2022年光刻膠行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及細(xì)分產(chǎn)業(yè)分析

1、2022年光刻膠行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及細(xì)分產(chǎn)業(yè)分析1.光刻膠：光刻工藝所需核心材料，助力制程持續(xù)升級(jí)光刻膠百年發(fā)展史，是光刻工藝所需關(guān)鍵材料。光刻膠被應(yīng)用于印刷 工業(yè)已經(jīng)超過(guò)一個(gè)世紀(jì)。到 20 世紀(jì) 20 年代，開(kāi)始被用于 PCB 領(lǐng)域， 到 20 世紀(jì) 50 年代，開(kāi)始被用于生產(chǎn)晶圓。20 世紀(jì) 50 年代末， eastman kodak（伊士曼柯達(dá)公司）和 Shipley（已被陶氏收購(gòu)）分別 設(shè)計(jì)出適合半導(dǎo)體工業(yè)所需的正膠和負(fù)膠。光刻膠用于光刻工藝，幫助 將設(shè)計(jì)好的電路圖形由掩膜版轉(zhuǎn)移至硅片，從而實(shí)現(xiàn)特定的功能。光刻 膠的質(zhì)量和性能直接影響制造產(chǎn)線(xiàn)良率。以集成電路為例，光刻工藝步驟和光刻膠的使用場(chǎng)

2、景如下：1）氣體硅片表面預(yù)處理：在光刻前，硅片會(huì)經(jīng)歷一次濕法清洗和去離 子水沖洗，目的是去除沾污物。在清洗完畢后，硅片表面需要經(jīng)過(guò) 疏水化處理，用來(lái)增強(qiáng)硅片表面同光刻膠（通常是疏水性的）的黏 附性。2）旋涂光刻膠，抗反射層：在氣體預(yù)處理后，光刻膠需要被涂敷在硅 片表面。涂敷的方法是最廣泛使用的旋轉(zhuǎn)涂膠方法，光刻膠（大約 幾毫升）先被管路輸送到硅片中央，然后硅片會(huì)被旋轉(zhuǎn)起來(lái)，并且 逐漸加速，直到穩(wěn)定在一定的轉(zhuǎn)速上（轉(zhuǎn)速高低決定了膠的厚度， 厚度反比于轉(zhuǎn)速的平方根）。3）曝光前烘焙：當(dāng)光刻膠被旋涂在硅片表面后，必須經(jīng)過(guò)烘焙。烘焙 的目的在于將幾乎所有的溶劑驅(qū)趕走。這種烘焙由于在曝光前進(jìn)行 叫做“曝

3、光前烘焙”，簡(jiǎn)稱(chēng)前烘，又叫軟烘（soft bake）。前烘改善 光刻膠的黏附性，提高光刻膠的均勻性，以及在刻蝕過(guò)程中的線(xiàn)寬 均勻性控制。4）對(duì)準(zhǔn)和曝光：在投影式曝光方式中，掩膜版被移動(dòng)到硅片上預(yù)先定 義的大致位臵，或者相對(duì)硅片已有圖形的恰當(dāng)位臵，然后由鏡頭將 其圖形通過(guò)光刻轉(zhuǎn)移到硅片上。對(duì)接近式或者接觸式曝光，掩膜版 上的圖形將由紫外光源直接曝光到硅片上。5）曝光后烘焙：曝光完成后，光刻膠需要經(jīng)過(guò)又一次烘焙。后烘的目 的在于通過(guò)加熱的方式，使光化學(xué)反應(yīng)得以充分完成。曝光過(guò)程中 產(chǎn)生的光敏感成分會(huì)在加熱的作用下發(fā)生擴(kuò)散，并且同光刻膠產(chǎn)生 化學(xué)反應(yīng)，將原先幾乎不溶解于顯影液體的光刻膠材料改變成溶解

4、 于顯影液的材料，在光刻膠薄膜中形成溶解于和不溶解于顯影液的 圖形。由于這些圖形同掩膜版上的圖形一致，但是沒(méi)有被顯示出來(lái)， 又叫“潛像”（latent image）。6）顯影：由于光化學(xué)反應(yīng)后的光刻膠呈酸性，顯影液采用強(qiáng)堿溶液。 一般使用體積比為 2.38%的四甲基氫氧化銨水溶液。光刻膠薄膜經(jīng) 過(guò)顯影過(guò)程后，曝過(guò)光的區(qū)域被顯影液洗去，掩膜版的圖形便在硅 片上的光刻膠薄膜上以有無(wú)光刻膠的凹凸形狀顯示出來(lái)。7）堅(jiān)膜烘焙：在顯影后，由于硅片接觸到水分，光刻膠會(huì)吸收一些水 分，這對(duì)后續(xù)的工藝，如濕發(fā)刻蝕不利。于是需要通過(guò)堅(jiān)膜烘焙 （hard bake）來(lái)將過(guò)多的水分驅(qū)逐出光刻膠。由于現(xiàn)在刻蝕大多 采用

5、等離子體刻蝕，又稱(chēng)為“干刻”，堅(jiān)膜烘焙在很多工藝當(dāng)中已 被省去。8）測(cè)量：在曝光完成后，需要對(duì)光刻所形成的關(guān)鍵尺寸以及套刻精度進(jìn)行測(cè)量。關(guān)鍵尺寸的測(cè)量通常使用掃描電子顯微鏡，而套刻精度 的測(cè)量由光學(xué)顯微鏡和電荷耦合陣列成像探測(cè)器承擔(dān)。制程升級(jí)是確定發(fā)展方向，光刻設(shè)備和光刻膠是核心因素。隨著高集 成度、超高速、超高頻集成電路及元器件的開(kāi)發(fā)，集成電路與元器件特 征尺寸呈現(xiàn)出越來(lái)越精細(xì)的趨勢(shì)，加工尺寸達(dá)到百納米直至納米級(jí)，光 刻設(shè)備和光刻膠產(chǎn)品也為滿(mǎn)足超微細(xì)電子線(xiàn)路圖形的加工應(yīng)用而推陳出 新。光刻膠的分辨率直接決定了特征尺寸的大小，通常而言，曝光波長(zhǎng) 越短，分辨率越高，因此為適應(yīng)集成電路線(xiàn)寬不斷縮小

6、的要求，光刻膠 的曝光波長(zhǎng)由紫外寬譜向線(xiàn)(436nm)線(xiàn)(365nm)KrF(248nm) ArF(193nm)F2（157nm）的方向轉(zhuǎn)移，并通過(guò)分辨率增強(qiáng)技術(shù)不斷 提升光刻膠的分辨率水平。2.全球百億美金市場(chǎng)，顯示+PCB+IC 三大應(yīng)用推動(dòng)發(fā)展全球市場(chǎng)持續(xù)擴(kuò)容，2023 年有望突破百億美金。光刻膠作為制造關(guān)鍵 原材料，隨著未來(lái)汽車(chē)、人工智能、國(guó)防等領(lǐng)域的快速發(fā)展，全球光刻 膠市場(chǎng)規(guī)模將有望持續(xù)增長(zhǎng)。根據(jù) Reportlinker 數(shù)據(jù)，全球光刻膠市場(chǎng) 預(yù)計(jì) 2019-2026 年復(fù)合年增長(zhǎng)率有望達(dá)到 6.3%，至 2023 年突破 100 億美金，到 2026 年超過(guò) 120 億美元。大

7、陸市場(chǎng)增速高于全球，2022 年有望超過(guò)百億人民幣。疊加產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移 因素，中國(guó)光刻膠市場(chǎng)的增長(zhǎng)速度超過(guò)了全球平均水平。根據(jù)中商產(chǎn)業(yè) 研究院數(shù)據(jù)，2021 年中國(guó)光刻膠市場(chǎng)達(dá) 93.3 億元，16-21 年 CAGR 為 11.9%，21 年同比增長(zhǎng) 11.7%，高于同期全球光刻膠增速 5.75%。隨 著未來(lái) PCB、LCD 和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)持續(xù)向中國(guó)轉(zhuǎn)移，中國(guó)光刻膠市場(chǎng)有 望不斷擴(kuò)大，占全球光刻膠市場(chǎng)比例也將持續(xù)提升，預(yù)計(jì)到 2026 年占 比有望從 2019 年的 15%左右提升到 19.3%。顯示、PCB、IC 是三大應(yīng)用領(lǐng)域，合計(jì)占比超 70%。根據(jù)應(yīng)用領(lǐng)域的 不同，光刻膠可分為印刷電路板（P

8、CB）用光刻膠、液晶顯示（LCD） 用光刻膠、半導(dǎo)體用光刻膠和其他用途光刻膠。根據(jù) Reportlinker 數(shù)據(jù)， 2019 年 PCB、半導(dǎo)體和平板顯示光刻膠占比分別為 27.8%、21.9%、 23.0%，為前三大應(yīng)用領(lǐng)域。按顯影過(guò)程中曝光區(qū)域的去除或保留分，分成正性光刻膠（正膠）和 負(fù)性光刻膠（負(fù)膠），正負(fù)膠各有優(yōu)勢(shì)，但正膠分辨率更高，是主流光 刻膠。1）正性光刻膠：正性光刻膠在紫外線(xiàn)等曝光源的照射下，將圖 形轉(zhuǎn)移至光膠涂層上，受光照射后感光部分將發(fā)生分解反應(yīng)，可溶于顯 影液，未感光部分不溶于顯影液，仍然保留在襯底上，將與掩膜上相同 的圖形復(fù)制到襯底上。正性光刻膠響應(yīng)波長(zhǎng)為 33043

9、0 納米，膠膜厚 為 13 微米，正性光刻膠的分辨率更高，無(wú)溶脹現(xiàn)象。因此，正性光 刻膠的應(yīng)用比負(fù)性光刻膠更為普及。2）負(fù)性光刻膠：負(fù)性光刻膠在紫 外線(xiàn)等曝光源的照射下，將圖形轉(zhuǎn)移至光膠涂層上，在顯影溶液的作用 下，負(fù)性光刻膠曝光部分產(chǎn)生交聯(lián)反應(yīng)而不溶于顯影液；未曝光部分溶 于顯影液，將與掩膜上相反的圖形復(fù)制到襯底上。負(fù)性光刻膠響應(yīng)波長(zhǎng) 為 330430 納米，膠膜厚 0.31 微米，負(fù)性光刻膠的分辨率比正性 光刻膠低。負(fù)膠占總體光刻膠比重較小，多用于特殊工藝。由于負(fù)膠耐熱性強(qiáng)， 多應(yīng)用于高壓功率器件、高耗能器件等，此外也常用于一些特殊工藝， 因?yàn)樨?fù)膠難以去除的特性，在芯片最后的封裝階段可以使

10、用負(fù)膠，能起 到絕緣、保護(hù)芯片的作用?？偟膩?lái)說(shuō)，正膠有以下主要優(yōu)點(diǎn)：高分辨率，高對(duì)比度；使用暗場(chǎng) 掩模減少了曝光圖形的缺陷率，因?yàn)檠谀４蟛糠謪^(qū)域都是不透光的。 使用水溶性顯影液；去膠容易。因此，正膠普及率大于負(fù)膠。2.1 半導(dǎo)體光刻膠：技術(shù)難度最高，增速最快全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)增速遠(yuǎn)高于全球光刻膠平均水平，占比不斷提 升。據(jù) SEMI 統(tǒng)計(jì)，2021 年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模達(dá) 24.71 億美 元，較上年同期增長(zhǎng) 19.49%，2015-2021 年 CAGR 為 12.03%。 2019 年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模分別為約為 18 億美元，半導(dǎo)體光刻 膠占整體光刻膠比重約 21.9%，到

11、 2021 年占比提升至 26.85% 。大陸半導(dǎo)體光刻膠增速超全球兩倍。分地區(qū)看，中國(guó)大陸半導(dǎo)體光刻膠 市場(chǎng)依舊保持著最快增速，2021 年市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到 4.93 億美元，較上年 同期增長(zhǎng) 43.69%，超過(guò)全年半導(dǎo)體光刻膠增速的兩倍；中國(guó)占比全球 半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)比重也將從 2015 年約 10.4%提升到 2021 年接近20%。中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠的快速崛起離不開(kāi)中國(guó)整體半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。受 益于 5G 大規(guī)模建設(shè)，以及 2020 年新冠疫情導(dǎo)致遠(yuǎn)程辦公、網(wǎng)絡(luò)直播等 應(yīng)用普及，全球集成電路行業(yè)發(fā)展迅猛，根據(jù) Frost&Sullivan 數(shù)據(jù)， 2013 年集成電路市場(chǎng)規(guī)模為 2518 億

12、美元，到 2019 年集成電路市場(chǎng)規(guī) 模高達(dá) 3334 億美元，年復(fù)合增長(zhǎng)率為 4.79%。2019 年全球集成電路市 場(chǎng)規(guī)模有所下滑，主要系全球貿(mào)易摩擦、存儲(chǔ)供需變化以及智能手機(jī)、 服務(wù)器等產(chǎn)品需求下滑因素影響。預(yù)計(jì)到 2025 年，全球集成電路市場(chǎng) 規(guī)模將達(dá)到 4750 億美元,2020-2025 年 CAGR 為 6.02%。我國(guó)集成電路行業(yè)起步較晚，但發(fā)展迅速。根據(jù)中國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì) 數(shù)據(jù)，2013 年中國(guó)集成電路銷(xiāo)售收入為 2508 億元，2019 年達(dá)到 7562 億元，年均復(fù)合增速達(dá)到 20.2%，在 5G 和新興產(chǎn)業(yè)的發(fā)展帶動(dòng)下，如 汽車(chē)電子行業(yè)和物聯(lián)網(wǎng)的推動(dòng)下，中國(guó)集成電路行

13、業(yè)市場(chǎng)規(guī)模將不斷擴(kuò) 大，預(yù)計(jì)到 2025 年，我國(guó)集成電路市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到 18932 億元，2020- 2025 年 CAGR 為 16.22%。按曝光波長(zhǎng)分，全球 ArF/EUV 光刻膠占比超 50%，為國(guó)際主流。半導(dǎo) 體光刻膠按照曝光波長(zhǎng)不同可分為 g 線(xiàn)（436nm）、i 線(xiàn)（365nm）、 KrF（248nm）、ArF（193nm）以及新興起的 EUV 光刻膠 5 大類(lèi)，高 端光刻膠指 KrF、ArF 和 EUV 光刻膠，等級(jí)越往上其極限分辨率越高， 同一面積的硅晶圓布線(xiàn)密度越大，性能越好。根據(jù) TECHCET 數(shù)據(jù)， 從市場(chǎng)分布看，2021 年 ArFi+ArF 光刻膠占全球光刻膠市

14、場(chǎng)規(guī)模的比例 為 48.1%，KrF 占比 34.7%，G/I 線(xiàn)占 14.7%。ArF（包括 ArFi）光刻 膠已是集成電路制造需求金額最大的光刻膠產(chǎn)品，隨著集成電路產(chǎn)業(yè)超 先進(jìn)制程持續(xù)發(fā)展，ArF 光刻膠持續(xù)迎來(lái)廣闊市場(chǎng)機(jī)遇。隨著全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，制造工藝技術(shù)節(jié)點(diǎn)的不斷縮小，KrF 和 ArF 光刻膠市場(chǎng)需求量更大，增速更快，是推動(dòng)當(dāng)下光刻膠市場(chǎng)快速 增長(zhǎng)的主要因素。從市場(chǎng)規(guī)模增速來(lái)看，EUV 光刻膠發(fā)展最快，但處 于發(fā)展初期體量較小，2021 年僅約 0.51 億美元，預(yù)計(jì)到 2025 年達(dá)到 1.97 億美元，2020-2025CAGR 達(dá) 48.8%；增速第二快的是 KrF 光刻

15、 膠，其 2021 年全球市場(chǎng)規(guī)模為 6.9 億美元，預(yù)計(jì)到 2025 年達(dá)到 9.07 億美元，2020-2025 年 CAGR 為 8.2%。ArF 光刻膠（ArF+ArFi） 2021 年全球市場(chǎng)規(guī)模為 9.55 億美元，預(yù)計(jì)到 2025 達(dá)到 10.72 億美元， 2020-2025 CAGR 為 3.5%；較為低端的 g/i 線(xiàn)光刻膠預(yù)計(jì)市場(chǎng)規(guī)模變 化不大，占比縮小。從應(yīng)用產(chǎn)品看，2021 年邏輯占比超 63.5%，是第一大應(yīng)用領(lǐng)域。非易 失性存儲(chǔ)器（NVM）是一種計(jì)算機(jī)即使關(guān)閉電源也能夠保存已保存數(shù)據(jù) 的存儲(chǔ)器，增速最快。根據(jù) TECHCET 數(shù)據(jù)，2021 年邏輯用光刻膠需求 超

16、過(guò) 595 萬(wàn)升，占比超過(guò) 63.5%，到 2025 年需求量提升到約 677 萬(wàn)升， 2021-2025 年 CAGR 為 3.3%，由于 NVM 對(duì)光刻膠需求的快速提升（2021- 2025CAGR 12.8%），預(yù)計(jì) 2025 年邏輯占比略降低到 59.5%，NVM 占比提 升到 26.4%。對(duì)非易失性存儲(chǔ)器（NVM）的需求是主要由于移動(dòng)設(shè)備所 需要的存儲(chǔ)容量大幅提升，尤其是相機(jī)、智能手機(jī)和平板電腦。隨著制程縮減和存儲(chǔ)容量提升，光刻次數(shù)增加，單位面積光刻膠的金 額越高。根據(jù) SEMI 的數(shù)據(jù)，單位面積所使用的的光刻膠價(jià)值量從 15 年 3 月不到 0.12 美元/平方英寸上升到 2021

17、 年 9 月約 0.19 美元/平方 英寸，平均價(jià)值量的提升主要來(lái)源于先進(jìn)制程占比的提升以及光刻次數(shù) 的增加。邏輯：制程提升+擴(kuò)產(chǎn)是兩大推動(dòng)力制程越先進(jìn)，需要進(jìn)行光刻的次數(shù)就越多，光刻膠用量相應(yīng)提升。為 了突破線(xiàn)寬極限而達(dá)到所需的更窄線(xiàn)寬，高端制程的關(guān)鍵層次需要雙重 曝光甚至多重曝光來(lái)實(shí)現(xiàn)，隨著曝光次數(shù)的增加，光刻次數(shù)在增加， 28nm 僅需要 6 次光刻，而 7nm 浸沒(méi)式光刻需要 34 次，對(duì)應(yīng)的光刻膠 的需求量也在快速提升，雖然 EUV 光刻技術(shù)能有效地減小線(xiàn)寬并且降 低光刻次數(shù)，7nm 制程使用 EUV 技術(shù)僅需要 9 次光刻，但其所用的光 源、光刻膠及掩膜版等與先前的光刻技術(shù)有較大差

18、異，因此目前的商業(yè) 化程度不高。全球普遍擴(kuò)產(chǎn)，產(chǎn)能增加帶來(lái)光刻膠需求增加。在經(jīng)歷 2019 年半導(dǎo)體 周期低谷后，得益于下游需求旺盛，全球主要晶圓廠(chǎng)均加大了擴(kuò)產(chǎn)力度， 從資本開(kāi)支的數(shù)據(jù)來(lái)看，各大晶圓廠(chǎng)于 2020 年、2021 年開(kāi)始加大資本 開(kāi)支投入，22 年資本開(kāi)支指引的強(qiáng)度均強(qiáng)于 2021 年，2018-2022 年合 計(jì)的資本開(kāi)支 YoY 分別為-23%/8%/21%/25%/30%，開(kāi)支強(qiáng)度逐年遞增， 標(biāo)志了擴(kuò)產(chǎn)力度的加強(qiáng)，隨著晶圓廠(chǎng)產(chǎn)能的提高，光刻膠的用量也將隨 之大幅提升。存儲(chǔ)：容量提升+擴(kuò)產(chǎn)是兩大推動(dòng)力容量要求提升，光刻次數(shù)增加，相應(yīng)光刻膠的用量隨著光刻次數(shù)的增 加大幅增長(zhǎng)。D

19、RAM： DRAM 的技術(shù)發(fā)展路徑是以微縮制程來(lái)提高存儲(chǔ)密度。制程 工藝進(jìn)入 20nm 之后，制造難度大幅提升，DRAM 芯片廠(chǎng)商對(duì)工藝的 定義從具體的線(xiàn)寬轉(zhuǎn)變?yōu)樵诰唧w制程范圍內(nèi)提升二或三代技術(shù)來(lái)提高存 儲(chǔ)密度。目前市場(chǎng)上 DRAM 的應(yīng)用較為廣泛的是 2xnm 和 1xnm，三星、 美光、海力士等龍頭廠(chǎng)商均已開(kāi)發(fā)出 1znm 制程的 DRAM。NAND：NAND 芯片制程已經(jīng)達(dá)到極限，2D NAND 的存儲(chǔ)容量難以繼 續(xù)突破，NAND 工藝逐漸轉(zhuǎn)向 3D 堆疊架構(gòu)，以更多的堆疊層數(shù)來(lái)得到 更大的存儲(chǔ)容量，光刻次數(shù)隨著層數(shù)增加而增加，KrF 光刻膠的使用量 將顯著提升。長(zhǎng)鑫、長(zhǎng)存擴(kuò)產(chǎn)，本土光刻

20、膠加速導(dǎo)入。受益于居家辦公及娛樂(lè)需求， 終端電子產(chǎn)品與云端服務(wù)器出貨大增，帶動(dòng)相關(guān)存儲(chǔ)需求成長(zhǎng)，全球存儲(chǔ)大廠(chǎng)積極擴(kuò)產(chǎn)，長(zhǎng)鑫、長(zhǎng)存也緊抓歷史機(jī)遇快速擴(kuò)充能產(chǎn)能，根據(jù) DRAMe Xchange 數(shù)據(jù)，隨著長(zhǎng)鑫長(zhǎng)存的擴(kuò)產(chǎn)，我國(guó) DRAM 的市場(chǎng)份額有 望分別從 21 年 4%提升到 22 年 8%，NAND 市場(chǎng)份額也有望有一定提升。 全球 DRAM 產(chǎn)能預(yù)計(jì)到 22 年達(dá)到 160 萬(wàn)片/月，相比 21 年提升 6.4%， 全球 NAND 產(chǎn)能預(yù)計(jì)到 22 年達(dá)到 177.4 萬(wàn)片/月，相比 21 年提升 5%。 隨著全球存儲(chǔ)產(chǎn)能的擴(kuò)容以及中國(guó)大陸份額的提升，一方面光刻膠整體 需求將提升，另一方

21、面也有利于本土光刻膠導(dǎo)入，加速?lài)?guó)產(chǎn)替代進(jìn)程。2.2 LCD 光刻膠：市場(chǎng)穩(wěn)健增長(zhǎng)，大陸增速遠(yuǎn)高于全球面板光刻膠主要分為彩色光刻膠、黑色光刻膠、觸摸屏用光刻膠和 TFT-LCD 正性光刻膠。彩色光刻膠、黑色光刻膠主要用于制備彩色濾 光片;觸摸屏用光刻膠主要用于在玻璃基板上沉積 ITO 制作觸摸電 極;TFT-LCD 正性光刻膠主要用于微細(xì)圖形加工。彩色濾光片是液晶顯示器實(shí)現(xiàn)彩色顯示的關(guān)鍵器件，因此在面板光刻膠 中占比最大。根據(jù)富士經(jīng)濟(jì)數(shù)據(jù)，2018 年全球彩色光刻膠市場(chǎng)規(guī)模占 面板光刻膠比重超過(guò) 60%，TFT 光刻膠、黑色光刻膠分別占比 23%與 14%。光刻膠約占 LCD 面板制造成本的 1

22、0%，直接受益于 LCD 市場(chǎng)的擴(kuò)大。 根據(jù) TrendBank 數(shù)據(jù)，彩色濾光片占面板成本的 21%。彩色光刻膠和 黑色光刻膠是制備彩色濾光片的核心材料，在彩色濾光片材料成本中， 彩色光刻膠和黑色光刻膠在整體成本中占比約 46%，因此可以測(cè)算光 刻膠在 LCD 面板中的成本占比大約為 9.66%，光刻膠的市場(chǎng)直接受益 LCD 市場(chǎng)的擴(kuò)大。全球 LCD 光刻膠市場(chǎng)規(guī)模超 13 億美金，2021-2026 年 CAGR 為 2%。 根據(jù) QY research，全球 LCD 光刻膠市場(chǎng)穩(wěn)步上升，2020 年達(dá)到 13.98 億美元，預(yù)計(jì) 26 年達(dá)到 15.75 億美元。2020-2026 年

23、CAGR 為 2%。未來(lái)有望受益于 LCD 電視的大尺寸化、高清化趨勢(shì)，LCD 面板 出貨面積不斷提升，充分傳導(dǎo)至面板光刻膠需求。根據(jù)智研咨詢(xún)數(shù)據(jù)， 預(yù)計(jì) 2019-2023 年我國(guó) LCD 光刻膠市場(chǎng)規(guī)模將會(huì)從 40 億元提升到 69 億元，4 年 CAGR 14.6%，預(yù)計(jì)國(guó)內(nèi)市場(chǎng)占比也將從 19 年 47.9% 提升到 23 年 74.6%。全球 LCD TV 面板出貨尺寸持續(xù)增長(zhǎng)。根據(jù)群智咨詢(xún)數(shù)據(jù)，2021 年 32和 43出貨占比明顯收窄，65及 75出貨占比分別增加 2.8%及 1.2%，帶動(dòng) 2021 年平均尺寸增加 2.0 英寸。面板產(chǎn)品尺寸出現(xiàn)結(jié)構(gòu)性 分化，一方面，疫情影響新

24、興國(guó)家消費(fèi)者購(gòu)買(mǎi)力弱，對(duì)中小尺寸電視需 求產(chǎn)生明顯的沖擊，而發(fā)達(dá)經(jīng)濟(jì)體消費(fèi)者購(gòu)買(mǎi)力維持相對(duì)強(qiáng)勁，拉動(dòng)大 尺寸需求持續(xù)走強(qiáng)。另一方面，受整機(jī)成本快速上漲的驅(qū)動(dòng)，品牌為了 減虧加速產(chǎn)品結(jié)構(gòu)升級(jí)，減少小尺寸并且增加大尺寸產(chǎn)品的比重。受需 求端尺寸結(jié)構(gòu)牽引，面板廠(chǎng)亦積極推動(dòng)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)優(yōu)化，不斷增加大尺寸 的產(chǎn)能占比，控制小尺寸的產(chǎn)出。根據(jù)中商產(chǎn)業(yè)研究院數(shù)據(jù)，2014 年全球 TFT-LCD 顯示面板的出貨面 積為 1.66 億平方米，2019 年增至 2.23 億平方米，年均復(fù)合增長(zhǎng)率約 6.07%。而隨著 5G 技術(shù)的逐步成熟及應(yīng)用，TFT-LCD 面板的大尺寸化 趨勢(shì)能更好的順應(yīng)高清化應(yīng)用的要求，從

25、而帶動(dòng) TFT-LCD 面板需求的 不斷增長(zhǎng)。2019 年至 2023 年，TFT-LCD 面板的出貨面積預(yù)計(jì)將從 2.23 億平方米增至 2.49 億平方米，增幅 12.20%。產(chǎn)業(yè)持續(xù)轉(zhuǎn)移，為國(guó)內(nèi) LCD 光刻膠提供巨大市場(chǎng)。隨著日本、韓國(guó)、 中國(guó)臺(tái)灣等國(guó)家和地區(qū)新建 LCD 產(chǎn)線(xiàn)速度減慢甚至關(guān)?，F(xiàn)有產(chǎn)線(xiàn)，以 及中國(guó)大陸廠(chǎng)商的異軍突起，中國(guó)大陸面板產(chǎn)線(xiàn)建設(shè)活躍，為全球新型 顯示設(shè)備和原材料提供了主要市場(chǎng)。四大國(guó)產(chǎn)廠(chǎng)商已占據(jù) LCD 面板行業(yè)一半以上出貨面積。根據(jù)群智咨詢(xún) 數(shù)據(jù)，21H1 京東方，TCL 華星、惠科、彩虹光電四大國(guó)產(chǎn)面板廠(chǎng)商出 貨面積分別達(dá)到 20.5、14.9、8.5、5

26、百萬(wàn)平方米，在全球十大面板廠(chǎng) 商出貨面積占比達(dá)到 58.1%，預(yù)計(jì)隨著產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移持續(xù)以及在建產(chǎn)能釋 放，到 23 年國(guó)內(nèi)廠(chǎng)商出貨面積合計(jì)占比將到達(dá)約 67%。2.3 PCB 光刻膠：產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移是主要推動(dòng)力光刻膠用于 PCB 加工制造中的圖形轉(zhuǎn)移。PCB 的加工制造過(guò)程涉及圖 形轉(zhuǎn)移，即把設(shè)計(jì)完成的電路圖像轉(zhuǎn)移到襯底板上，因而在此過(guò)程中會(huì) 使用到光刻膠?；具^(guò)程如下：首先在襯底表面形成一層光刻膠薄膜， 然后使紫外光通過(guò)掩膜板照射到光刻膠薄膜上，曝光區(qū)域發(fā)生一系列的 化學(xué)反應(yīng)，再通過(guò)顯影的作用將曝光區(qū)域（正性）或未曝光區(qū)域（負(fù)性） 溶解并去除，最后經(jīng)過(guò)固化、蝕刻、退膜等一系列過(guò)程將圖形轉(zhuǎn)移至襯 底。P

27、CB 光刻膠具體包括干膜光刻膠、濕膜光刻膠(又稱(chēng)抗蝕劑/線(xiàn)路油墨) 和光成像阻焊油墨，是 PCB 產(chǎn)業(yè)重要的上游材料，在 PCB 成本結(jié)構(gòu)中 光刻膠和油墨的占比約為 3%。隨著 PCB 產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移至我國(guó)，我國(guó) PCB 光刻膠行業(yè)也隨之發(fā)展。1990 年以前，全球 PCB 市場(chǎng)由歐美日主導(dǎo)，此時(shí)，我國(guó) PCB 光刻膠產(chǎn)品也 依賴(lài)進(jìn)口。自 20 世紀(jì) 90 年代中期開(kāi)始，PCB 產(chǎn)業(yè)開(kāi)始轉(zhuǎn)移，2002 年 開(kāi)始，外資 PCB 光刻膠企業(yè)陸續(xù)在華建廠(chǎng)。至 2017 年，我國(guó) PCB 產(chǎn) 值占全球份額達(dá) 50.8%，PCB 光刻膠產(chǎn)值占全球份額也超 70%，到 2019 年的市場(chǎng)份額達(dá)到 93.35%，

28、主要集中在中低端產(chǎn)品市場(chǎng)。全球 PCB 產(chǎn)值穩(wěn)定提升，PCB 光刻膠受益。受 2020 年疫情影響，全 球經(jīng)濟(jì)整體萎縮，而 PCB 市場(chǎng)強(qiáng)勢(shì)反彈并實(shí)現(xiàn)了 6.4%的增速，主要得 益于數(shù)據(jù)中心、云服務(wù)器等需求增長(zhǎng)帶動(dòng)的封裝載板領(lǐng)域、HDI 以及高 多層板等的爆發(fā)。根據(jù) Prismark2020 年 Q4 報(bào)告，從中長(zhǎng)期看，PCB 產(chǎn)業(yè)也將保持穩(wěn)定增長(zhǎng)的態(tài)勢(shì)，預(yù)計(jì) 2020 年至 2025 年全球 PCB 產(chǎn)值 的年復(fù)合增長(zhǎng)率約為 5.8%。從區(qū)域看，根據(jù) Prismark 預(yù)測(cè)，未來(lái)全球各區(qū)域的 PCB 產(chǎn)業(yè)都將呈現(xiàn) 較快發(fā)展?fàn)顟B(tài)。其中，2020 年中國(guó)地區(qū)預(yù)測(cè)同比增長(zhǎng) 6.4%，2020 年

29、至 2025 年中國(guó)地區(qū)復(fù)合增長(zhǎng)速度預(yù)測(cè)將達(dá)到 5.6%。日本、亞洲（主 要是我國(guó)臺(tái)灣地區(qū)和韓國(guó)）是全球封裝基板主要供應(yīng)地，未來(lái) 5 年將呈 現(xiàn)較高的增長(zhǎng)速度。3.美日寡頭壟斷，國(guó)產(chǎn)化需求迫切3.1 四大壁壘鑄就高集中度，全球市場(chǎng)美日寡頭壟斷光刻膠生產(chǎn)工藝復(fù)雜，四大壁壘鑄就行業(yè)高門(mén)檻。第一大壁壘：技術(shù)壁壘，生產(chǎn)工藝要求極高，配方是根本作為光刻工藝的核心，光刻膠需滿(mǎn)足四大條件。選擇光刻膠的決定因 素是晶圓表面對(duì)尺寸的要求。光刻膠必須要同時(shí)滿(mǎn)足四大條件：1）產(chǎn) 生要求的尺寸。2）在刻蝕過(guò)程中具有阻擋刻蝕的功能，保持特定厚度 的光刻膠層中一定不能存在針孔。3）必須和晶圓（或其他襯底）表面 能很好的粘

30、合，否則刻蝕后的圖形可能發(fā)生扭曲。4）工藝維度和階梯 覆蓋能力。多參數(shù)指標(biāo)要求，分辨率直接決定產(chǎn)品特征尺寸。光刻膠的主要性能 指標(biāo)包括：分辨率、黏附性、對(duì)比度、敏感度、抗蝕性、表面張力、曝 光速度、針孔密度、階梯覆蓋度等。1）分辨率：在光刻膠層所能產(chǎn)生 的最小圖形或其間距。一般而言，越小的線(xiàn)寬需要越薄的光刻膠膜，但 為阻擋刻蝕且不能出現(xiàn)針孔，光刻膠膜必須有一定的厚度，因此只能權(quán) 衡選擇。2）黏結(jié)能力：光刻膠必須和襯底表面很好黏結(jié)，才能準(zhǔn)確講 圖形轉(zhuǎn)移到襯底表面，否則可能導(dǎo)致圖形畸變。在制造過(guò)程中，不同的 表面，光刻膠的黏結(jié)能力不同。因此在光刻膠工藝中，多個(gè)步驟是為了 增加光刻膠對(duì)晶圓表面的自然

31、黏結(jié)能力。3）曝光速度：反應(yīng)速度越快， 光刻和刻蝕區(qū)域的加工速度越快。一般而言，負(fù)膠需要 5-15 秒曝光時(shí) 間，而正膠需要 3-4 倍時(shí)間。4）針孔：光刻膠層尺寸非常小的空穴。 針孔的存在會(huì)允許刻蝕劑滲透過(guò)光刻膠層接觸襯底表面，從而在襯底表 面刻蝕出小孔造成損害。光刻膠越薄，針孔越多，光刻膠越厚，針孔越 少，但厚膠降低了光刻膠分辨率，因此光刻膠膜厚是多個(gè)因素的權(quán)衡。光刻膠工藝一旦確立，一般不再變更。準(zhǔn)備、烘焙、曝光、刻蝕和去 除工藝會(huì)根據(jù)特定的光刻膠性質(zhì)和想達(dá)到的預(yù)期結(jié)果進(jìn)行微調(diào)。光刻膠 的選擇和光刻膠工藝的研發(fā)是一項(xiàng)漫長(zhǎng)而復(fù)雜的過(guò)程，一旦一種光刻工 藝被建立，一般不再改變。從專(zhuān)利數(shù)看，日本

32、美國(guó)合計(jì)占比超 70%，大陸發(fā)展迅速。根據(jù)智慧芽 數(shù)據(jù)，截至 2021 年 9 月，全球光刻膠第一大技術(shù)來(lái)源國(guó)為日本，專(zhuān)利 申請(qǐng)量占全球光刻膠專(zhuān)利總申請(qǐng)量的 46%；美國(guó)則以 25%的申請(qǐng)量位 列第二。中國(guó)則以 7%的申請(qǐng)量排在韓國(guó)之后。從趨勢(shì)上看，中國(guó)的光 刻膠相關(guān)專(zhuān)利申請(qǐng)量正在快速增長(zhǎng)，在 2020 年實(shí)現(xiàn)了對(duì)日本的反超。 2020 年，中國(guó)光刻膠專(zhuān)利申請(qǐng)量為 1.29 萬(wàn)項(xiàng)，日本光刻膠專(zhuān)利申請(qǐng)量 下降至 8982 項(xiàng)。光刻膠種類(lèi)多樣，不同類(lèi)別化學(xué)結(jié)構(gòu)、性能有所區(qū)別。光刻膠下游不 同客戶(hù)的需求差異明顯，即使同一客戶(hù)的不同應(yīng)用需求也不一致。這就 導(dǎo)致光刻膠的整體生產(chǎn)缺乏統(tǒng)一的工藝，每一類(lèi)光刻

33、膠使用的原料在化 學(xué)結(jié)構(gòu)、性能上均有所區(qū)別，要求使用不同品質(zhì)等級(jí)的專(zhuān)用化學(xué)品。這 就迫使制造商需要有能力設(shè)計(jì)出符合不同需求設(shè)計(jì)不同配方，并有相應(yīng) 的生產(chǎn)工藝完成生產(chǎn)。這屬于行業(yè)的核心技術(shù)之一，對(duì)企業(yè)的技術(shù)能力 要求比較高。第二大壁壘：客戶(hù)認(rèn)證壁壘，上下游深度綁定，驗(yàn)證周期長(zhǎng)在光刻膠供貨前，一般會(huì)經(jīng)過(guò)光刻膠產(chǎn)品的驗(yàn)證及工廠(chǎng)（產(chǎn)線(xiàn)）資質(zhì)的 驗(yàn)證，其中光刻膠驗(yàn)證根據(jù)驗(yàn)證階段分為 PRS（光刻膠性能測(cè)試）、 STR（小試）、MSTR（批量驗(yàn)證）及 Release（通過(guò)驗(yàn)證）；工廠(chǎng)（產(chǎn) 線(xiàn)）資質(zhì)驗(yàn)證方面，主要在質(zhì)量體系、供貨穩(wěn)定性、工廠(chǎng)（產(chǎn)線(xiàn)）產(chǎn)能 等幾方面進(jìn)行驗(yàn)證。在工廠(chǎng)（產(chǎn)線(xiàn)）資質(zhì)驗(yàn)證通過(guò)以及產(chǎn)品驗(yàn)

34、證通過(guò)后， 可實(shí)現(xiàn)對(duì)客戶(hù)的正式供貨。由于驗(yàn)證周期通常為 624 個(gè)月，下游晶 圓廠(chǎng)切換光刻膠成本較高，通常客戶(hù)切換光刻膠意愿不強(qiáng)，光刻膠企業(yè) 較難進(jìn)行客戶(hù)的突破。第三大壁壘：設(shè)備壁壘，光刻機(jī)昂貴且購(gòu)買(mǎi)難度大。送樣前，光刻膠生產(chǎn)商需要購(gòu)臵光刻機(jī)用于內(nèi)部配方測(cè)試，根據(jù)驗(yàn)證結(jié) 果調(diào)整配方。光刻機(jī)設(shè)備昂貴，數(shù)量有限且供應(yīng)可能受?chē)?guó)外限制，尤其 是 EUV 光刻機(jī)目前全球只有 ASML 能批量供應(yīng)。光刻機(jī)購(gòu)買(mǎi)交貨周期較長(zhǎng)，根據(jù)日經(jīng)亞洲評(píng)論報(bào)導(dǎo)，由于需求早已超過(guò) 負(fù)荷，目前芯片生產(chǎn)設(shè)備的交貨時(shí)間已經(jīng)從 12 個(gè)月延長(zhǎng)至約 18 個(gè)月。光刻機(jī)產(chǎn)量較少而價(jià)格昂貴，近年增量主要集中在在 EUV、ArFi 和 Kr

35、F 光刻機(jī)。根據(jù) ASML 2021 年財(cái)報(bào)，2021 年公司共銷(xiāo)售 287 臺(tái)光 刻系統(tǒng)，銷(xiāo)售額約 136.5 億歐元，其中 42 臺(tái)為 EUV 光刻系統(tǒng)機(jī)，銷(xiāo) 售額約 62.8 億歐元，平均一臺(tái) 1.5 億歐元; ArFi 光刻系統(tǒng) 81 臺(tái)，銷(xiāo)售 額約 49.6 億歐元，平均單價(jià)約 6100 萬(wàn)歐元; ArF dry 光刻系統(tǒng)銷(xiāo)售 22 臺(tái)，銷(xiāo)售額約 4.3 億歐元，平均單價(jià)約 2000 萬(wàn)歐元；KrF 光刻系統(tǒng) 131 臺(tái)，銷(xiāo)售額約 13.2 億歐元，平均單價(jià)約 1000 萬(wàn)歐元; i-Line 光刻 系統(tǒng) 33 臺(tái)，銷(xiāo)售額約 1.4 億歐元，平均單價(jià)約 400 萬(wàn)歐元。第四大壁壘：原

36、材料壁壘，國(guó)內(nèi)產(chǎn)業(yè)鏈尚不完善，樹(shù)脂、單體產(chǎn)業(yè)化 困難重重。上游原材料是影響光刻膠品質(zhì)的重要因素，目前我國(guó)光刻膠原材料市場(chǎng) 基本被國(guó)外廠(chǎng)商壟斷，尤其是樹(shù)脂和感光劑高度依賴(lài)于進(jìn)口，國(guó)產(chǎn)化率 很低，由此增加了國(guó)內(nèi)光刻膠生產(chǎn)成本以及供應(yīng)鏈風(fēng)險(xiǎn)。行業(yè)高度集中，日本三巨頭+美國(guó)杜邦壟斷市場(chǎng)。全球光刻膠市場(chǎng)基本 被日本和美國(guó)企業(yè)所壟斷，2020 年數(shù)據(jù)顯示，東京應(yīng)化排名第一，份 額為 26%，杜邦排名第二，份額為 17%，加上 JSR 和住友化學(xué)， CR4 接近 70%，行業(yè)集中度較高。從半導(dǎo)體光刻膠細(xì)分產(chǎn)品看，各大巨頭更側(cè)重中高端光刻膠。目前東 京應(yīng)化綜合實(shí)力位列第一，除了在 ArF 光刻膠領(lǐng)域以 16%

37、的市占率位 于 JSR（25%）、信越化學(xué)（22%）、住友化學(xué)（17%）之后，在其他 三個(gè)領(lǐng)域的份額均位列第一，其中在 EUV 光刻膠領(lǐng)域獨(dú)占鰲頭，一家 占據(jù)一半以上的份額。PCB 光刻膠：低端產(chǎn)品由國(guó)內(nèi)主導(dǎo)。在 PCB 光刻膠市場(chǎng)中，中國(guó)在中 低端產(chǎn)品占據(jù)主導(dǎo)地位，2020 年容大感光、廣信材料、東方材料、北 京力拓達(dá)等本土企業(yè)占據(jù)國(guó)內(nèi) 46%左右的濕膜光刻膠和光成像阻焊油 墨市場(chǎng)份額。但是較高端的干膜光刻膠市場(chǎng)主要由日本旭化成、日本日 立化成、中國(guó)臺(tái)灣長(zhǎng)興化學(xué)壟斷，這三大企業(yè)在全球的市場(chǎng)占有率超過(guò) 80%，我國(guó)在干膜光刻膠方面仍高度依賴(lài)進(jìn)口。LCD 光刻膠的全球供應(yīng)集中在日本、韓國(guó)、中國(guó)臺(tái)

38、灣等地區(qū)，我國(guó)彩 色和黑色光刻膠市場(chǎng)國(guó)產(chǎn)化率僅為 5%左右。彩色濾光片所需的高分子 顏料和顏料的分散技術(shù)主要集中在 Ciba 等日本顏料廠(chǎng)商手中，因此彩 色光刻膠和黑色光刻膠的核心技術(shù)基本被日本和韓國(guó)企業(yè)壟斷。另一方 面，近年來(lái)我國(guó)在觸控屏光刻膠技術(shù)上有所突破，晶瑞股份和北京科華 微已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了觸控屏光刻膠的量產(chǎn)，國(guó)產(chǎn)化率在 30%-40%左右。3.2 上游原材料樹(shù)脂、單體難度較高，大陸產(chǎn)業(yè)化等待突圍溶劑、感光劑、樹(shù)脂是光刻膠的三大原材料。光刻膠會(huì)根據(jù)不同光的 波長(zhǎng)和不同的曝光源而進(jìn)行微調(diào)。光刻膠具有特定熱流程特點(diǎn)，用特定 的方法配臵而成，與特定的表面結(jié)合。這些屬性由光刻膠里不同化學(xué)成 分的類(lèi)型

39、、數(shù)量、混合過(guò)程決定，溶劑、感光劑和樹(shù)脂是光刻膠三大原 材料。從含量來(lái)看，根據(jù) Trendbank 數(shù)據(jù)，光刻膠主要原材料占比從大到小 分別是溶劑（50%-90%）、樹(shù)脂（10%-40%）、光引發(fā)劑（1%-6%）以 及添加劑（1%）。溶劑是光刻膠中容量最大的成分，使光刻膠處于液 態(tài)，并使光刻膠能通過(guò)旋轉(zhuǎn)涂在晶圓表面形成薄層。感光劑在曝光過(guò)程 中控制或調(diào)節(jié)光刻膠的化學(xué)反應(yīng)，用于產(chǎn)生或控制聚合物特定反應(yīng)。感 光劑添加到光刻膠中用來(lái)限制反應(yīng)光的波譜范圍或把反應(yīng)光限制到某一 特定波長(zhǎng)的光。聚合物用于當(dāng)光刻機(jī)曝光時(shí)，聚合物結(jié)構(gòu)由可溶變成聚 會(huì)（或反之），是由一組大且重的分子組成，分子里包括碳、氫、氧，

40、典型聚合物如塑料。此外，光刻膠中還含有添加劑。不同類(lèi)型的添加劑 和光刻膠混合在一起來(lái)達(dá)到某種特定的結(jié)果。部分負(fù)膠包含染色劑，功 能是在光刻膠薄膜中用來(lái)吸收和控制光線(xiàn)。正膠可能含有化學(xué)的抗溶解 系統(tǒng)，這樣的添加劑可以阻止光刻膠沒(méi)有被曝光的部分在顯影過(guò)程中被 溶解。從成本來(lái)看，高端光刻膠中樹(shù)脂占成本比重較大。根據(jù)南大光電公告， ArF 光刻膠樹(shù)脂以丙二醇甲醚醋酸酯為主，質(zhì)量占比僅 5%-10%，但成 本占光刻膠原材料總成本的 97%以上。1）樹(shù)脂：海外壟斷市場(chǎng)，大陸企業(yè)取得技術(shù)突破各類(lèi)光刻膠所需樹(shù)脂幾乎全部由海外壟斷。G 線(xiàn)光刻膠用環(huán)化橡膠樹(shù) 脂；I 線(xiàn)光刻膠使用線(xiàn)性酚醛樹(shù)脂，主要是依賴(lài)進(jìn)口，國(guó)產(chǎn)

41、化水平很低。 針對(duì)國(guó)內(nèi)光刻膠“卡脖子”的 KrF 和 ArF 光刻膠，KrF 用聚對(duì)羥基苯乙 烯類(lèi)樹(shù)脂，基本依賴(lài)進(jìn)口，一是因?yàn)樯a(chǎn)樹(shù)脂需要的單體國(guó)內(nèi)很少?gòu)S家 供應(yīng)，二是因?yàn)闃?shù)脂的生產(chǎn)工藝也有一定的難度，特別是后處理的工藝。 ArF 用聚甲基丙烯酸酯類(lèi)樹(shù)脂，單體為甲基丙烯酸酯和丙烯酸酯的衍生 物單體，ArF 的樹(shù)脂由幾種單體共聚而成，定制化程度比較高，高端的 Arf 樹(shù)脂幾乎無(wú)法買(mǎi)到。EUV 用聚對(duì)羥基苯乙烯類(lèi)樹(shù)脂，或分子玻璃、 金屬氧化物，國(guó)內(nèi)幾乎空白。全球兩大類(lèi)光刻膠樹(shù)脂大廠(chǎng)。目前，全球范圍內(nèi)光刻膠樹(shù)脂大廠(chǎng)分為兩 類(lèi)：一類(lèi)是自產(chǎn)樹(shù)脂的光刻膠廠(chǎng)商，如信越化學(xué)、杜邦，它們通常掌握 著樹(shù)脂合成、光

42、刻膠配方的技術(shù)專(zhuān)利。另一類(lèi)是專(zhuān)門(mén)生產(chǎn)樹(shù)脂的生產(chǎn)商， 如東洋合成、住友電木、三菱化學(xué)等，為光刻膠廠(chǎng)商提供定制化的樹(shù)脂。技術(shù)壁壘高依然是海外壟斷的根本原因。樹(shù)脂的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)涉及單體的 種類(lèi)和比例，會(huì)決定光刻膠在特定波長(zhǎng)下可以達(dá)到的線(xiàn)寬（CD）、曝光 能量（EOP）、EL（能量窗口），LWR (線(xiàn)寬邊緣粗糙度）等參數(shù)。此 外，樹(shù)脂的分子量、PDI（分散度）等也會(huì)影響光刻膠的膠膜厚度、耐 刻蝕性、附著力等。樹(shù)脂可以通過(guò)多種方式合成：光刻膠樹(shù)脂可以通過(guò) 酚醛縮合反應(yīng)，陽(yáng)離子聚合，陰離子聚合，活性自由基聚合等高分子合 成方法進(jìn)行合成。其上游的原材料主要是單體，單體在高分子合成的過(guò) 程中聚合成樹(shù)脂。光刻膠樹(shù)脂

43、的主要難點(diǎn)：1）要做到質(zhì)量一致，即分子量和分子量分布 每批都要很接近； 2）越高級(jí)樹(shù)脂的分子量分布越小越好；3）金屬離 子要求，大部分要求小于 1ppb, 甚至要到 ppt 級(jí)。產(chǎn)業(yè)化五大難點(diǎn)：1） 合成技術(shù)：樹(shù)脂的合成技術(shù)可分為自由基聚合， 陰離子聚合和活性自由基聚合等，目前最常用的是自由基聚合，活性自 由基聚合還未實(shí)現(xiàn)工業(yè)化。2）放大的穩(wěn)定性和金屬離子的去除：放大 是指樹(shù)脂從實(shí)驗(yàn)室研發(fā)進(jìn)化到工業(yè)化的批量生產(chǎn)，放大的穩(wěn)定性主要是 指每次生產(chǎn)的分子量和 PDI 要保持一致，在生產(chǎn)管理控制上和質(zhì)量控 制上需要嚴(yán)格把關(guān)。3）供應(yīng)穩(wěn)定：?jiǎn)误w的供應(yīng)要穩(wěn)定，單體的質(zhì)量也 要穩(wěn)定。對(duì)下游客戶(hù)來(lái)說(shuō)，樹(shù)脂也必

44、須要做到穩(wěn)定供應(yīng)，包括質(zhì)量穩(wěn)定 和交貨周期的穩(wěn)定性。4）客戶(hù)的認(rèn)證和采購(gòu)：客戶(hù)的認(rèn)證和采購(gòu)是一 個(gè)長(zhǎng)期的過(guò)程，光刻膠廠(chǎng)商將某個(gè)供應(yīng)商的樹(shù)脂配成光刻膠以后，要送 樣到下游的晶圓廠(chǎng)去試驗(yàn)，才能測(cè)試出樹(shù)脂的光刻性能是否良好，并決 定是否可以采用這個(gè)供應(yīng)商的樹(shù)脂。此外，光刻膠廠(chǎng)商的更換樹(shù)脂供應(yīng)商時(shí)也要通知下游晶圓廠(chǎng)。5）規(guī)模效應(yīng)：光刻膠樹(shù)脂一般是定制化產(chǎn) 品，如果沒(méi)有商業(yè)化的樹(shù)脂或其他產(chǎn)品做支撐，單純做某一種或某一類(lèi) 光刻膠樹(shù)脂，將會(huì)使公司喪失研發(fā)或生產(chǎn)光刻膠樹(shù)脂的動(dòng)力，特別是單 體需要購(gòu)買(mǎi)的情況下，高成本會(huì)大大影響樹(shù)脂的效益。2）單體：日本和美國(guó)企業(yè)占大頭份不同光刻膠類(lèi)型都有相應(yīng)的光刻膠單體。傳統(tǒng)

45、I 線(xiàn)單體主要是甲基酚和 甲醛，是大宗化學(xué)品；KrF 單體主要是苯乙烯類(lèi)單體，性狀是液體； ArF 單體主要是甲基丙烯酸酯類(lèi)單體，性狀有固體也有液體。光刻膠單 體的性能指標(biāo)包括純度，水份，酸值，單雜，金屬離子含量等指標(biāo)。半導(dǎo)體級(jí)光刻膠單體相比普通單體壁壘更高。1）半導(dǎo)體級(jí)光刻膠單體 的合成技術(shù)難度更大。2）半導(dǎo)體級(jí)光刻膠單體要求質(zhì)量更穩(wěn)定，金屬 離子雜質(zhì)更少。例如，半導(dǎo)體級(jí)單體純度要求達(dá)到 99.5%，金屬離子 含量小于 1ppb（即 10 億分之一）；而面板級(jí)別的單體結(jié)構(gòu)是環(huán)氧乙烷 類(lèi)，純度要求或僅 99.0%，金屬離子含量最少小于 100ppb 即可。3） 半導(dǎo)體級(jí)光刻膠單體的價(jià)格遠(yuǎn)高于一

46、般類(lèi)單體。 I 線(xiàn)單體約為 100-200 元/公斤，KrF 單體約為 500-1000 元/公斤，ArF 干法和濕法的單體價(jià)格 在 3000-10000 元/公斤不等。產(chǎn)業(yè)化有六大難點(diǎn)：1）合成和純化時(shí)需要防止單體聚合；2）光刻膠 單體種類(lèi)繁多，針對(duì)不同的單體必須研究不同的合成方法，難易不一。 3）高純度要求：高純度要從不同指標(biāo)上來(lái)定義，如從氣相（GC）、液 相（HPLC）、凝膠色譜（GPC）等不同的來(lái)考察，有時(shí)純度要達(dá)到 99.9%以上。4）金屬離子控制：半導(dǎo)體級(jí)單體中尤其是 ArF 單體中的 金屬離子含量要達(dá)到 1ppb 以下。5）工藝放大：實(shí)驗(yàn)室中生產(chǎn)的達(dá)標(biāo) 單體并不能滿(mǎn)足客戶(hù)需求，還

47、需要通過(guò)穩(wěn)定的規(guī)?；慨a(chǎn)來(lái)實(shí)現(xiàn)工業(yè)級(jí) 供應(yīng)。6）光刻膠單體企業(yè)進(jìn)入下游客戶(hù)的供應(yīng)商體系需要一個(gè)長(zhǎng)期的 認(rèn)證過(guò)程，且一般不會(huì)輕易更換。3）溶劑：目前光刻膠溶劑主要為 PGMEA（丙二醇甲醚酸醋酯，簡(jiǎn)稱(chēng) PMA），大陸自給率較高。根據(jù)新思界產(chǎn)業(yè)研究中心數(shù)據(jù)，我國(guó)是全球 最大的 PGMEA 生產(chǎn)國(guó)家，產(chǎn)能占據(jù)全球總產(chǎn)量的 35%左右，生產(chǎn)企 業(yè)有百川股份、瑞佳化學(xué)、怡達(dá)化學(xué)、華倫、德納國(guó)際等。在全球市場(chǎng) 中，PGMEA 生產(chǎn)企業(yè)有陶氏化學(xué)、殼牌化學(xué)品公司、利安德巴塞爾工 業(yè)、伊士曼化工等，以上四家企業(yè)占據(jù)全球市場(chǎng)一半以上份額。根據(jù)容大感光公告，溶劑平均采購(gòu)價(jià)格 20H1 為 8.22 元/kg，相比

48、 18、 19 年有所降低。4） 光引發(fā)劑：集中趨勢(shì)日益明顯，歷史采購(gòu)價(jià)呈下滑趨勢(shì)光引發(fā)劑是光固化材料（主要包括 UV 涂料、UV 油墨、UV 膠粘劑等） 的核心原材料。光固化材料是傳統(tǒng)溶劑型涂料、油墨、膠粘劑的重要替 代產(chǎn)品。2020 年，全球光引發(fā)劑市場(chǎng)銷(xiāo)售額達(dá)到了 6.8 億美元，預(yù)計(jì) 2027 年將達(dá)到約 11 億美元，2020-2027 年 CAGR 為 4.57%。光引發(fā)劑領(lǐng)域主要的企業(yè)有 IGM Resins，天津久日新材料，常州強(qiáng)力 和阿科瑪；其中，IGM Resins 是全球市場(chǎng)的領(lǐng)導(dǎo)者，收入在 2020 年 占據(jù)全球 27%的市場(chǎng)份額。天津久日新材料是國(guó)內(nèi)市場(chǎng)的領(lǐng)導(dǎo)者，收

49、入在 2020 年占據(jù)中國(guó) 28%的市場(chǎng)份額。UV 涂料制造業(yè)是對(duì)光引發(fā)劑 需求最大的產(chǎn)業(yè)，該產(chǎn)業(yè)要求光引發(fā)劑供應(yīng)商能夠提供質(zhì)量可靠、性?xún)r(jià) 比高的產(chǎn)品并能夠持續(xù)穩(wěn)定供貨。由于下游客戶(hù)要求較高，行業(yè)的集中 度日益增長(zhǎng)。從光引發(fā)劑的采購(gòu)價(jià)格來(lái)看，以容大感光披露的數(shù)據(jù)來(lái)看， 2018-2020H1，隨著上游供應(yīng)商的競(jìng)爭(zhēng)結(jié)構(gòu)逐漸穩(wěn)定，光引發(fā)劑采購(gòu)價(jià) 格總體下降，2020 上半年的采購(gòu)均價(jià)為 131.46 元/千克 ，歷史上光引 發(fā)劑采購(gòu)均價(jià)趨降。3.3 日系龍頭實(shí)力雄厚，國(guó)內(nèi)廠(chǎng)商有望復(fù)刻成功經(jīng)驗(yàn)光刻膠產(chǎn)業(yè)最早由歐美主導(dǎo)，日本廠(chǎng)商后來(lái)居上。1839 年，第一套 “光刻系統(tǒng)”重鉻酸鹽明膠誕生。此后經(jīng)過(guò)百年

50、發(fā)展，光刻膠技術(shù)開(kāi)始 成熟，1950s，德國(guó) Kalle 公司制成重氮萘醌-酚醛樹(shù)脂印刷材料，曝光 光源可采用 g 線(xiàn)、i 線(xiàn)。1980s，IBM 使用自研的 KrF 光刻膠突破了 KrF 光刻技術(shù)。隨后，東京應(yīng)化于 1995 年研發(fā)出 KrF 正性光刻膠并實(shí) 現(xiàn)大規(guī)模商業(yè)化，因此迅速占據(jù)市場(chǎng)，這標(biāo)志著光刻膠正式進(jìn)入日本廠(chǎng) 商的霸主時(shí)代。JSR：合成樹(shù)脂起家的光刻膠龍頭。公司靠乳膠業(yè)務(wù)起家，由于合成樹(shù) 脂也是光刻膠的主要材料之一，JSR 在 80 年代初開(kāi)始借由樹(shù)脂技術(shù)切 入光刻膠領(lǐng)域。在其后至今的 40 年里，JSR 光刻膠業(yè)務(wù)隨著半導(dǎo)體制 程技術(shù)一同進(jìn)步成長(zhǎng)，目前公司半導(dǎo)體光刻膠已全面覆蓋

51、 g 線(xiàn)到 EUV 光刻膠。從浸沒(méi)式 ArF 光刻膠到 EUV 極紫外光刻膠，在每一次光刻膠的技術(shù)變 革中，JSR 都扮演了行業(yè)先鋒的角色。JSR 主要分為兩個(gè)事業(yè)部，石 油化工事業(yè)部和精細(xì)化工事業(yè)部，其中精細(xì)化工事業(yè)部包括半導(dǎo)體材料、 顯示材料和邊緣計(jì)算材料三個(gè)領(lǐng)域；JSR 導(dǎo)體材料領(lǐng)域產(chǎn)品包括光刻 膠、CMP 材料、封裝測(cè)試材料等，顯示材料包括 LCD 平板材料，反射 膜材料和其它功能涂覆材料。TOK：EUV 光刻膠獨(dú)占鰲頭。是歷史悠久的日本化學(xué)材料企業(yè)。公司 成立 1940 年，在 1968 年，1972 年先后開(kāi)發(fā)出半導(dǎo)體用正型膠和負(fù)型 膠后，一直以成為光刻膠龍頭供應(yīng)商為目標(biāo)，走在半導(dǎo)

52、體微加工技術(shù)的 前列。早在 2006 年，東京應(yīng)化(TOK)就率先投資開(kāi)始研發(fā) ArF 浸沒(méi)光 刻膠所需技術(shù)，并在世界光刻膠市場(chǎng)上保持了領(lǐng)先地位。東京應(yīng)化擁有半導(dǎo)體光刻膠完整布局，2020 年，從 g/i 光刻膠到 EUV 光刻膠，東京應(yīng)化分別擁有 25.2%、31.4%、15.8%、51.8%的市占率， 除了 ArF 光刻膠位列第四以外其他均為第一，成為當(dāng)之無(wú)愧的全球光 刻膠龍頭企業(yè)。技術(shù)水平與生產(chǎn)品質(zhì)業(yè)界領(lǐng)先，在國(guó)內(nèi)擁有完整客戶(hù)布局：東京應(yīng)化 更專(zhuān)注于光刻膠材料及其輔助材料在各個(gè)不同場(chǎng)景下的應(yīng)用。其光刻膠 產(chǎn)品不論是在技術(shù)水平還是生產(chǎn)品質(zhì)都處于業(yè)界領(lǐng)先的地位。東京應(yīng)化 客戶(hù)橫跨半導(dǎo)體業(yè)界，

53、液晶等行業(yè)。在中國(guó)，東京應(yīng)化已有超過(guò) 10 年 的運(yùn)營(yíng)歷史，諸如臺(tái)積電，中芯，華宏 NEC，宏力，和艦等代表性的 廠(chǎng)家都是東京應(yīng)化在地區(qū)內(nèi)的客戶(hù)。信越化學(xué)：綜合性半導(dǎo)體材料龍頭。信越化學(xué)成立于 1926 年，最初以 氮肥料為主營(yíng)業(yè)務(wù)，戰(zhàn)后在日本政府的支持下開(kāi)始向半導(dǎo)體材料領(lǐng)域擴(kuò) 展。經(jīng)半個(gè)多世紀(jì)的發(fā)展,信越化學(xué)自行研制的聚氯乙烯、有機(jī)硅、纖 維素衍生物等原材料已成功在美國(guó)、日本、荷蘭、韓國(guó)、新加坡、中國(guó) 等國(guó)家和地區(qū)建立了全球范圍的生產(chǎn)和銷(xiāo)售網(wǎng)絡(luò)。在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域，信越化學(xué)以有機(jī)硅材料為基礎(chǔ)，逐漸攻克高純氫氟 酸，高純單晶硅，稀土磁體，光刻膠，LED 封裝，功率半導(dǎo)體材料等 產(chǎn)品的技術(shù)難關(guān)。4

54、.國(guó)產(chǎn)化率極低疊加海外斷供，大陸產(chǎn)業(yè)鏈崛起迫切大陸光刻膠國(guó)產(chǎn)化率極低。半導(dǎo)體用光刻膠被日本企業(yè)壟斷，國(guó)產(chǎn)化率 僅 10%，目前我國(guó)僅實(shí)現(xiàn) g 線(xiàn)、i 線(xiàn)、KrF 光刻膠量產(chǎn)，ArF 光刻膠大 都處于研發(fā)或送樣階段，EUV 光刻膠尚處于早期研發(fā)階段。平板顯示 用光刻膠，主要產(chǎn)地為日本、韓國(guó)和中國(guó)臺(tái)灣，其中彩色光刻膠、黑色 光刻膠國(guó)產(chǎn)化率僅為 5%，雅克科技收購(gòu) LG 化學(xué)該板塊業(yè)務(wù)后成為國(guó) 內(nèi)最大供應(yīng)商。TFT 光刻膠，中國(guó)大陸大部分產(chǎn)能仍為進(jìn)口。PCB 光 刻膠，濕膜及阻焊油墨已經(jīng)基本是實(shí)現(xiàn)自給，國(guó)產(chǎn)化率達(dá) 46%，而干 膜光刻膠仍需大量進(jìn)口，主要供應(yīng)地區(qū)在日本和中國(guó)臺(tái)灣。大陸企業(yè)在上游原材料

55、均有布局。從 A 股上市公司在光刻膠原材料的 布局情況來(lái)看，溶劑方面有百川股份、怡達(dá)股份等，單體有華懋科技 （投資徐州博康）、聯(lián)瑞新材等，樹(shù)脂有彤程新材、圣泉集團(tuán)、強(qiáng)力新 材等，光引發(fā)劑有強(qiáng)力新材等。中游制造國(guó)產(chǎn)布局完善，g/i 線(xiàn)已深耕多年，持續(xù)向中高端 KrF、ArF 光刻膠發(fā)力。目前國(guó)產(chǎn)光刻膠在中游制造方面已經(jīng)取得了里程碑式的突 破，涌現(xiàn)出一批優(yōu)秀企業(yè)，在半導(dǎo)體光刻膠方面，有彤程新材（KrF 光 刻膠批量供應(yīng)中芯、長(zhǎng)存等多家下游客戶(hù)，G 線(xiàn)光刻膠的市場(chǎng)占有率達(dá) 到 60%），晶瑞電材（g/i 線(xiàn)批量供應(yīng)多年，KrF 已通過(guò)測(cè)試）上海新陽(yáng) （KrF 形成銷(xiāo)售，ArF 研發(fā)進(jìn)展順利）華懋科技

56、（投資徐州博康，擁有 光刻膠全產(chǎn)業(yè)鏈能力），2022 年國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體光刻膠有望開(kāi)花結(jié)果實(shí)現(xiàn)放 量。4.2 彤程新材：旗下科華&北旭光刻膠雙龍頭，KrF 光刻膠已實(shí)現(xiàn)放量公司是全球領(lǐng)先的新材料綜合服務(wù)商，外延并購(gòu)北京科華、北旭電子發(fā) 力高端光刻膠，已實(shí)現(xiàn)從電子酚醛樹(shù)脂到成品光刻膠的完整布局。公司 公告顯示，北京科華是唯一被 SEMI 列入全球光刻膠八強(qiáng)的中國(guó)光刻膠 公司，批量供應(yīng) KrF 光刻膠；北旭電子是國(guó)內(nèi)面板光刻膠領(lǐng)先企業(yè)， TFT 正性光刻膠在京東方占有 45%以上的份額。公司傳統(tǒng)業(yè)務(wù)營(yíng)收增長(zhǎng)穩(wěn)定，未來(lái)將通過(guò)電子材料業(yè)務(wù)給公司成長(zhǎng)注 入新動(dòng)力。公司是中國(guó)最大的橡膠酚醛樹(shù)脂生產(chǎn)商，在行業(yè)內(nèi)市

57、占率較 高，近年來(lái)營(yíng)收發(fā)展穩(wěn)定。2021 年公司實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入 23.08 億元， 2016-2021 CAGR 為 5.9%；實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤(rùn) 2.01 億元，同比-20.44%， 歸母凈利潤(rùn)下滑主要系原材料及運(yùn)費(fèi)價(jià)格受疫情影響上漲所致。公司未 來(lái)將重點(diǎn)發(fā)展電子材料業(yè)務(wù)，主要涵蓋半導(dǎo)體光刻膠及配套試劑、顯示 面板光刻膠和電子酚醛樹(shù)脂等產(chǎn)品。公司光刻膠業(yè)務(wù)進(jìn)展順利： 2021 年公司半導(dǎo)體光刻膠業(yè)務(wù)實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收 入 1.15 億元元，同比增長(zhǎng) 28.80%；公司半導(dǎo)體用 G/I 線(xiàn)光刻膠產(chǎn)品較 上年同期增長(zhǎng) 50.22%；KrF 光刻膠產(chǎn)品較上年同期增長(zhǎng) 265.80%。報(bào) 告期內(nèi)，公司 G 線(xiàn)光刻

58、膠的市場(chǎng)占有率達(dá)到 60%；I 線(xiàn)光刻膠和 KrF 光刻膠批量供應(yīng)于中芯國(guó)際、華虹宏力、長(zhǎng)江存儲(chǔ)、華力微電子、武漢 新芯、華潤(rùn)上華等 13 家 12 寸客戶(hù)和 17 家 8 寸客戶(hù)。子公司北京科華 的 I 線(xiàn)光刻膠已接近國(guó)際先進(jìn)水平，其種類(lèi)涵蓋國(guó)內(nèi) 14nm 以上大部分 工藝需求；KrF 產(chǎn)品在 Poly、AA、Metal 等關(guān)鍵層工藝完成了重大突破， 獲得客戶(hù)批量使用；同時(shí) TM/TV、Thick、Implant、ContactHole 等工 藝市占率持續(xù)提升。公司抓住國(guó)內(nèi) KrF 系列光刻膠供應(yīng)短缺機(jī)會(huì)，在 G-I 線(xiàn)和 KrF 光刻膠的 開(kāi)發(fā)上持續(xù)發(fā)力。從產(chǎn)品上來(lái)看，公司 21 年新增

59、21 支新產(chǎn)品通過(guò)客 戶(hù)驗(yàn)證并獲得訂單，新產(chǎn)品銷(xiāo)售額在半導(dǎo)體光刻膠總收入中的占比達(dá)到 25.96%創(chuàng)歷史新高。產(chǎn)品序列方面，21 支新品包括 248nm 光刻膠 10 支，I 線(xiàn)光刻膠 9 支，LED 及先進(jìn)封裝用光刻膠 2 支，如國(guó)內(nèi)首款 248nm 負(fù)性光刻膠 DKN 系列產(chǎn)品，高分辨 I 線(xiàn)光刻膠 C7600 系列產(chǎn)品 及厚膜 ICA 光刻膠 C9120 系列產(chǎn)品；用戶(hù)產(chǎn)線(xiàn)水平方面，公司 12 寸 客戶(hù)增至 13 家，增長(zhǎng) 160%，8 寸客戶(hù)增至 17 家，增長(zhǎng) 70%，8-12 寸用戶(hù)銷(xiāo)售收入持續(xù)提高。4.3 晶瑞電材：國(guó)內(nèi)光刻膠先驅(qū)，約三十年經(jīng)驗(yàn)積累晶瑞股份專(zhuān)業(yè)從事微電子化學(xué)品的產(chǎn)

60、品研發(fā)、生產(chǎn)和銷(xiāo)售。其四大類(lèi)微 電子化學(xué)品（超凈高純?cè)噭?、光刻膠、功能性材料和鋰電池粘結(jié)劑）均 為下游五大新興行業(yè)（半導(dǎo)體、光伏太陽(yáng)能電池、LED、平板顯示和鋰 電池）的關(guān)鍵材料。經(jīng)過(guò)多年研發(fā)和積累，晶瑞股份部分超凈高純?cè)噭?達(dá)到國(guó)際最高純度等級(jí)（G5），打破了國(guó)外技術(shù)壟斷，制定了多項(xiàng)行業(yè) 標(biāo)準(zhǔn)；子公司蘇州瑞紅在國(guó)內(nèi)率先實(shí)現(xiàn)目前集成電路芯片制造領(lǐng)域大量 使用的核心光刻膠的量產(chǎn)，在業(yè)內(nèi)建立了較高技術(shù)聲譽(yù)。公司近年來(lái)收入、歸母凈利潤(rùn)持續(xù)高增。2021 年公司實(shí)現(xiàn)營(yíng)業(yè)收入 18.32 億元，同比+79.21%，2016-2021 營(yíng)收 CAGR 為 25.9%；實(shí)現(xiàn) 歸母凈利潤(rùn) 2.01 億元，同比