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文檔簡介
1、電子俘獲檢測器及檢測方法電子俘獲檢測器(ECD)是靈敏度最高的氣相色譜檢測器,同時又是最早出現(xiàn)的選擇性檢測器。它僅對那些能俘獲電子的化合物,如鹵代烴、含N、O和S等雜原子的化合物有響應(yīng)。由于它靈敏度高、選擇性好,多年來已廣泛用于環(huán)境樣品中痕量農(nóng)藥、多氯聯(lián)苯等的分析。其應(yīng)用面僅次于TCD和FID,直穩(wěn)居第三位。ECD是氣相電離檢測器之一,但它的信號不同于FID等其他電離檢測器,F(xiàn)ID等信號是基流的增加,ECD信號是高背景基流的減小。ECD的不足之處是線性范圍較小,通常僅102-104。ECD的發(fā)現(xiàn)是一系列射線電離檢測器發(fā)展的結(jié)果。1952年首次出現(xiàn)了卩-射線橫截面電離檢測器;1958年Lovel
2、ock提出卩-射線氬電離檢測器。當(dāng)鹵代化合物進(jìn)入該檢測器時,出現(xiàn)了異常,于是Lovelock進(jìn)一步研究,首次提出了此異常是具電負(fù)性官能團(tuán)的有機(jī)物俘獲電子造成的,進(jìn)而發(fā)展成電子俘獲檢測器。此后至今的40多年中,ECD在電離源的種類、檢測電路、池結(jié)構(gòu)和池體積等方面均作了很大的改進(jìn),從而使現(xiàn)代ECD的靈敏度、線性及線性范圍、最高使用溫度及應(yīng)用范圍等均有了很大的改善和提高。ECD工作原理ECD系統(tǒng)由ECD池和檢測電路組成,見圖3-6-1。它與FID系統(tǒng)相比,僅兩部分不同:電離室和電源E。為以后敘述方便,我們將電源從微電流放大器中移出,另成一單元(7)。不同電源的具體情況將在下節(jié)介紹。ECD作原理是:由
3、柱流出的載氣及吹掃氣進(jìn)入ECD池,在放射源放出卩-射線的轟擊下被電離,產(chǎn)生大量電子。在電源、陰極和陽極電場作用下,該電子流向陽極,得到10-9-10-8A的基流。當(dāng)電負(fù)性組分從柱后進(jìn)入檢測器時,即俘獲池內(nèi)電子,使基流下降,產(chǎn)生一負(fù)峰。通過放大器放大,在記錄器記錄,即為響應(yīng)信號。其大小與進(jìn)入池中組分量成正比。負(fù)峰不便觀察和處理,通過極性轉(zhuǎn)換即為正峰。圖3-6-1口丄)系統(tǒng)示意圖I色譜林:2T9J極:3h攵肘源:4一陽極:于一吹扌【氣:石一氣體出口:7-It流或脈沖電源;區(qū)一微電流放大船;9記錄器或數(shù)據(jù)處即系統(tǒng)響應(yīng)機(jī)理對ECD基流、響應(yīng)規(guī)律的理論解釋,通常用復(fù)合理論。但它無法解釋壓力對響應(yīng)值的影響
4、等規(guī)律,于是又出現(xiàn)了正空間電荷模型和負(fù)空間電荷理論。以下僅討論復(fù)是理論。復(fù)合理論認(rèn)為多種反應(yīng)在ECD池內(nèi)同時進(jìn)行。首先是高能電子與載氣分子的電離反應(yīng),形成基流Ib;然后是電負(fù)性組分的電子俘獲反應(yīng),得到池電流I;最后是正、負(fù)離子復(fù)合成中性分be子,排出池外。故其直接信號是(I-I)0b電離反應(yīng)卩粒子是具有l(wèi)OkeV能量的高能電子。它能與氮或氬載氣分子(P)通過非彈性碰撞,使其電離成正離子(P+)、次級電子(e),粒子本身消耗能量后變成熱能電子(卩*),同時釋放能量(E):3+PP+e+3*十E(3-6-)N2可按上式進(jìn)行直接電離。但A在卩粒子轟擊下,可形成亞穩(wěn)態(tài)原子(Ar*)3+ArAr*十jT
5、(3-6-2)Ar*具有11.6eV的能量,且壽命較長。當(dāng)能俘獲電子的多原子組分(AB)進(jìn)入,若其電離能低于11.6eV,Ar*即可將其電離成正離子和電子,使ECD池中的基流增加:Ai十ABAr十丸十什(3-6-3)因此,純Ar作載氣之ECD,其響應(yīng)易出現(xiàn)異常。為此,通常要在Ar中加入5%-10%左右的甲烷(或二氧化碳)作猝滅劑(X),使Ar*一形成,就通過如下失活碰撞反應(yīng)回到基態(tài),防止異常:Ar*+XAi+X(3-6-4)另外,加入甲烷還可降低高能卩粒子和次級電子的能量,使之成為熱電子(能量僅0.02-0.05e)十分易于被電負(fù)性組分俘獲。所以/CH作載氣的反應(yīng)式為:3+Ai+CH.AP+e
6、+R十R(3-6-5)電子俘獲反應(yīng)電負(fù)性組分進(jìn)入ECD,俘獲熱電子,成為負(fù)離子有四種機(jī)理:I+AB(3-6-6)(11)e+AB+B(3-6-7)III)e+AB+B_(3-6-8)CIV+AB+B(3-6-9)機(jī)理I為非離解反應(yīng),其特征是多原子分子俘獲電子反應(yīng)過程中,內(nèi)能的變化(E)等于該組分的電子親合勢(EA)。芳烴、羰基化合物等的電子俘獲反應(yīng)屬此類。機(jī)理II為離解反應(yīng),負(fù)離子曲線的離解能很小,AB俘獲電子后,經(jīng)離解位能曲線立即離解。氯、溴、碘、烷基化合物的電子俘獲反應(yīng)屬此類。機(jī)理III、W均是二步離解過程,它是在機(jī)理I的基礎(chǔ)上,如AB分子吸收的能量(E*)大于過程中內(nèi)能的變化,E*AE,
7、即為機(jī)理III。芳香族的氯、溴、碘化合物屬此機(jī)理。如AB分子吸收的能量等于內(nèi)能的變化,E*=AE,即為機(jī)理W。乙酸酐、乙酸芐酯等屬此機(jī)理。復(fù)合反應(yīng)因負(fù)離子的質(zhì)量比電子大幾個數(shù)量級,故在電場作用下,其運動速度比電子慢得多。它與正離子的復(fù)合速率是電子與正離子復(fù)合速率的105108倍。因此,負(fù)離子與正離子及游離基很易復(fù)合,形成中性分子。AB-+P1中性分f(3-6-10)AB-十R-AB+R中性分f(3-6-11)B或J+P1=1中性分(3-6-12)B或A-十R或A+R中性分f(3-6-13)另外,還有電子與正離子及游離基的復(fù)合:ECD池結(jié)構(gòu)如圖3-6-1和圖3-6-2所示,由電離源、陽極和陰極三
8、者排布在一定形狀的池腔中,構(gòu)成ECD池。在此將組分濃度變化轉(zhuǎn)變成電信號。通過檢測電路將此信號取出,放大、記錄。一、電離源ECD的發(fā)展是和電離源的改進(jìn)密切相關(guān)的。30多年來,ECD的電離源一直用放射源。眾所周知,放射性物質(zhì)放射出來的射線有三種:a、卩、y射線。ECD對電離源的要求是:電離能力強(qiáng),可提供一定強(qiáng)度的基流;穿透力小,確保人身安全;半衰期長,性能穩(wěn)定,使用壽命長;耐較高溫度,不易污染,應(yīng)用面廣。a射線雖電離能力最強(qiáng),但它產(chǎn)生的噪聲大,還伴隨有對人體有害的y輻射。y射線電離能力差,且穿透力太強(qiáng),能透過幾十至幾百毫米厚的鋼板,不安全,故均不適用。卩射線是高速的電子流,每厘米行程能產(chǎn)生1021
9、04離子對,電離能力和穿透力均介于a、Y射線之間;且通常為純卩射線,無其他輻射,較安全。故卩射線最合適。3H2和63Ni是經(jīng)常使用的卩射線源。對卩射線源進(jìn)一步選擇,主要側(cè)重在上述要求、兩方面,即半衰期和耐溫性。早期使用的氚源有兩種:氚-鈦源(3H-Ti)是將氣體氚吸著在鍍有鈦膜的不銹鋼片上制成箔,它耐溫性差。以后又發(fā)展了將氣體氚吸附在鍍有抗膜不銹鋼片上的氚-鈧源(3H-Sc)。耐溫性有了改善,但仍不理想。1966年Yanger等首次使用63Ni放射源。它是將63Ni電鍍在鎳片上制成箔,耐溫性明顯提高,半衰期顯著增長。見表3-6-1。多年實踐表明63Ni源優(yōu)于3H源。所以,近年來商品ECD幾乎都
10、是63Ni源。當(dāng)然,3H源射程短,活性大,在需制作小池體積ECD的情況下,有時也用3H源。表m2筍和.打1源性能的比較性能汕-丁沖-Sc根半衰期八T12.512.5最高便用溫度川:4(H)200-300-5250粒:能量幾H671SIX0和子范0102.52.?暈大活性/(ni(j/rnr)10170跑址大FLiSt/pA9(15mCi源)3(X500mS源)屯子產(chǎn)牛:速度,/ir/sIO102x10噪聲/禍1.?3一、ECD池結(jié)構(gòu)刖*油加I人氣圧下測比ECD池結(jié)構(gòu)要有利于收集電子,而不收集負(fù)離子,這是一大原則。如果兩者不能明顯區(qū)分,將出現(xiàn)非線性響應(yīng)。通常,ECD池結(jié)構(gòu)按照放射源、電極位置及形
11、狀(電場分布)、氣體流路和池的幾何形狀,可分為三種主要類型:平行板型、同軸圓筒型和位移同軸圓筒型三種,見圖3-6-2(a)、(b)(c)。收蛍根3)平行梅型收蛍根3)平行梅型圖3-6-2二種顒:1:1池結(jié)拘示意圖同軸凰筒型(c)恒琲同軸圓筒型平行板型為早期使用的一種結(jié)構(gòu),因池體積太大等弊端,已基本被淘汰。同軸圓筒型這是普遍采用的一種結(jié)構(gòu)。與平行板型相比,相同面積的放射源箔,池體積可大為減小。要求從放射源至陽極的距離,應(yīng)大于卩粒子的射程。這樣,卩射線可有效地與載氣分子碰撞,將其電離,卩粒子本身亦變成熱電子,產(chǎn)生最大基流。同時又可防止高速的!粒子碰撞至陽極,造成表面侵蝕。但此距離又不能太大。若距離
12、太大,當(dāng)窄的(約1陰)低壓(50V)脈沖加至陽極時,可能池中的電子不能完全被收集,特別是用63Ni源,N2作載氣時,很容易出現(xiàn)此問題。而小直徑的3電源,用Ar-CH4作載氣時,則不易出現(xiàn)。因63Ni源與3電源相比,前者的卩粒子能量大于后者;N2與Ar-CH4相比,前者使高能電子降低能量變成熱電子的能力不如后者。文獻(xiàn)已表明:對100mCi的63Ni源,如用Ar-CH4作載氣,40V脈沖高度時,V4盟的脈沖寬度還能安全收集池中的所有電子,而用N2載氣,脈沖寬度必須大于20陰才能完全收集。通常,接填充柱的同軸型ECD,其池體積為24mL。位移同軸圓筒型這是近年發(fā)展的一種較新結(jié)構(gòu)。與同軸圓筒型相比,相
13、同面積的放射源箔,池體積可更小。因陽極已從射線的發(fā)射區(qū)內(nèi)移出,卩射線不大可能與陽極相撞,故其池腔直徑可更小。但還要考慮到以下兩種情況:如何盡量減小粒子和放射源本身相撞;調(diào)整陽極移出的距離,保證在脈沖寬度小時,ECD池中的電子亦能完全被收集。75mCi63Ni源、池體積為0.3mL的ECD,在N2作載氣時,-50V脈沖高度、0.64陰的脈沖寬度即可完全收集池中的電子。近年毛細(xì)管柱的ECD,均是此結(jié)構(gòu)。圖3-6-3(a)、(b)為兩種微ECD示意圖,池腔體積分別為150gL和100卩L。另外,按負(fù)空間電荷理論,島津17-A的“潔凈”ECD,使柱后流出組分不直接與放射源接觸,這樣,既可正常響應(yīng),又可
14、防止樣品對箔的污染。特別是在分析一些較“臟”的樣品,如變壓器油或動物組織中的農(nóng)藥時,更為理想,見圖3-6-3(c)。(cj(cj圖m片“_口川和沽凈”山川示査圖5”11竊制系列氣郴色譜儀;L-EClh1IJVjlHiii話00型氣相色譜儀;L-E:D:嚴(yán)潔沙E:I檢測條件的選擇通常認(rèn)為電子俘獲檢測器較難操作。但如果掌握了各種檢測條件對ECD性能的影響,應(yīng)該是不難的。影響ECD線性和線性范圍的因素已在上節(jié)討論,本節(jié)主要討論影響ECD響應(yīng)值的因素:載氣種類、純度和流速、色譜柱和柱溫、檢測器溫度、電源操作參數(shù)。一、載氣種類、純度和流速種類N2、Ar、He、H2均可作ECD的載氣。N2和Ar作載氣時之
15、基流和靈敏度均高于He、H2,故填充柱時通常用N2或Ar/CH4,而不用He或H2。在同軸圓筒型恒電流方式ECD上,測定了不同載氣組成和不同參比電流時,艾氏劑的靈敏度,見圖3-6-11。參數(shù)P為參比電流和最大參比電流之比。由圖可見,在各參比電流下,均是Ar/5%CH4載氣的絕對靈敏度最高,純Ar載氣次之,N2載氣最低。至P值接近1時,三者靈敏度均急劇提高,而線性范圍下降。N2載氣的線性范圍亦小于Ar/CH4。因N2價廉,又易與其他氣相色譜檢測器配合;對位移同軸圓筒型ECD,N2載氣也可得到較高的靈敏度。所以常用n2作載氣。圖3-6-II載氣種類和巻比電流對靈皺度的影響當(dāng)用毛細(xì)管柱,過柱載氣流速
16、很小(5mL/min)或需作快速分析時,可用He、H2作載氣,尾吹用N2或Ar/CH4氣。這時ECD的靈敏度取決于尾吹氣的流速,但需注意,純He同純Ar一樣,也易被激發(fā)成亞穩(wěn)態(tài),產(chǎn)生異常響應(yīng)。故用He作載氣時,同樣要加入甲烷作猝滅劑,組成He/CH4混合氣使用。還要注意,如ECD為流速H2放射源時,切忌用H2作載氣。因H2可與3H2交換,使3H2大量流失,縮短檢測器壽命。流速純度載氣純度直接影響ECD的基流或基頻。圖3-6-12為載氣純度對基流的影響。為保證ECD池的潔凈,降低雜質(zhì)俘獲池中的自由電子,一般要求載氣純度在99.99%以上,還要外加凈化器,以除去殘留的氧和水。氧具有強(qiáng)烈的吸電子性,
17、使基流下降。載氣和尾吹氣流速調(diào)節(jié)的目的和意義是不同的。前者主要從組分分離要求確定,通常填充柱2050mL/min,毛細(xì)管柱為0.110/mL/min。后者在ECD中有三個作用。(1)為保持毛細(xì)管柱達(dá)一定的柱效,需加尾吹氣,以減小譜帶柱后變寬。表3-6-11為n=3000m-1,tR=5min時,不同檢測器體積和不同氣體流速時,譜帶變寬的百分?jǐn)?shù)(0)??梢钥闯觯和簧鞯挠绊懽V柱,其后接的ECD池體積越大,為達(dá)相同柱效所需尾吹氣流速越大。表3-6-11不同池體積、不同流速對譜荷變芟百分融(J1的影響池體積巾I.氣體涼速niL/iniii!I50DHH003(林305432IK106027169
18、590IRII6斗(2)保持ECD達(dá)飽和基流I0(恒頻率)或穩(wěn)定基頻扎(恒電流)。因I。隨通過檢測器氣體流速增加而增大,扎即隨流速增加而減小,且兩者均至一定值后達(dá)穩(wěn)定,見圖3-6-13。扎N?/(mL/iiiiti扎N?/(mL/iiiiti)圖3-6-13過卜工I)池流速對或九的影響100(3)由于ECD是濃度型檢測器,峰面積反比于通過檢測器的氣體流速。但ECD的峰高不同于典型的濃度型TCD。它隨氣體流速的增加而增大至最大值后,又隨流速增加而下降。所以,在柱流速固定后,可通過調(diào)節(jié)尾吹氣流速,使達(dá)最大響應(yīng)。總之,通過ECD池的氣體流速對其性能的影響是復(fù)雜的,通常要對柱效、基流(或基頻)和靈敏度
19、三者兼顧,取一適中流速。不同型號儀器說明書中均有過ECD的最佳流速,可參照該推薦值,增、減約2%4%的流速,以達(dá)到峰形變寬最小,靈敏度最高為最佳。對某些ECD有時僅變動12mL/min,即可達(dá)目的。在恒電流方式中,線性范圍隨氣體流速增加而略有增大。二、色譜柱和柱溫色譜柱和柱溫的選擇原則是:既要保證各組分完全分離,又要保持ECD池潔凈,不受柱固定相污染。為此,應(yīng)盡量選用低配比的耐高溫或交聯(lián)固定相;柱溫盡量偏低。這樣,在相同的柱溫下,柱流失的絕對量比高配比、未交聯(lián)固定相要少得多。同時,低配比柱達(dá)到相同分離度所需的柱溫可降低,固定相流失又可進(jìn)一步減少。盡量不要選用含多鹵原子的固定相,如甲基三氟丙基聚
20、硅氧烷(QF-1,OV-210)、聚三氟氯乙烯蠟(KelFwax)等。切忌用聚四氟乙烯管作連接管或色譜柱。它們均能使基流嚴(yán)重下降。通常要求接ECD的色譜柱,其最高使用溫度比接其他氣相色譜檢測器要低50140C。在程升過程中,柱溫的變化對ECD的靈敏度和基線應(yīng)無明顯影響,但可能由于柱溫的變化引起載氣流速的改變,產(chǎn)生較小的基線飄移。三、檢測器溫度由于ECD的響應(yīng)明顯受檢測器溫度的影響,因此,檢測器的溫度波動必須精密控制小于土(0.10.3)C,以保證響應(yīng)值的測量精度在1%以內(nèi)。另外,在比較同一化合物的響應(yīng)值或最小檢出量時,注意溫度應(yīng)相同。不標(biāo)明溫度的比較是欠妥的。使用注意事項ECD使用中最重要的是
21、始終保持系統(tǒng)的潔凈;有了污染要及時發(fā)現(xiàn)、及時排除;為使定量準(zhǔn)確,要注意防止ECD過載;還要注意安全。保持整個氣路系統(tǒng)的潔凈ECD對雜質(zhì)十分敏感,故使用中每一環(huán)節(jié)均要考慮是否帶入污染雜質(zhì)。外來雜質(zhì)進(jìn)入ECD池,將出現(xiàn)兩種異常:一是放射源表面污染,使放射源電離能力下降,從而使直流電壓和恒頻率方式ECD基流下降或恒電流方式中基頻增高;二是雜質(zhì)直接俘獲ECD中的電子,使基流下降或基頻增高。兩者最終均導(dǎo)致靈敏度降低。具體的保潔措施是:系統(tǒng)氣密性好通過氣密性實驗,確保從氣源至檢測器出口的整個氣路系統(tǒng)氣密性好,無空氣漏入。氣體純度高載氣及尾吹氣均應(yīng)用純度大于99.99%之純氣,或大于99.999%(以上的高
22、純氣。隔墊流失小進(jìn)樣口隔墊應(yīng)用耐高溫墊。使用前,可放在柱恒溫箱中于250C下老化812h,甚至再用溶劑萃取,然后使用。汽化室潔凈汽化室中玻璃棉及玻璃插管應(yīng)定期更換。柱流失小色譜柱應(yīng)在比實際使用溫度至少高25C的溫度下充分老化,低柱溫使用。樣品潔凈“臟樣品”應(yīng)作凈化處理。溶劑應(yīng)用二次蒸餾的烷烴、芳烴或一氯烴。毛細(xì)管柱兩端潔凈當(dāng)汽化室或檢測器溫度高時,可能使毛細(xì)管柱外的聚酰亞胺涂層分解成揮發(fā)性組分進(jìn)入ECD池,為此,可用低溫火焰,如丁烷打火機(jī)將其燒掉,以保持柱兩端潔凈。檢測器溫度高于柱溫10C以上。保持吹掃氣暫時停機(jī)時,保持少量吹掃氣通過ECD。檢測器污染及其凈化可據(jù)下跡象之一判斷ECD可能污染(
23、1)直流和恒頻率方式ECD基流下降或恒電流方式基頻增高。如HP6890氣相色譜儀ECD,設(shè)計值是100600Hz基頻為潔凈;實際判斷時,通常認(rèn)為大于500Hz即可能有污染;(2)噪聲增大,信噪比下降;(3)基線漂移變大;(4)線性范圍變小;(5)出負(fù)峰,通常是在大峰后有負(fù)峰。對已經(jīng)污染之ECD,操作者可用以下實驗室簡便凈化ECD法之一處理之。(1)熱清洗法通常輕度污染常用此法。首先確保氣路系統(tǒng)不漏和無污染(2)、(3)法同。然后,卸下色譜柱,用悶頭螺帽將柱接檢測器的接頭堵死。調(diào)N2尾吹氣至5060mL/min,升檢測器溫度至350C左右3Ni源),柱溫250C,保持48h。最后,冷至通常操作溫度,觀察基頻是否下降至正常值。如有效但還不
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