金屬靶材行業(yè)投資價值分析及發(fā)展前景預(yù)測

金屬靶材行業(yè)投資價值分析及發(fā)展前景預(yù)測濺射靶材應(yīng)用場景半導(dǎo)體芯片是對濺射靶材的成分、組織和性能要求的最高的領(lǐng)域。具體來講，半導(dǎo)體芯片的制作過程可分為硅片制造、晶圓制造和芯片封裝等三大環(huán)節(jié)，其中，在晶圓制造和芯片封裝這兩個環(huán)節(jié)中都需要用到金屬濺射靶材。靶材在晶圓制造環(huán)節(jié)主要被用作金屬濺鍍，常采用PVD工藝進行鍍膜，通常使用純度在99．9995%（5N5）及以上的銅靶、鋁靶、鉭靶、鈦靶以及部分合金靶等；靶材在芯片封裝環(huán)節(jié)常用作貼片焊線的鍍膜，常采用高純及超高純金屬銅靶、鋁靶、鉭靶等。具體來看，半導(dǎo)體領(lǐng)域用量較多的濺射靶材主要有鉭靶、銅靶、鋁靶、鈦靶等，其中銅靶和鉭靶多配合起來使用，分別用于生成銅導(dǎo)電層和鉭阻擋層，在110nm以下技術(shù)節(jié)點中大量使用；鋁靶和鈦靶則主要用于8英寸晶圓110nm以上技術(shù)節(jié)點中導(dǎo)電層和阻擋層的制備。隨著芯片制程持續(xù)微縮，銅靶和鉭靶需求有望持續(xù)增長，而汽車芯片等仍廣泛使用成熟制程，鋁靶和鈦靶仍有大量應(yīng)用。半導(dǎo)體芯片用金屬濺射靶材的作用，就是給芯片上制作傳遞信息的金屬導(dǎo)線。具體工藝過程為，在完成濺射工藝后，使各種靶材表面的原子一層一層地沉積在半導(dǎo)體芯片的表面上，然后再通過的特殊加工工藝，將沉積在芯片表面的金屬薄膜刻蝕成納米級別的金屬線，將芯片內(nèi)部數(shù)以億計的微型晶體管相互連接起來，從而起到傳遞信號的作用。進入濺射靶材行業(yè)的主要壁壘（一）濺射靶材行業(yè)技術(shù)壁壘高性能濺射靶材是典型的技術(shù)密集型行業(yè)。濺射靶材的性能影響下游客戶的鍍膜質(zhì)量，濺射靶材的純度、致密度和成分均勻性、晶粒等對靶材性能都有一定影響，但不同應(yīng)用的材料品種和性能要求各有側(cè)重。如平面顯示靶材面積大對均勻性、綁定率要求高；半導(dǎo)體靶材對純度要求高等。以上相關(guān)的技術(shù)要求都對應(yīng)了較高的技術(shù)門檻，包括粉末制備、塑性加工、熱處理和機械加工等技術(shù)環(huán)節(jié)，都對生產(chǎn)廠商的生產(chǎn)技術(shù)、機器設(shè)備、工藝流程和工作環(huán)境都提出了非常嚴格的要求。長期以來，以美國、日本為代表的高性能濺射靶材生產(chǎn)商在掌握核心技術(shù)以后，執(zhí)行非常嚴格的保密和專利授權(quán)措施，這對新進入行業(yè)的企業(yè)設(shè)定了較高的技術(shù)門檻。（二）濺射靶材行業(yè)客戶認證壁壘高性能濺射靶材技術(shù)含量高，其產(chǎn)品質(zhì)量、性能指標直接決定了終端產(chǎn)品的品質(zhì)和穩(wěn)定性，屬于下游客戶在生產(chǎn)中使用的關(guān)鍵材料。因此，高性能濺射靶材行業(yè)存在嚴格的供應(yīng)商認證機制，同時滿足下游客戶的質(zhì)量標準和性能要求，方能成為合格供應(yīng)商。通常情況下，半導(dǎo)體芯片、平面顯示器、太陽能電池等下游客戶對濺射靶材供應(yīng)商的認證過程主要包括供應(yīng)商初評、產(chǎn)品報價、樣品檢測、小批量試用、穩(wěn)定性檢測、批量生產(chǎn)等幾個階段，認證過程較為苛刻，認證周期較長。以平面顯示行業(yè)為例，在客戶一條世代線上完成濺射靶材的認證，一般至少需要2-3年的時間。如果該客戶擁有多條世代線的，供應(yīng)廠商若想批量供應(yīng)至其他世代線，則每一條都必須經(jīng)過認證，但在沒有完成第一條世代線的認證前，無法同時對該客戶其他世代線進行認證。因此，在認證過程中供應(yīng)廠商投入的資金和時間成本，對多數(shù)行業(yè)內(nèi)中小企業(yè)而言，往往難以承受。由于平面顯示行業(yè)固定資產(chǎn)投入金額巨大，往往一條高世代線的建設(shè)成本為200-300億元，考慮到產(chǎn)線折舊等因素，引入新合格供應(yīng)商的成本及風(fēng)險遠高于收益，客戶一般傾向于與已通過認證的供應(yīng)商長期合作，不斷加大對該類供應(yīng)商產(chǎn)線的開放認證。因此，新進入行業(yè)內(nèi)企業(yè)面臨著較高的客戶認證壁壘。（三）濺射靶材行業(yè)資金壁壘高性能濺射靶材行業(yè)亦屬于資金密集型產(chǎn)業(yè)。一方面，靶材生產(chǎn)企業(yè)的固定資產(chǎn)投資較大。除廠房投入外，企業(yè)需要投入大量的資金購置不同種類的生產(chǎn)設(shè)備，同時需要配套先進的檢測設(shè)備以保障產(chǎn)品質(zhì)量；另一方面，隨著下游應(yīng)用領(lǐng)域的發(fā)展速度不斷加快，尤其是終端電子消費品的市場競爭加劇，生產(chǎn)技術(shù)標準越來越嚴格，行業(yè)內(nèi)企業(yè)需要不斷加大對產(chǎn)品研發(fā)、技術(shù)裝備的投資力度，才能在激烈的市場競爭中持續(xù)發(fā)展。（四）濺射靶材行業(yè)人才壁壘高性能濺射靶材的技術(shù)及生產(chǎn)工藝涉及到材料學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)、工程學(xué)等多個學(xué)科，技術(shù)含量高、工藝復(fù)雜，研發(fā)和制造需要大批具有深厚專業(yè)背景、豐富實踐經(jīng)驗的復(fù)合型技術(shù)人才。由于前期美國、日本、韓國等跨國集團壟斷了高性能濺射靶材的核心技術(shù)和關(guān)鍵設(shè)備，導(dǎo)致國內(nèi)高性能濺射靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，行業(yè)內(nèi)符合以上條件的專業(yè)人才數(shù)量較少，對新進入行業(yè)的企業(yè)形成了一定的人才壁壘。平面顯示行業(yè)概述自20世紀20年代CRT技術(shù)作為第一代顯示技術(shù)商業(yè)化應(yīng)用后，平面顯示技術(shù)經(jīng)歷了多輪迭代，形成了目前常見的LCD和OLED技術(shù)。LCD技術(shù)與OLED技術(shù)的主要區(qū)別在于發(fā)光原理不同，LCD是一種依賴于背光的顯示技術(shù)，LED模組作為背光源產(chǎn)生光，再通過液晶面板上信號與電壓的改變來控制液晶分子的轉(zhuǎn)動方向，從而控制每個像素點偏振光射出與否并實現(xiàn)顯示；OLED面板則具有自身發(fā)光的特點，通過控制OLED子像素的亮度即可發(fā)出不同顏色的光，無需單獨外加背光源。目前，LCD顯示屏占據(jù)著消費電子、工業(yè)、汽車等絕大部分應(yīng)用市場，而OLED顯示屏作為第三代顯示技術(shù)，具有輕薄、無污點、可視角范圍廣、柔性強等優(yōu)勢，在未來全面屏、柔性顯示等趨勢下具有廣泛的應(yīng)用。（一）平面顯示行業(yè)發(fā)展歷程由于平面顯示技術(shù)、全球經(jīng)濟形勢、電子產(chǎn)品市場多方面因素變化的影響，全球平面顯示產(chǎn)業(yè)出現(xiàn)了多次國際性產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移。顯示技術(shù)從歐美向日本轉(zhuǎn)移，并在日本實現(xiàn)了大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化，1995年左右日本占有全球顯示面板超過90%的市場份額。平面顯示產(chǎn)業(yè)從日本向韓國、中國臺灣轉(zhuǎn)移。韓國、中國臺灣的面板產(chǎn)業(yè)均在政府的大力支持下得到了快速成長。第二次產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移后，全球平面顯示行業(yè)形成了日、韓、中國臺灣三分天下的局面。中國加入世貿(mào)組織后，全球顯示產(chǎn)業(yè)開始從日、韓和中國臺灣等地逐漸向中國大陸轉(zhuǎn)移，并呈現(xiàn)加速態(tài)勢。受益于我國政府十二五、十三五國家戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)發(fā)展規(guī)劃的政策支持，我國平面顯示產(chǎn)業(yè)在此期間得到了飛速發(fā)展，中國大陸地區(qū)產(chǎn)能于2019年登頂全球首位。經(jīng)過以上國際產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移后，目前全球平面顯示產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)基地主要集中在日、韓、中國臺灣和中國大陸。其中，日、韓和中國臺灣的平面顯示產(chǎn)業(yè)發(fā)展比較成熟，形成了以夏普、LG、三星、群創(chuàng)、友達為代表的多家知名企業(yè)。中國大陸近十年來快速追趕，逐漸成為全球平面顯示產(chǎn)業(yè)布局的中心，京東方、華星光電、惠科集團等國內(nèi)頭部企業(yè)已在全球競爭中擁有相當(dāng)?shù)氖袌鲇绊懥?。伴隨國內(nèi)企業(yè)在全球市場逐步掌握話語權(quán)，其對平面顯示產(chǎn)業(yè)鏈上游供應(yīng)鏈的穩(wěn)定性需求相應(yīng)提升，尤其近年來國際貿(mào)易環(huán)境發(fā)生變化的背景下，平面顯示產(chǎn)業(yè)對關(guān)鍵原材料自主可控的國產(chǎn)化需求日益迫切。（二）平面顯示行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及未來發(fā)展趨勢顯示面板是手機、電視、平板電腦、筆記本電腦、安防監(jiān)控設(shè)備、車載顯示屏等設(shè)備必不可少的組成部件，是平面顯示行業(yè)的主要構(gòu)成。隨著下游應(yīng)用領(lǐng)域的不斷拓展與市場需求的持續(xù)增加，全球平面顯示市場呈現(xiàn)出了良好的發(fā)展態(tài)勢，帶動了平面顯示行業(yè)的持續(xù)發(fā)展。根據(jù)Frost&Sullivan統(tǒng)計，全球顯示面板出貨面積從2012年的1．4億平方米增長至2019年的2．3億平方米，年均復(fù)合增長率達到7．7%。未來，全球顯示面板市場將由高速發(fā)展狀態(tài)逐步向穩(wěn)健增長狀態(tài)轉(zhuǎn)變，至2024年出貨面積達到2．7億平方米，年均復(fù)合增長率為3．3%。1、LCD顯示面板市場的現(xiàn)狀及未來發(fā)展趨勢TFT-LCD顯示面板依靠其具有的工作電壓低、功耗小、分辨率高、抗干擾性好、應(yīng)用范圍廣等一系列優(yōu)點，占據(jù)了全球顯示面板的主要市場份額，廣泛應(yīng)于筆記本電腦、桌面顯示器、電視、通信設(shè)備等大屏幕顯示領(lǐng)域，持續(xù)推動LCD顯示面板市場的增長。全球市場方面，2019年全球LCD顯示面板產(chǎn)量為2．2億平方米，較2018年增長4．8%。根據(jù)Frost&Sullivan預(yù)測，至2024年全球產(chǎn)量預(yù)計將穩(wěn)步上升至2．5億平方米，自2020年的年均復(fù)合增長率為1．9%。國內(nèi)市場方面，受國際產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移帶動，2012年-2019年我國已逐步成為全球LCD顯示面板的主要生產(chǎn)基地。根據(jù)Frost&Sullivan統(tǒng)計，我國LCD面板產(chǎn)量自2012年的1，110萬平方米增長至2019年的8，350萬平方米，占全球市場產(chǎn)量的比重由8．1%增加至37．2%，年均復(fù)合增長率達到33．4%。未來，我國LCD面板生產(chǎn)能力還將穩(wěn)步提升，預(yù)計至2024年在全球市場的產(chǎn)量占比將達到44．2%。因此，LCD顯示面板產(chǎn)量規(guī)模有望在未來幾年繼續(xù)保持增長趨勢，從而為整體平面顯示行業(yè)的持續(xù)增長打下基礎(chǔ)。2、OLED顯示面板市場的現(xiàn)狀及未來發(fā)展趨勢隨著顯示技術(shù)的發(fā)展與用戶需求的提升，OLED顯示技術(shù)在可穿戴設(shè)備、曲面屏手機、VR設(shè)備等新興電子消費品的商業(yè)化程度不斷提高，為平面顯示行業(yè)注入了新的發(fā)展動力。全球市場方面，根據(jù)Frost&Sullivan統(tǒng)計，全球OLED顯示面板產(chǎn)量從2012年的140．0萬平方米快速增長至2019年的850．0萬平方米，年均復(fù)合增長率達到29．4%。未來新興電子設(shè)備的商業(yè)化發(fā)展將持續(xù)驅(qū)動OLED顯示技術(shù)的滲透，預(yù)計全球OLED顯示面板產(chǎn)量將從2020年的1，070．0萬平方米增長至2024年的2，190．0萬平方米，年均復(fù)合增長率為19．6%。國內(nèi)市場方面，我國在OLED領(lǐng)域的起步較晚，受制于行業(yè)較高的技術(shù)壁壘，早期在OLED領(lǐng)域的發(fā)展較為緩慢。然而，近年來，隨著我國在顯示與集成電路領(lǐng)域的投入不斷加大，我國OLED產(chǎn)能已呈現(xiàn)出快速增長的態(tài)勢。根據(jù)Frost&Sullivan統(tǒng)計，2019年我國OLED面板產(chǎn)量為81．0萬平方米，占全球產(chǎn)量的9．5%，預(yù)計至2024年，產(chǎn)量將增加至520．0萬平方米，占全球市場的比重將上升至23．7%，年均復(fù)合增長率達到45．0%。濺射靶材上游分析2021年國內(nèi)共生產(chǎn)高純鋁14．6萬噸，同比增長9．77%，根據(jù)數(shù)據(jù)統(tǒng)計，2016年中國的高純鋁產(chǎn)量為11．8萬噸，2020年增至13．3萬噸，年均復(fù)合增長率為3．0%。2021年全球經(jīng)濟復(fù)蘇疊加新能源汽車需求爆發(fā)，下游需求旺盛，高純鋁產(chǎn)量再創(chuàng)新高。預(yù)計2022年高純鋁產(chǎn)量將繼續(xù)保持增長，將達15．4萬噸。以純銅或銅合金制成各種形狀包括棒、線、板、帶、條、管、箔等統(tǒng)稱銅材。近年來中國銅材產(chǎn)量整體保持增長趨勢，2022年9月中國銅材產(chǎn)量222．1萬噸，同比增長9．5%；1-9月累計產(chǎn)量1636．6萬噸，同比下降0．5%。影響濺射靶材行業(yè)發(fā)展的主要因素（一）影響濺射靶材行業(yè)發(fā)展的有利因素1、濺射靶材行業(yè)國家政策大力支持高性能濺射靶材及下游平面顯示、半導(dǎo)體、太陽能電池行業(yè)均屬于國家政策支持和鼓勵的范疇，國家出臺了一系列的鼓勵政策和指導(dǎo)意見，為行業(yè)及下游行業(yè)的發(fā)展創(chuàng)造了良好的政策環(huán)境。同時，為鼓勵下游行業(yè)使用國產(chǎn)高性能濺射靶材，2015年11月，財政部、發(fā)改委、工信部、海關(guān)總署、國家稅務(wù)總局五部委聯(lián)合發(fā)布通知，規(guī)定進口靶材的免稅期到2018年年底結(jié)束。自2019年起，從美國及日本等國家進口靶材需要繳納關(guān)稅，增加了進口靶材的成本，從而進一步提高國產(chǎn)靶材的價格競爭優(yōu)勢。這充分顯示了我國在重點行業(yè)關(guān)鍵材料上進行進口替代的力度與決心。2、濺射靶材行業(yè)下游市場需求持續(xù)擴大高性能濺射靶材是顯示面板、半導(dǎo)體、太陽能電池、記錄媒體不可缺少的原材料，進而廣泛應(yīng)用于消費電子、智能家電、通信照明、光伏、計算機、工業(yè)控制、汽車電子等多個下游應(yīng)用領(lǐng)域。我國是全球最大的消費電子產(chǎn)品生產(chǎn)國、出口國和消費國，也是全球最大的集成電路半導(dǎo)體消費國和進口國，在最終下游眾多生產(chǎn)及消費領(lǐng)域的需求驅(qū)動了我國高性能濺射靶材行業(yè)快速增長。因此，未來高性能濺射靶材行業(yè)高速成長的確定性較高，基本不會受到偶發(fā)性或突發(fā)性因素影響。隨著全球平面顯示、半導(dǎo)體、太陽能電池、記錄存儲等行業(yè)生產(chǎn)規(guī)模持續(xù)擴張，直接帶動了高性能濺射靶材行業(yè)的發(fā)展，使得中國國內(nèi)濺射靶材使用量快速增長，給國內(nèi)濺射靶材廠商帶來良好的發(fā)展機遇。3、濺射靶材行業(yè)全球產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移提供新機遇由于我國大力發(fā)展平面顯示及集成電路半導(dǎo)體行業(yè)，出現(xiàn)了以京東方為代表的平面顯示行業(yè)巨頭以及以中芯國際為代表的集成電路芯片廠商，多條高世代線和大尺寸產(chǎn)線建成或在建，使得全球面板及半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向國內(nèi)進行大規(guī)模轉(zhuǎn)移。但與此同時，上游配套材料卻仍主要由以日本為代表的國際巨頭予以提供，由于西方國家持續(xù)升級對我國的科技發(fā)展限制，相關(guān)核心原材料的迫在眉睫。為解決問題，近年來，我國出臺了多項濺射靶材行業(yè)的支持政策，也涌現(xiàn)出一批包括本企業(yè)在內(nèi)的國內(nèi)高性能濺射靶材領(lǐng)先企業(yè)，在部分品種靶材的核心技術(shù)上相繼得以突破，并已進入到下游知名客戶的供應(yīng)鏈體系。從而提升了我國在全球高性能濺射靶材行業(yè)的市場地位，也為國內(nèi)濺射靶材行業(yè)的進一步發(fā)展提供了更為廣闊的市場空間。4、國內(nèi)濺射靶材技術(shù)有所突破近年來，國內(nèi)濺射靶材供應(yīng)商抓住國家政策大力扶持和全球制造業(yè)轉(zhuǎn)移的機遇，通過自主創(chuàng)新和引進國外先進生產(chǎn)設(shè)備和技術(shù)，推動行業(yè)技術(shù)水平持續(xù)提升，與國際先進水平的差距逐步縮小或達到平均水平，部分自主生產(chǎn)的產(chǎn)品已經(jīng)實現(xiàn)進口替代。此外，國內(nèi)部分具有自主知識產(chǎn)權(quán)及品牌的企業(yè)，憑借先進的生產(chǎn)工藝，良好的市場口碑，開始參與國際市場的競爭，并能夠進入全球領(lǐng)先企業(yè)的供應(yīng)鏈體系，為國內(nèi)濺射靶材市場的持續(xù)發(fā)展打下了良好基礎(chǔ)。（二）影響濺射靶材行業(yè)發(fā)展的不利因素1、國內(nèi)濺射靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，整體行業(yè)競爭力仍有不足在高性能濺射靶材產(chǎn)業(yè)中，美國、日本等發(fā)達國家企業(yè)已經(jīng)經(jīng)過幾十年的發(fā)展歷程，在核心技術(shù)、生產(chǎn)工藝、產(chǎn)品質(zhì)量、業(yè)界口碑等方面都積累了深厚的基礎(chǔ)，形成了有利的市場先發(fā)優(yōu)勢。我國高性能濺射靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，雖然少部分領(lǐng)先企業(yè)在部分高性能濺射靶材領(lǐng)域內(nèi)已經(jīng)有所技術(shù)突破，并形成了一定的規(guī)模銷售，但從整體技術(shù)水平、業(yè)務(wù)規(guī)模以及在全球客戶中認可程度等方面與境外主要企業(yè)之間還存在不小的差距。2、濺射靶材行業(yè)高端技術(shù)人才匱乏高性能濺射靶材生產(chǎn)工藝復(fù)雜、技術(shù)含量高，對研發(fā)技術(shù)人員的專業(yè)素質(zhì)要求很高，研發(fā)和制造需要具備較為扎實的專業(yè)知識儲備和豐富的生產(chǎn)實踐經(jīng)驗，能對生產(chǎn)過程實施精細化管理。目前，雖然國內(nèi)少數(shù)領(lǐng)先企業(yè)依靠自主研發(fā)在部分高性能濺射靶材領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破，但仍需要繼續(xù)在技術(shù)研發(fā)上加大投入，拓展產(chǎn)品線及產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域。由于我國高性能濺射靶材行業(yè)起步較晚，相關(guān)研發(fā)人才及技術(shù)人才較為匱乏，是阻礙本行業(yè)發(fā)展的重要不利因素。濺射靶材行業(yè)的技術(shù)水平和發(fā)展趨勢（一）濺射靶材行業(yè)的技術(shù)水平濺射靶材是各類薄膜材料的關(guān)鍵材料，應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，種類繁多，其純度、密度、品質(zhì)等對最終的電子器件的質(zhì)量和性能起著至關(guān)重要的作用。目前高端濺射靶材產(chǎn)品純度一般在99．99%-99．9999%（即4N-6N），其質(zhì)量對膜層性能有很大的影響，同時會影響到鍍膜的生產(chǎn)效率和成本。濺射靶材的研發(fā)涉及到電性、磁性、熱性、反射率及顏色外觀等多個技術(shù)特性。此外，濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)必須針對客戶的各種需求，針對不同靶材應(yīng)用不同的工藝及材質(zhì)，譬如金屬靶材需使用塑性加工、熱處理等技術(shù)；陶瓷靶材需要使用到粉體處理、燒結(jié)等技術(shù)；部分特殊合金由于成份均勻性的要求更須使用到復(fù)合粉體制備技術(shù)，其目的即在控制材料微結(jié)構(gòu)，譬如晶粒尺寸、密度、結(jié)構(gòu)的控制等，以達到客戶的產(chǎn)品要求。（二）濺射靶材行業(yè)技術(shù)發(fā)展趨勢濺射靶材的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢息息相關(guān)。濺射靶材行業(yè)的技術(shù)發(fā)展主要取決于先進薄膜材料、先進的薄膜沉積制備技術(shù)和薄膜結(jié)構(gòu)的控制以及對薄膜物理、化學(xué)行為相關(guān)的表面科學(xué)技術(shù)的深入研究。目前，對薄膜材料的制備技術(shù)的研究正向多種類、高性能、新工藝、新裝備等方面發(fā)展；薄膜材料的研究正在向分子層次、原子層次、納米尺度、介觀結(jié)構(gòu)等方向深入；