標(biāo)準(zhǔn)解讀
GB/T 11073-1989 是一項(xiàng)中國國家標(biāo)準(zhǔn),其全稱為《硅片徑向電阻率變化的測(cè)量方法》。該標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了測(cè)量硅片從中心到邊緣電阻率變化的具體方法和要求,旨在為半導(dǎo)體材料的質(zhì)量控制和性能評(píng)估提供統(tǒng)一的測(cè)試準(zhǔn)則。以下是標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容的詳細(xì)說明:
標(biāo)準(zhǔn)適用范圍
本標(biāo)準(zhǔn)適用于單晶硅片,特別是用于制造半導(dǎo)體器件的硅片,其目的是通過測(cè)量硅片不同半徑位置的電阻率,來評(píng)估材料的均勻性和質(zhì)量。
測(cè)量原理
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四探針法:標(biāo)準(zhǔn)推薦使用四探針技術(shù)進(jìn)行測(cè)量,這是一種非破壞性測(cè)試方法,通過在硅片表面放置四個(gè)緊密排列的探針,施加電流并通過電壓探針測(cè)量電壓降,從而計(jì)算出電阻率。
-
徑向測(cè)量:測(cè)量時(shí),探針沿硅片半徑方向移動(dòng),從中心點(diǎn)開始逐步向外,記錄不同半徑下的電阻率值,以描繪出硅片的徑向電阻率分布圖。
測(cè)量設(shè)備與條件
- 規(guī)定了四探針測(cè)試儀的技術(shù)要求,包括探針的材質(zhì)、直徑、間距以及施加電流的穩(wěn)定性和測(cè)量精度。
- 要求測(cè)量環(huán)境控制在一定溫度和濕度范圍內(nèi),以減少外部因素對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響。
- 對(duì)樣品的預(yù)處理,如清潔度、溫度均衡等也給出了指導(dǎo)。
測(cè)量步驟
- 樣品準(zhǔn)備:確保硅片表面干凈無污染,溫度穩(wěn)定。
- 探針布置:按照標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的探針間距和布局放置探針。
- 電流施加與電壓測(cè)量:向樣品施加恒定電流,同時(shí)測(cè)量電壓降。
- 數(shù)據(jù)記錄:記錄每個(gè)測(cè)量點(diǎn)的電阻率,并標(biāo)記對(duì)應(yīng)的半徑位置。
- 數(shù)據(jù)處理:對(duì)收集的數(shù)據(jù)進(jìn)行分析,計(jì)算電阻率隨半徑的變化趨勢(shì)。
數(shù)據(jù)處理與報(bào)告
- 描述了如何根據(jù)測(cè)量數(shù)據(jù)繪制徑向電阻率曲線,以及如何計(jì)算平均電阻率、最大最小差異等關(guān)鍵參數(shù)。
- 要求在測(cè)試報(bào)告中包含測(cè)量條件、設(shè)備信息、樣品描述及所有關(guān)鍵測(cè)量結(jié)果。
標(biāo)準(zhǔn)的實(shí)施與監(jiān)督
強(qiáng)調(diào)了標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行的重要性,建議各使用單位應(yīng)嚴(yán)格遵循標(biāo)準(zhǔn)操作,以確保測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性和可比性。雖然未直接提及監(jiān)督機(jī)制,但通常情況下,遵循國家標(biāo)準(zhǔn)的操作應(yīng)接受行業(yè)或第三方機(jī)構(gòu)的審核或認(rèn)證。
如需獲取更多詳盡信息,請(qǐng)直接參考下方經(jīng)官方授權(quán)發(fā)布的權(quán)威標(biāo)準(zhǔn)文檔。
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- 被代替
- 已被新標(biāo)準(zhǔn)代替,建議下載現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)GB/T 11073-2007
- 1989-03-31 頒布
- 1990-02-01 實(shí)施
![GB/T 11073-1989硅片徑向電阻率變化的測(cè)量方法_第1頁](http://file4.renrendoc.com/view/26888d891b232e5b56cb0580c613518e/26888d891b232e5b56cb0580c613518e1.gif)
![GB/T 11073-1989硅片徑向電阻率變化的測(cè)量方法_第2頁](http://file4.renrendoc.com/view/26888d891b232e5b56cb0580c613518e/26888d891b232e5b56cb0580c613518e2.gif)
文檔簡(jiǎn)介
UDCC669.782:621.317.33H21中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)GB11073-89硅片徑向電阻率變化的測(cè)量方法Standardmethodformeasuringradialresistivityvarationonsiliconslices1989-03-31發(fā)布1990-02-01實(shí)施國家技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布
中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)硅片徑向電阻率變化的測(cè)量方法GB11073-89Standardmethodformeasuringradialresistivityvariationonsiliconslices主題內(nèi)容與適用范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用直排四探針方法測(cè)量硅單晶片徑向電阻率變化的方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于硅片厚度小于探針平均間距,直徑大于15mm,電阻率為1×10-3~1×10"Q·cm硅單晶圓片徑向電阻率變化的測(cè)量。2引用標(biāo)準(zhǔn)GB2828逐批檢查計(jì)數(shù)抽樣程序及抽樣表(適用于連續(xù)批的檢查)GB6615、硅片電阻率的直排四探針測(cè)試方法方法提要使用GB6615方法,根據(jù)要求,選擇四種選點(diǎn)方案中的-一種進(jìn)行測(cè)量利用兒何修正因子計(jì)算出硅片電阻率及徑向電阻率變化。本標(biāo)準(zhǔn)提供四種測(cè)址選點(diǎn)方案。采用不同的選點(diǎn)方案能測(cè)得不同的徑向電阻率變化值、儀器設(shè)備GB6615規(guī)定的儀器設(shè)備裝置。探針間距為1.00mm或1.59mm。4.2樣品架應(yīng)具有平移和旋轉(zhuǎn)360°功能。平移精度為±0.15mm;旋轉(zhuǎn)精度為±5°。試驗(yàn)樣品5.1從一批硅片中按GB2828計(jì)數(shù)抽樣方案或商定的方案抽取樣品。5.2按GB6615的4.2條~4.3條制備樣品。5.3如果硅片沒有主參考面,則必需在硅片背面圓周上作一參考標(biāo)記,以便測(cè)址時(shí)對(duì)硅片定位。如果是仲裁測(cè)量,并且硅片只有一個(gè)參考面,則需在硅片背面參考面邊緣的中點(diǎn)作一參考標(biāo)記。5.4找出任意三條相交45°且不與硅片參考面相交的直徑,測(cè)量并記下該樣品直徑,如果這三條直徑長(zhǎng)度都在表1規(guī)定的直徑偏差范圍以內(nèi),則以標(biāo)稱直徑為直徑值。否則以三個(gè)測(cè)量的業(yè)均值為直徑值表1硅片的幾何參數(shù)中心點(diǎn)厚度,最小標(biāo)稱直徑直徑偏拳總厚度變化
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