橢偏儀系列針對(duì)研發(fā)領(lǐng)域薄膜材料分析

1、橢偏儀系列，針對(duì)研發(fā)領(lǐng)域薄膜、材料分析光譜范圍 : 190-2500 nmSENresearch 寬波段光譜橢偏儀系列針對(duì)滿足現(xiàn)代研究的需求，為任何應(yīng)用都能夠提供出色的測(cè)量速度和精確度。該系列光譜橢偏儀能夠測(cè)量薄膜厚度，折射率，吸收系數(shù)，并能夠描述材料性質(zhì)，如材料組分、折射率梯度、表面和界面粗糙層、各向異性材料和多層膜。SENresearch 光譜橢偏儀能夠分析并不理想的樣品，如退偏效應(yīng)，非均勻樣品，散射和背板反射。SENresearch 由 SpectraRay II 軟件操作 , 完善的軟件能夠測(cè)量數(shù)據(jù)，建模，擬合并作出橢偏測(cè)量、反射/透射測(cè)量的結(jié)果報(bào)告。research 系列各型號(hào)的光譜

2、范圍:步進(jìn)掃描分析器工作模式，超消色差單色儀，電腦控制起偏器，UV-VIS 波段快速二極管/CCD 陣列探測(cè)器和 NIR 波段干涉儀調(diào)制探測(cè)器能提供快速測(cè)量和高信噪比，并為任何測(cè)量在全部psi,delta 范圍（ 0-90 deg(psi) and 0 360 deg (delta).）都提供最高的測(cè)量精度。SENresearch 系列光譜橢偏儀能夠測(cè)量反射光偏振狀態(tài)，修正由于非均勻樣品、粗糙表面、聚焦角度所導(dǎo)致的退偏效應(yīng)。并能夠分析各向異性樣品和材料。SENTECH 先進(jìn)的地貌圖掃描選項(xiàng)，支持對(duì)復(fù)雜多層膜樣品在全波段快速測(cè)量并分析其均勻性（最小每點(diǎn) 5 秒）。數(shù)據(jù)可按照設(shè)定的地圖圖案表現(xiàn)為2

3、D-, 3D- 或等高線圖，并能夠進(jìn)行全面統(tǒng)計(jì)分析。SENresearch 能夠測(cè)量反射率、透射率。光度測(cè)量數(shù)據(jù)可通過(guò)SpectraRay II 軟件分析。可選自動(dòng)角度計(jì)，提供更大范圍入射角度(20-90 deg)。可選低溫保持器用于溫度控制測(cè)量。SENresearch 技術(shù)指標(biāo) :光譜范圍 : (* 括號(hào)中表示可擴(kuò)展光譜范圍)SE 800:(290) 350850 nmSE 850:(290) 3501700 (2500) nmSE 800 DUV190 950 nmSE 850 DUV190 1700 (2500) nmSE 850 Z(290) 3501700 nm起偏器 / 分析器 :電機(jī)驅(qū)動(dòng)，步進(jìn)掃描分析器操作模式補(bǔ)償器 :超級(jí)消色差補(bǔ)償器光源 :Xe 燈 , 氘燈 , 鹵素鎢燈 (UV-VIS),鹵素鎢燈 (NIR)探測(cè)單元 :二極管陣列 / CCD 陣列 (UV-VIS), FT-IR光譜儀 (NIR)樣品校準(zhǔn) :自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)鏡，高精度校準(zhǔn)高度、傾斜度樣品尺寸 :最大 300 mm軟件 :SpectraRay II選項(xiàng) :角度計(jì) :電機(jī)驅(qū)動(dòng)Mapping地貌圖掃描:電機(jī)驅(qū)動(dòng)，從50 x 50 m