- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替
- 2008-03-12 頒布
- 2008-09-01 實(shí)施
文檔簡介
犐犆犛29.045
犎80
中華人民共和國有色金屬行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
犢犛/犜679—2008
非本征半導(dǎo)體中少數(shù)載流子擴(kuò)散長度的
穩(wěn)態(tài)表面光電壓測試方法
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20080312發(fā)布20080901實(shí)施
國家發(fā)展和改革委員會發(fā)布
書
中華人民共和國有色金屬
行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
非本征半導(dǎo)體中少數(shù)載流子擴(kuò)散長度的
穩(wěn)態(tài)表面光電壓測試方法
YS/T679—2008
中國標(biāo)準(zhǔn)出版社出版發(fā)行
北京復(fù)興門外三里河北街16號
郵政編碼:100045
網(wǎng)址www.spc.net.cn
電話:6852394668517548
中國標(biāo)準(zhǔn)出版社秦皇島印刷廠印刷
各地新華書店經(jīng)銷
開本880×12301/16印張1字?jǐn)?shù)24千字
2008年5月第一版2008年5月第一次印刷
書號:155066·218659
如有印裝差錯由本社發(fā)行中心調(diào)換
版權(quán)專有侵權(quán)必究
舉報(bào)電話:(010)68533533
書
犢犛/犜679—2008
前言
本標(biāo)準(zhǔn)修改采用SEMIMF3911106《非本征半導(dǎo)體中少數(shù)載流子擴(kuò)散長度的穩(wěn)態(tài)表面光電壓測
試方法》。
本標(biāo)準(zhǔn)與SEMIMF3911106相比主要有如下變化:
———標(biāo)準(zhǔn)格式按GB/T1.1要求編排;
———將SEMIMF3911106中的部分注轉(zhuǎn)換為正文;
———將SEMIMF3911106中部分內(nèi)容進(jìn)行了編排。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會提出并歸口。
本標(biāo)準(zhǔn)由有研半導(dǎo)體材料股份有限公司負(fù)責(zé)起草。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人:孫燕、盧立延、杜娟、李俊峰、翟富義。
Ⅰ
書
犢犛/犜679—2008
非本征半導(dǎo)體中少數(shù)載流子擴(kuò)散長度的
穩(wěn)態(tài)表面光電壓測試方法
1范圍
1.1本標(biāo)準(zhǔn)適用于非本征單晶半導(dǎo)體材料樣品或相同導(dǎo)電類型重?fù)揭r底上沉積已知電阻率的同質(zhì)外
延層中的少數(shù)載流子擴(kuò)散長度的測量。要求樣品或外延層厚度大于4倍的擴(kuò)散長度。
1.2本標(biāo)準(zhǔn)是為單晶硅樣品的應(yīng)用而開發(fā)的,可用于測量其他半導(dǎo)體,如砷化鎵(同時調(diào)整相應(yīng)的光照
波長(能量)范圍和樣品的制備工藝)上的有效擴(kuò)散長度和評價晶粒間界垂直于表面的多晶硅樣品上有
效擴(kuò)散長度。本標(biāo)準(zhǔn)也可用于硅片的潔凈區(qū)的寬度測定。
1.3本標(biāo)準(zhǔn)對樣品的電阻率和壽命的應(yīng)用極限尚未確定,但已經(jīng)成功的對電阻率(0.1~50)Ω·cm、載
流子壽命短至2ns的p和n型硅樣品進(jìn)行了測量。本標(biāo)準(zhǔn)測量的擴(kuò)散長度僅在室溫22℃±0.5℃下進(jìn)
行,壽命和擴(kuò)散長度是溫度的函數(shù)。
注:本標(biāo)準(zhǔn)不涉及安全問題,即使有也與標(biāo)準(zhǔn)的使用相聯(lián)系。標(biāo)準(zhǔn)使用前,建立合適的安全和保障措施以及制定管
理界限的應(yīng)用范圍是標(biāo)準(zhǔn)使用者的責(zé)任。
2規(guī)范性引用文件
下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件,其隨后所有
的修改單(不包括勘誤的內(nèi)容)或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn),然而,鼓勵根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究
是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件,其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。
GB/T1552硅、鍺單晶電阻率測定直排四探針法
GB/T1553硅和鍺體內(nèi)少數(shù)載流子壽命測定光電導(dǎo)衰減法
GB/T6616半導(dǎo)體硅片電阻率及硅薄膜薄層電阻測定非接觸渦流法
GB/T6618硅片厚度和總厚度變化測試方法
GB/T11446.1電子級水
GB/T14264半導(dǎo)體材料術(shù)語
GB/T14847重?fù)揭r底上輕摻雜硅外延層厚度的紅外反射測量方法
3方法概述
本標(biāo)準(zhǔn)建立在作為入射光能量(波長)函數(shù)的表面光電壓測量的基礎(chǔ)上。
本標(biāo)準(zhǔn)描述了兩種
溫馨提示
- 1. 本站所提供的標(biāo)準(zhǔn)文本僅供個人學(xué)習(xí)、研究之用,未經(jīng)授權(quán),嚴(yán)禁復(fù)制、發(fā)行、匯編、翻譯或網(wǎng)絡(luò)傳播等,侵權(quán)必究。
- 2. 本站所提供的標(biāo)準(zhǔn)均為PDF格式電子版文本(可閱讀打印),因數(shù)字商品的特殊性,一經(jīng)售出,不提供退換貨服務(wù)。
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