標準解讀

《GB/T 5252-2006 鍺單晶位錯腐蝕坑密度測量方法》與《GB/T 5252-1985 鍺單晶位錯腐蝕坑密度測量方法》相比,在內(nèi)容上進行了更新和完善,主要體現(xiàn)在以下幾個方面:

首先,新標準對術(shù)語和定義部分進行了更加明確的描述。例如,對于“位錯腐蝕坑”、“腐蝕液”等關(guān)鍵術(shù)語給出了更為精確的定義,這有助于減少因理解差異導(dǎo)致的操作誤差。

其次,《GB/T 5252-2006》版本中增加了實驗條件控制的具體要求。比如,在溫度控制、時間設(shè)定以及樣品處理等方面都給出了更加詳細的規(guī)定,旨在提高測量結(jié)果的一致性和準確性。

再次,新版標準還改進了樣品制備流程。包括但不限于樣品切割尺寸、拋光質(zhì)量要求等方面的調(diào)整,這些變化都是基于最新研究成果而做出的優(yōu)化,以期獲得更高質(zhì)量的數(shù)據(jù)。

此外,《GB/T 5252-2006》還特別強調(diào)了安全操作規(guī)程的重要性,并在附錄中提供了相關(guān)指導(dǎo)信息,提醒實驗人員注意個人防護及實驗室安全管理。


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  • 被代替
  • 已被新標準代替,建議下載現(xiàn)行標準GB/T 5252-2020
  • 2006-07-18 頒布
  • 2006-11-01 實施
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ICS77.040.01H17中華人民共和國國家標準GB/T5252—2006代替GB/T5252—1985錯單晶位錯腐蝕坑密度測量方法Germaniummonocrystal-Inspectionofdislocationetchpitdensity2006-07-18發(fā)布2006-11-01實施中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局愛布中國國家標準化管理委員會

GB/T5252-2006前本標準是對GB/T5252—1985《錯單品位錯腐蝕坑密度測量方法》的修訂本標準與原標準相比.主要變動如下:-將原標準中的適用范圍改為0cm-~100000cm2;-取消了原標準中對磨砂牌號的規(guī)定;-更正原標準中位錯密度單位。本標準自實施之日起代替GB/T5252—1985。本標準由中國有色金屬工業(yè)協(xié)會提出。本標準由全國有色金屬標準化技術(shù)委員會歸口。本標準起草單位:北京有色金屬研究總院。本標準主要起草人:余懷之.劉建平。本標準由全國有色金屬標準化技術(shù)委員會負責(zé)解釋本標準所代替標準的歷次版本發(fā)布情況為:-GB/T5252-1985。

GB/T5252—2006錯單晶位錯腐蝕坑密度測量方法T范圍本標準適用于位錯密度0cm一~100000m一的n型和p型錯單品棒或片的位錯密度或其他缺陷的測量。觀察面為(111)、(100)和(113)面。2術(shù)語和定義以下術(shù)語和定義適用于本標準21位錯dislocation單晶中.部分原子受應(yīng)力的作用產(chǎn)生滑移。已滑移部分與未滑移部分的分界線為位錯線,簡稱2.2位錯密度dislocationdensity單位體積內(nèi)位錯線的總長度稱為位錯密度(cm/cm')。本標準指單位表面上位錯腐蝕坑的數(shù)目(個/cm).23位錯堆pile-upofdislocation某區(qū)域的位錯密度高于該斷面其他區(qū)域的平均位錯密度5倍以上,且其面積大于視場面積5倍以上·則稱此區(qū)域為位錯堆(圖1)。24平底坑flatbasepit單品經(jīng)化學(xué)腐蝕后,除位錯腐蝕坑外,還有一些淺坑,這里稱平底坑。它可能是由于空位或晶體的夾雜(如SiO、)等因素所致(圖2)。2.5小角度晶界Lsmall-angleboundary單品中取向差很小的小品粒的交界面稱為小角度品界。要求1mm長度內(nèi)位錯腐蝕坑在15個以上,且長度在1.5mm以上。(111)面上的位錯腐蝕坑呈現(xiàn)一系列以角頂著底邊的排列形式(圖3)。2.6滑移線(位錯排)slipline由于沿著滑移面滑移,在品體表面形成的線稱滑移線或位錯排。要求1mm長度內(nèi)位錯腐蝕坑在15個以上.且長度在1.5mm以上。(111)面上的滑移線.位錯腐蝕坑按二110>方向排列成行,每一腐蝕坑的底邊都在同一條直線上(圖4)。27星形結(jié)構(gòu)starstru

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