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1、14-6 4-6 提高配位滴定選擇性的方法提高配位滴定選擇性的方法一、選擇性滴定可能性判斷一、選擇性滴定可能性判斷當M與N兩種金屬離子共存時，它們均可與EDTA配位，要準確滴定M，而N離子不干擾。經(jīng)推導(dǎo)計算，得： lgK5 (CMCN) 若不能滿足條件，要采用方法提高滴定的選擇性。2二、提高配位滴定選擇性的途徑二、提高配位滴定選擇性的途徑1. 掩蔽和解蔽法提高配位滴定的選擇性 M與N共存，都能與EDTA配位，但又不滿足選擇滴定的要求，在這種情況下，需加入一種合適的試劑，先與干擾離子作用，以消除干擾，這種方法為掩蔽掩蔽法法，所加試劑稱為掩蔽劑掩蔽劑。3常用的掩蔽法：常用的掩蔽法： (1)配位掩蔽

2、法 (2)沉淀掩蔽法 (3)氧化還原掩蔽法（1 1）配位掩蔽法）配位掩蔽法 加入某種配位劑作掩蔽劑與N離子形成穩(wěn)定的配合物，從而降低溶液中N離子的濃度，達到選擇性滴定M的目的。例如 在Al3+, Zn2+兩種離子共存的溶液中測定Zn2+。4（2 2）沉淀掩蔽法）沉淀掩蔽法沉淀掩蔽法：加入某種沉淀劑，使N離子生成沉淀，以降低其濃度，這種方法為沉淀掩蔽法。例如 在Ca2+，Mg2+共存的溶液中，測定Ca2+的含量。5（3 3）氧化還原掩蔽法）氧化還原掩蔽法 加入某種氧化劑或還原劑使與N離子發(fā)生氧化還原反應(yīng)，改變其價態(tài)，使原價態(tài)的N離子濃度降低，從而可選擇性滴定M，這種掩蔽方法稱為氧化還原掩蔽法。例如 有Fe3+存在時，測定Bi3+等離子的含量。6（4 4）解蔽作用）解蔽作用 利用一種試劑，使已被掩蔽劑掩蔽的金屬離子釋放出來，這一過程稱為解蔽。例如 測定銅合金的鋅和鉛。2.

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