- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2014-12-22 頒布
- 2015-09-01 實(shí)施
文檔簡(jiǎn)介
ICS7704010
H22..
中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
GB/T31093—2014
藍(lán)寶石晶錠應(yīng)力測(cè)試方法
Testmethodforstressofmonocrystallinesapphireingot
2014-12-22發(fā)布2015-09-01實(shí)施
中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布
中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)
中華人民共和國(guó)
國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)
藍(lán)寶石晶錠應(yīng)力測(cè)試方法
GB/T31093—2014
*
中國(guó)標(biāo)準(zhǔn)出版社出版發(fā)行
北京市朝陽(yáng)區(qū)和平里西街甲號(hào)
2(100029)
北京市西城區(qū)三里河北街號(hào)
16(100045)
網(wǎng)址
:
服務(wù)熱線
:400-168-0010
年月第一版
20152
*
書(shū)號(hào)
:155066·1-50902
版權(quán)專(zhuān)有侵權(quán)必究
GB/T31093—2014
前言
本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)和全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)
(SAC/TC203)
化技術(shù)委員會(huì)材料分會(huì)共同提出并歸口
(SAC/TC203/SC2)。
本標(biāo)準(zhǔn)起草單位協(xié)鑫光電科技江蘇有限公司中國(guó)科學(xué)院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所北京合能
:()、、
陽(yáng)光新能源技術(shù)有限公司
。
本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人劉逸楓魏明德徐養(yǎng)毅杭寅肖宗杰
:、、、、。
Ⅰ
GB/T31093—2014
藍(lán)寶石晶錠應(yīng)力測(cè)試方法
1范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了藍(lán)寶石單晶晶錠的應(yīng)力測(cè)試方法
。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于經(jīng)過(guò)加工后直徑為的向藍(lán)寶石晶錠的應(yīng)力測(cè)試其他尺寸藍(lán)
50.8mm~200mmc,
寶石晶錠以下簡(jiǎn)稱(chēng)晶錠的應(yīng)力測(cè)試可參照使用
()。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
半導(dǎo)體材料術(shù)語(yǔ)
GB/T14264
3術(shù)語(yǔ)和定義
界定的術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件
GB/T14264。
4方法提要
藍(lán)寶石為單軸晶體軸為光軸使用典型的會(huì)聚平面偏振光干涉試驗(yàn)裝置晶體的光軸與切面垂
,c。,
直并且和儀器的光軸平行在會(huì)聚光的情況下會(huì)產(chǎn)生干涉形成錐光圖錐光圖由黑十字和同心圓狀
,,,,。
的干涉色圈組成干涉色圈以黑十字交點(diǎn)為中心光軸出露點(diǎn)成同心環(huán)狀干涉色圈的多少取決于晶
,(),,,
體的雙折射率的大小及厚度
。
當(dāng)晶體局部規(guī)則的結(jié)構(gòu)被破壞產(chǎn)生的應(yīng)力使得該位置上的光軸方向發(fā)生改變光束通過(guò)此位置
,,
時(shí)所得到的錐光圖中的黑十字變形因此可以通過(guò)觀察晶體各個(gè)位置的錐光圖來(lái)檢測(cè)晶體的應(yīng)力
,,。
5干擾因素
51晶錠內(nèi)部有氣泡包裹物等會(huì)影響應(yīng)力的判斷
.、。
52晶錠加工過(guò)程中引起的內(nèi)部裂紋會(huì)影響應(yīng)力的判斷
.。
6試驗(yàn)設(shè)備
應(yīng)力儀其典型光路如圖所示儀器的光學(xué)系統(tǒng)由光源發(fā)出的光速通過(guò)隔熱片聚光
,1。(1)(2)、
鏡反射鏡和起偏鏡變?yōu)槠矫嬲耒R在通過(guò)發(fā)散鏡臺(tái)面玻璃后投射到被測(cè)試樣上最
(3)、(4)(5),
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