,并繼續(xù)形成一段低突變區(qū);PolⅤ則會(huì)以較小概率功能性的結(jié)合至模板/引物接頭,并進(jìn)一步與β滑動(dòng)夾結(jié)合,進(jìn)而再次形成一段高突變區(qū)。這種PolⅤ和高保真度DNA聚合酶交替功能性的結(jié)合至模板/引物接頭并對其進(jìn)行延伸的過程可反復(fù)進(jìn)行,從而可以解釋“非定標(biāo)突變率在后復(fù)制缺口內(nèi)呈現(xiàn)出的具有周期性的震蕩模式”。(四)雖然概率較小,但結(jié)合至模板/引物接頭的高保真度DNA聚合酶仍可能與(在模板/引物接頭上游的dsDNA上自由滑動(dòng)的)β滑動(dòng)夾結(jié)合,從而有助于導(dǎo)致“非定標(biāo)突變率在后復(fù)制缺口內(nèi)自DNA損傷位點(diǎn)向下整體的逐漸下行”。(五)由PolⅤ導(dǎo)致的非定標(biāo)突變可在DNA損傷的上游區(qū)域(以在一定程度上低于DNA損傷下游區(qū)域的頻率)被觀察到是因?yàn)椋涸贒NA損傷或(過短的)無效TLS補(bǔ)丁處的新生鏈3'端可被高保真度DNA聚合酶降解,從而使后復(fù)制缺口擴(kuò)大至(RecA*也隨即延伸至)DNA損傷的上游區(qū)域。在PolⅤ出現(xiàn)前,由此產(chǎn)生的DNA損傷上游的單鏈區(qū)由高保真度DNA聚合酶填補(bǔ);在PolⅤ出現(xiàn)后,PolⅤ會(huì)隨機(jī)參與對該單鏈區(qū)的填補(bǔ),并導(dǎo)致非定標(biāo)突變的發(fā)生。(六)由PolⅤ導(dǎo)致的非定標(biāo)突變并未受到MMR的有效抑制是因?yàn)椋涸诤髲?fù)制缺口修復(fù)過程中,由于沒有復(fù)制叉的存在,MMR的效能受到抑制。(17)(96)注:①福克斯等人認(rèn)為:在PolⅤ對含TT(6-4)損傷的后復(fù)制缺口進(jìn)行修復(fù)時(shí),細(xì)胞處于SOS反應(yīng)中,RecA的細(xì)胞含量大幅提升,因而所有ssDNA都會(huì)被RecA蛋白絲覆蓋。(17)②生理?xiàng)l件下,在RecA*中,一個(gè)RecA單體會(huì)結(jié)合3個(gè)核苷酸,因而形成于DNA損傷下游的RecA*的3'末端與模板/引物接頭之間可能會(huì)存在0-2nt的空隙,而其中只有一種尺寸的空隙可供PolⅤ同時(shí)與模板/引物接頭和RecA*的3'末端結(jié)合。其余尺寸的不適恰空隙則可依憑RecA*固有的動(dòng)態(tài)特性(源于由ATP水解驅(qū)動(dòng)的RecA*的內(nèi)部重組)或由高保真度DNA聚合酶對新生鏈3'端反復(fù)進(jìn)行的降解與合成(類似于在由DNA損傷導(dǎo)致的停滯復(fù)制叉中受阻PolⅢ的一種表現(xiàn)——見上文“PolⅣ和PolV進(jìn)行TLS的方式及場景”)而被調(diào)整至適恰狀態(tài)。(17)③??怂沟热思僭O(shè):在后復(fù)制缺口修復(fù)過程中,大多數(shù)高保真度DNA聚合酶在結(jié)合至模板/引物接頭后便開始對其進(jìn)行延伸,并會(huì)在與(于模板/引物接頭上游的dsDNA上自由滑動(dòng)的)β滑動(dòng)夾結(jié)合前(因有限的延伸能力)脫離模板/引物接頭。(17)④福克斯等人指出:在兩種情況下,PolV會(huì)和PolⅣ一起參與到包含小溝損傷的后復(fù)制缺口修復(fù)過程中,并導(dǎo)致非定標(biāo)突變的頻繁發(fā)生。(1)后復(fù)制缺口包含的小溝損傷需由PolⅣ和PolV協(xié)同催化通過(17),比如:對含[+ta]-BaP-dG的DNA的TLS需由PolⅣ和PolV協(xié)作催化完成(具體方式可能是:一者在DNA損傷處向合成鏈插入核苷酸,另一者負(fù)責(zé)對由此形成的新的引物3'端進(jìn)行延伸。(97))。(2)小溝損傷的數(shù)量過多,耗竭了由PolⅣ介導(dǎo)的快速通過(DNA損傷的)能力,細(xì)胞進(jìn)入SOS反應(yīng)晚期,PolV出現(xiàn)并參與到包含小溝損傷的后復(fù)制缺口修復(fù)過程中(17)。鑒于在后復(fù)制缺口修復(fù)過程中,PolV可反復(fù)結(jié)合至模板/引物接頭并導(dǎo)致TLS補(bǔ)丁和前、后TLS補(bǔ)丁的形成,福克斯等人于2020年在“順式激活模型”及有關(guān)實(shí)驗(yàn)和研究成果的基礎(chǔ)上提出“RecA震動(dòng)模型”,以描述結(jié)合于模板/引物接頭的PolV在覆蓋有RecA*的ssDNA上的延伸過程。根據(jù)該模型,PolV隨機(jī)結(jié)合至后復(fù)制缺口中的模板/引物接頭,并與(由RecFOR催化形成于模板/引物接頭下游的)RecA*的3'末端結(jié)合。RecA*的3'末端和PolV的相互作用為PolV與模板/引物接頭的結(jié)合提供了額外的穩(wěn)定性,從而顯著提升了PolV進(jìn)一步與在模板/引物接頭上游的dsDNA上自由滑動(dòng)的β滑動(dòng)夾結(jié)合的效率。RecA單體會(huì)以一定的速度從RecA*的3'末端脫離。如果一個(gè)RecA單體在PolV與β滑動(dòng)夾結(jié)合后從RecA*的3'末端脫離(伴有ATP水解[ATP→ADP]),那么它仍會(huì)結(jié)合于PolV(RecA*3'末端的RecA單體對PolV的親和力高于其對RecA*中相鄰單體的親和力),并導(dǎo)致“模板/引物接頭-β滑動(dòng)夾-PolV-RecA-ADP復(fù)合物”(即:PolV功能性復(fù)合物-PolVfunctionalcomplex[PolV-fc])的形成(該過程被稱為“RecA俘獲”)。由于RecA-ADP復(fù)合物對ssDNA的親和力很低,所以在PolV-fc中,RecA-ADP會(huì)處于與ssDNA快速結(jié)合與分離的循環(huán)狀態(tài),即所謂的“RecA震動(dòng)”。這種震動(dòng)一方面可使PolV感知它與RecA*的3'末端之間的距離(或者說“空隙”);另一方面,可在復(fù)制過程中確保結(jié)合至β滑動(dòng)夾的PolV在DNA底物上的正確定位(這有助于PolV通過模板鏈上的DNA損傷和難以復(fù)制的DNA序列[與PolⅣ不同,PolV的延伸能力的確不會(huì)受到模板鏈上的DNA損傷的顯著影響——見上文“PolⅣ和PolV的DNA合成速度和延伸能力”])。“RecA俘獲”發(fā)生后,PolV-fc與RecA*的3'末端之間會(huì)形成一段3nt的空隙,而在RecA震動(dòng)過程中,RecA-ADP復(fù)合物需占據(jù)5nt的ssDNA片段,因而此時(shí)PolV-fc無法延伸。直至又一RecA單體從RecA*的3'末端脫離,從而使PolV-fc與RecA*的3'末端之間的空隙擴(kuò)大至6nt,PolV-fc此時(shí)向前延伸1nt(使空隙縮小至5nt)便會(huì)停止,直至又一RecA單體從RecA*的3'末端脫離,從而使空隙擴(kuò)大至8nt。此后,PolV-fc每次向前延伸3nt(使空隙縮小至5nt)便會(huì)停止,直至又一RecA單體從RecA*的3'末端脫離,使空隙再度擴(kuò)大至8nt。如此循環(huán)往復(fù),直至PolV-dc(PolV-RecA)脫離模板/引物接頭。如果處于RecA*3'末端的RecA單體總能在遇到PolV-fc前就從RecA*上脫離,從而使得PolV-fc與RecA*的3'末端之間始終有>5nt的空隙,那么PolV-fc的延伸便可沒有停頓的持續(xù)進(jìn)行,直至PolV-dc脫離模板/引物接頭(每次形成后,PolV-fc的延伸既可間斷進(jìn)行,也可持續(xù)進(jìn)行,還可以兩種方式相結(jié)合的形式進(jìn)行。)。在PolV完成DNA復(fù)制并脫離模板/引物接頭后,模板/引物接頭和RecA*的3'末端之間會(huì)形成一段5-8nt的空隙。(17)注:在無損DNA模板上,PolV的延伸速度(約0.3nt/秒)約為PolⅣ的(3-5nt/秒)十分之一。??怂沟热苏J(rèn)為:造成這種顯著差異的原因可能是“RecA震動(dòng)模型”所描述的PolV的獨(dú)特延伸方式(17)。在提出“RecA震動(dòng)模型”的同時(shí),??怂沟热酥赋?,在PolV的后復(fù)制缺口修復(fù)過程中,RecA主要具有四種功能:(一)通過催化SOS反應(yīng)和UmuD自裂解促進(jìn)PolV的合成(RecA*);(二)為PolV與模板/引物接頭的結(jié)合提供額外的穩(wěn)定性,從而促進(jìn)PolV進(jìn)一步與在模板/引物接頭上游的dsDNA上自由滑動(dòng)的β滑動(dòng)夾結(jié)合(RecA*);(三)拉伸模板鏈以使PolV-fc能在其包含的難以復(fù)制的DNA序列上平滑延伸(RecA*);(四)通過RecA震動(dòng)使PolV感知其與RecA*的3'末端之間的距離(空隙),并在復(fù)制過程中確保結(jié)合至β滑動(dòng)夾的PolV在DNA底物上的正確定位(RecA-ADP)。(17)在提出“RecA震動(dòng)模型”后,??怂沟热诉M(jìn)一步指出:關(guān)于PolV在體外實(shí)驗(yàn)中表現(xiàn)出的生化特性,之所以出現(xiàn)多種不同的、甚至是相互沖突的模型(如“順式激活模型”和“反式激活模型”)是因?yàn)?在PolV的后復(fù)制缺口修復(fù)過程中,不同形態(tài)的RecA(RecA-ATP、RecA-ADP)和β滑動(dòng)夾發(fā)揮了復(fù)雜的、時(shí)序性的重要作用,從而使得PolV的生化特性敏感的依賴于實(shí)驗(yàn)條件(如核苷酸輔因子的性質(zhì)、模板-引物接頭的幾何性狀),進(jìn)而導(dǎo)致了在體外實(shí)驗(yàn)中取得的不同的、甚至相互沖突的實(shí)驗(yàn)結(jié)果。福克斯等人并認(rèn)為:“RecA震動(dòng)模型”整合了現(xiàn)有的大部分相關(guān)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù),并可能成為調(diào)和該領(lǐng)域中許多長期存在且令人困惑的矛盾和爭論的一個(gè)范例。(17)注:“RecA震動(dòng)模型”比“順式激活模型”和“反式激活模型”更加復(fù)雜,其有效性建立在許多尚需驗(yàn)證的假設(shè)之上。此外,與“順式激活模型”相比(“RecA震動(dòng)模型”不再認(rèn)為PolV能在延伸過程中置換RecA*),“RecA震動(dòng)模型”同“反式激活模型”之間的矛盾或許更加尖銳,兩者在PolV的激活方式上仍持不同觀點(diǎn);兩者對“ATP和ADP在PolV的DNA合成過程中所發(fā)揮的作用”的解釋亦截然不同,正相反對。PolⅣ和PolV的生理功能。(一)PolⅣ和PolV均可在DNA損傷反應(yīng)中通過TLS促進(jìn)DNA復(fù)制的連續(xù)性和基因組的完整性(18)(31)。此外,PolⅣ有較高的本底水平和很高的保守性(PolⅣ的同源物存在于迄今被研究過的所有生物體中[PolV的同源物則僅在原核生物中被發(fā)現(xiàn)]),并可延伸錯(cuò)位(凸起)的模板/引物接頭(1)(31),且可以相對較高的保真度對含有某些小溝損傷(如N2-furfuryl-dG、N2-CEdG)的DNA進(jìn)行TLS(98)(99),因而在正常生長的細(xì)胞中,“催化(由異常模板/引物接頭導(dǎo)致的)停滯復(fù)制叉的重啟(31)”和“對含有某些頻發(fā)且較難被切除修復(fù)的小溝損傷的DNA進(jìn)行TLS(40)(98)(99)”很可能是PolⅣ的(可解釋其高本底水平和保守性的)兩項(xiàng)重要生理功能。(二)古德曼等人2002年通過以E.coli為材料進(jìn)行的有關(guān)實(shí)驗(yàn)顯示:在細(xì)胞因養(yǎng)分脅迫而處于靜止期時(shí),PolⅣ和PolV可通過確保染色體復(fù)制和促進(jìn)遺傳多樣性,增強(qiáng)和提高細(xì)胞的長期生存能力和進(jìn)化適合度(注:在整個(gè)實(shí)驗(yàn)過程中,不存在能夠造成DNA損傷進(jìn)而引發(fā)SOS反應(yīng)的外部因素[如紫外照射]。)(86)。目前,“在細(xì)胞受到選擇壓力并處于靜止期時(shí)促進(jìn)遺傳多樣性是否是PolⅣ和PolV的一項(xiàng)生理功能”還有待進(jìn)一步確證,但有越來越多的證據(jù)(許多來自于E.coli中的適應(yīng)性突變研究(100))顯示:答案很可能是肯定的(15)(17)(100)。(三)雖然目前尚無PolⅣ和PolV參與堿基切除修復(fù)過程的遺傳證據(jù),但有研究顯示:AP裂合酶活性為PolⅣ和PolV所固有(101)。(四)PolⅣ(或PolⅡ)和PolV可以同核苷酸切除修復(fù)系統(tǒng)一起修復(fù)存在于兩條互補(bǔ)鏈上且緊密間隔的DNA損傷,并導(dǎo)致突變率的提高(核苷酸切除修復(fù)誘發(fā)突變-NERiM),該過程不依賴于活躍的DNA復(fù)制,甚至可在靜止期E.coli中發(fā)生(注:在發(fā)生于靜止期E.coli的NERiM過程中,PolⅡ基本不發(fā)揮作用。)(102)。(五)有研究人員在有關(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果的基礎(chǔ)上指出:PolⅣ很可能在重建解體復(fù)制叉的過程中發(fā)揮作用(103)(104)。在通過BIR路徑重建解體復(fù)制叉的過程中,在包含PolⅢ的復(fù)制叉被重新建立前,D環(huán)的穩(wěn)定可能需要PolⅣ對侵入鏈3'端的延伸(可能無需β滑動(dòng)夾(48))。(103)(105)(六)目前有實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示:當(dāng)達(dá)到SOS反應(yīng)誘導(dǎo)水平時(shí),PolⅣ可在一定程度上降低DNA的復(fù)制速度,而PolⅣ的過量合成(如:>100000拷貝/細(xì)胞)則可顯著抑制DNA復(fù)制,并導(dǎo)致細(xì)胞死亡(106-108)(其原因可能是:過量合成時(shí),PolⅣ可不受控制的取代PolⅢ與模板/引物接頭結(jié)合(106)(107)。的確,在體外,當(dāng)PolⅣ對PolⅢ的濃度比達(dá)于SOS反應(yīng)條件下的3倍時(shí),PolⅣ已可不必接觸β滑動(dòng)夾,而直接通過與PolⅢ的相互作用取代PolⅢ與模板/引物接頭結(jié)合,從而使PolⅢ的延伸能力[較PolⅣ不存在時(shí)]下降2倍(43)。),PolⅣ也因此被認(rèn)為發(fā)揮著DNA損傷檢驗(yàn)點(diǎn)效應(yīng)器的作用,可在DNA損傷反應(yīng)中遲滯DNA復(fù)制(106)(107)(該觀點(diǎn)尚需進(jìn)一步驗(yàn)證。現(xiàn)有的與該觀點(diǎn)不相一致的實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示:PolⅣ功能的缺失并未使E.coli對可導(dǎo)致不能被PolⅣ通過的DNA損傷的作用劑[如紫外照射]表現(xiàn)出增強(qiáng)的敏感性。(43))。(七)PolⅣ可與轉(zhuǎn)錄延伸因子NusA相互作用,進(jìn)而恢復(fù)因DNA損傷陷于停滯的轉(zhuǎn)錄過程(“轉(zhuǎn)錄耦聯(lián)TLS”)(109)。PolⅣ、UmuC、UmuD、RecA、PolV之間的相互作用及影響和由UmuC、UmuD構(gòu)成的DNA損傷檢驗(yàn)點(diǎn)。現(xiàn)有的有關(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果顯示:(一)PolⅣ可與RecA、UmuD2和UmuD'2直接相互作用,并形成穩(wěn)定的復(fù)合物(PolⅣ-RecA、PolⅣ-UmuD2、PolⅣ-UmuD'2、PolⅣ-RecA-UmuD2、PolⅣ-RecA-UmuD'2)。(110)(二)在快速生長的E.coli細(xì)胞中,UmuD的過量合成可顯著抑制PolⅣ的致-1移碼活性,而UmuD的缺失則可顯著促進(jìn)PolⅣ的致-1移碼活性。(110)(三)在因饑餓而處于靜止期的E.coli菌株(FC40)中,UmuD(或UmuD')的過量合成可顯著抑制PolⅣ的致-1移碼活性。(110)(四)UmuD對PolⅣ的致-1移碼活性的抑制需要RecA,UmuD和RecA可能通過限制PolⅣ的相對開放的活性位點(diǎn)抑制其對錯(cuò)位(凸起)的模板/引物接頭的延伸;UmuD和RecA可顯著抑制PolⅣ延伸錯(cuò)配模板/引物接頭的能力,但可大幅(>20倍)提升PolⅣ延伸正確配對的模板/引物接頭的能力。(110)(五)UmuD缺失對野生型E.coli的PolⅣ依賴性NFZ抗性沒有影響;因突變不能通過N2-furfuryl-dG的PolⅣ(DinB(F13V))仍能有效促進(jìn)-1移碼突變的發(fā)生。(110)(六)PolⅣ可通過與UmuD2的相互作用,抑制由RecA*催化的UmuD2的自裂解,進(jìn)而抑制PolV的形成。(110)(七)PolⅣ的過量合成可顯著抑制PolV的致變性。這可能是因?yàn)椤癙olⅣ會(huì)與PolV競爭模板/引物接頭”,或者是因?yàn)椤癙olⅣ會(huì)通過與UmuD2的相互作用,抑制PolV的形成”。(110)(八)在30℃生長條件下,UmuD和UmuC的細(xì)胞含量的提高可在不影響蛋白質(zhì)合成的情況下抑制DNA復(fù)制(111)(112);在受紫外照射的E.coli細(xì)胞中,UmuD和UmuC可遲滯DNA復(fù)制的重啟(111)。(九)UmuD2'C可通過與RecA*的相互作用抑制同源重組(113)。上述實(shí)驗(yàn)結(jié)果綜合表明:(一)在對數(shù)期和靜止期細(xì)胞中,UmuD2和RecA可通過與PolⅣ的直接相互作用顯著抑制其致-1移碼活性;(二)PolⅣ的致-1移碼活性和它通過某些N2-鳥嘌呤加合物的能力在遺傳上相互獨(dú)立且可彼此分離。(三)UmuD和UmuC可能發(fā)揮著DNA損傷檢驗(yàn)點(diǎn)的作用,即:在DNA損傷發(fā)生時(shí)調(diào)控DNA復(fù)制,以避免DNA損傷在復(fù)制過程中進(jìn)一步惡化,并在DNA復(fù)制重啟前為高保真度的DNA損傷處理機(jī)制(如核苷酸切除修復(fù))提供更多的運(yùn)作時(shí)間,從而提高細(xì)胞的生存率(111)(114)。(四)UmuD可抑制突變的發(fā)生,而UmuD'可促進(jìn)突變的發(fā)生,UmuD'的出現(xiàn)則表示細(xì)胞從依憑高保真度DNA損傷處理機(jī)制向選擇低保真度DNA損傷處理機(jī)制(即:PolV的TLS)過渡以及從低突變狀態(tài)向高突變狀態(tài)轉(zhuǎn)變(115)。最后,值得注意的是,如果有實(shí)驗(yàn)證據(jù)表明“RecA和UmuD可在不影響PolⅣ的TLS能力的情況下,抑制PolⅣ的致堿基置換活性”,那么根據(jù)上述(一)-(五)中描述的實(shí)驗(yàn)結(jié)果以及思羅爾等人取得的有關(guān)實(shí)驗(yàn)結(jié)果(即:在經(jīng)呋嗎唑酮[NFZ]處理的E.coli細(xì)胞中,PolⅣ的活動(dòng)不集中于復(fù)制叉,且其募集不依賴于β滑動(dòng)夾,而可能需要RecA。)(48),關(guān)于PolⅣ和PolV參與的后復(fù)制缺口修復(fù),至少在某些情況下,似乎存在以下兩種(不同于福克斯等人之觀點(diǎn)的)可能:(一)在包含小溝損傷的后復(fù)制缺口修復(fù)過程中,PolⅣ隨機(jī)結(jié)合至空置模板/引物接頭后,存在于模板/引物接頭下游的RecA*可通過其3'末端與PolⅣ的相互作用,為PolⅣ與模板-引物接頭的結(jié)合提供額外的穩(wěn)定性,從而顯著提高PolⅣ與(在模板/引物接頭上游的dsDNA上自由滑動(dòng)的)β滑動(dòng)夾隨機(jī)結(jié)合的概率,進(jìn)而使得PolⅣ能夠(比福克斯等人設(shè)想的)更加高效的進(jìn)行TLS,并可在TLS前、后參與后復(fù)制缺口修復(fù)。這非常類似于??怂沟热嗣枋龅腜olV參與的包含大溝損傷的后復(fù)制缺口修復(fù)過程,可能的不同之處在于:(1)在TLS前、后,即使不與β滑動(dòng)夾結(jié)合,PolⅣ也可在RecA和UmuD的輔助下功能性的結(jié)合至模板/引物接頭,從而參與后復(fù)制缺口修復(fù);(2)生理?xiàng)l件下,由于RecA和UmuD對PolⅣ的致變活性的抑制,相較由PolV復(fù)制的DNA片段,在由PolⅣ復(fù)制的DNA片段中,非定標(biāo)突變的發(fā)生頻率明顯偏低。(二)在包含大溝損傷的后復(fù)制缺口修復(fù)過程中,PolⅣ可導(dǎo)致(或參與導(dǎo)致)TLS補(bǔ)丁下游的低突變區(qū)的形成。本文摘編自:“適應(yīng)性突變的四種主要模型及本質(zhì)(2023版)——曲競超著”作者聯(lián)系方式:“生物進(jìn)化與適應(yīng)”(微信公眾號)chaoranzhai@(郵箱)
參考文獻(xiàn):(1)WagnerJ.,GruzP.,KimS.R.,YamadaM.,MatsuiK.,FuchsR.P.,NohmiT.1999.ThedinBgeneencodesanovelE.coliDNApolymerase,DNApolIV,involvedinmutagenesis.Mol.Cell4:281-286.(2)MengjiaTang,XuanShen,E.G.Frank,M.O'Donnell,R.Woodgate,andGoodman,M.F.1999.UmuD'2Cisanerror-proneDNA
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