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原料藥:××××(原料藥名稱)M3:3.2.S.3特性鑒定第目錄3.2.S.3特性鑒定 表3.2.S.3-19。表3.2.S.3-SEQ表\*ARABIC17:有機(jī)雜質(zhì)情況分析表編號雜質(zhì)名稱雜質(zhì)結(jié)構(gòu)雜質(zhì)類別雜質(zhì)來源性質(zhì)雜質(zhì)去向控制限度(是否訂入標(biāo)準(zhǔn))一般毒性雜質(zhì)有機(jī)雜質(zhì)工藝雜質(zhì)基因毒性雜質(zhì)基因毒性雜質(zhì)工藝雜質(zhì)氧化降解雜質(zhì)表3.2.S.3-SEQ表\*ARABIC18:無機(jī)雜質(zhì)情況分析表雜質(zhì)名稱來源雜質(zhì)去向控制限度(是否訂入標(biāo)準(zhǔn))表3.2.S.3-SEQ表\*ARABIC19:殘留溶劑情況分析表溶劑名稱來源控制策略溶劑分類是否訂入質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)種類限度3.2.S.3.2.2產(chǎn)品中的主要雜質(zhì)來源分析及控制方法3.2.S.3.2.2.1有機(jī)雜質(zhì)譜分析及控制1、工藝雜質(zhì)①雜質(zhì)1該雜質(zhì)為××××工藝副產(chǎn)物,是××××中間體制備過程中的過渡中間體?!痢痢痢凉に囍型ㄟ^控制水解溫度和時間,使雜質(zhì)3充分水解為××××中間體,即便有殘留,也可通過乙酸乙酯洗滌工序進(jìn)一步去除。三批中試和三批工藝驗(yàn)證成品中均未檢出為雜質(zhì)3(檢測情況見表3.2.S.3-20)。依據(jù)ICHQ3A,按非特定雜質(zhì)對其進(jìn)行控制,控制限度為不得過0.1%。表3.2.S.3-20中試及工藝驗(yàn)證6批雜質(zhì)3在成品中的檢出情況批號含量中試三批工藝驗(yàn)證三批161201171002190301200314421200318421200323421雜質(zhì)3NDNDNDNDNDND注:成品檢測方法雜質(zhì)3定量限LOQ23ppm;檢測限LOD7ppm;ND:Notdetected,未檢出。②雜質(zhì)4該雜質(zhì)為××××中間體,步驟二通過反應(yīng)時間等因素控制方式盡可能使其反應(yīng)完全;即便有雜質(zhì)4的殘留,其吡啶氮上孤電子對,也可和H+結(jié)合成鹽,增大水溶性而從精制工序一步洗脫去除。另外,三批中試和三批工藝驗(yàn)證成品中均未檢出(檢測情況見表3.2.S.3-21),表明該雜質(zhì)可在粗品制備工藝中通過后處理去除。依據(jù)ICHQ3A,按非特定雜質(zhì)對其進(jìn)行控制,控制限度為不得過0.1%。表3.2.S.3-21中試及工藝驗(yàn)證6批雜質(zhì)4在成品中的檢出情況批號含量中試三批工藝驗(yàn)證三批161201171002190301200314421200318421200323421雜質(zhì)4NDNDNDNDNDND注:成品檢測方法SMB定量限LOQ23ppm;檢測限LOD7ppm;ND:Notdetected,未檢出。2、潛在基因毒性雜質(zhì)說明:分析原料藥與起始物料的結(jié)構(gòu)及制備工藝中是否含有歐盟和ICH發(fā)布的基因毒性雜質(zhì)或其重要組成片段。①雜質(zhì)1該雜質(zhì)為××××起始物料SMA殘留。①中間體質(zhì)量控制:三批工藝驗(yàn)證中間體中檢出為0.1%-0.3%,定入中間體質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行控制,控制限度為不得過0.5%;②成品質(zhì)量研究:根據(jù)ICHM7要求,本品制劑日服用最大劑量為1mg,按TTC為1.5g/天計(jì)算限度為0.15%,中間體中殘留的SMA在后續(xù)步驟中能夠得到去除,三批中試和三批工藝驗(yàn)證成品中未檢出(檢測情況見表3.2.S.3-23)。因此,暫未訂入成品質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)。作為非特定雜質(zhì)單雜不得過0.10%進(jìn)行控制。表3.2.S.3-23工藝驗(yàn)證3批雜質(zhì)1在中間體和成品中的檢出情況批號含量中間體成品161201171002190301200314421200318421200323421雜質(zhì)1(%)0.10.20.3NDNDND注:SMA定量限LOQ40ppm;檢測限LOD10ppm;ND:Notdetected,未檢出。②雜質(zhì)2該雜質(zhì)為××××起始物料SMB殘留。××××工藝中SMA和SMB投料摩爾比為1.05:1,使SMB反應(yīng)完全。根據(jù)ICHM7要求,本品制劑日服用最大劑量為1mg,按TTC為1.5μg/天計(jì)算限度為0.15%,中試及工藝驗(yàn)證六批成品中均未檢出SMB(詳見表3.2.S.3-24),因此,暫未訂入成品質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn),作為非特定雜質(zhì)單雜不得過0.10%進(jìn)行控制。表3.2.S.3-24中試及工藝驗(yàn)證6批雜質(zhì)2在成品中的檢出情況批號含量中試三批成品161201171002190301200314421200318421200323421雜質(zhì)2NDNDNDNDNDND注:成品檢測方法SMB定量限LOQ23ppm;檢測限LOD7ppm;ND:Notdetected,未檢出。3、降解雜質(zhì)說明:對于降解產(chǎn)物可結(jié)合加速穩(wěn)定性和強(qiáng)制降解試驗(yàn)來加以說明,提供對本品的降解途徑與降解產(chǎn)物進(jìn)行系統(tǒng)研究的詳細(xì)的試驗(yàn)資料和充分的文獻(xiàn)資料,明確本品的降解途徑與降解產(chǎn)物。對于最終質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)中是否進(jìn)行控制以及控制的限度,應(yīng)提供依據(jù)。含反應(yīng)機(jī)理及副產(chǎn)物的反應(yīng)方程式該雜質(zhì)有兩條路徑可能產(chǎn)生。一是作為工藝副產(chǎn)物,在粗品精制過程中高溫氧化產(chǎn)生;二是作為降解產(chǎn)物,在××××儲存的過程中氧化產(chǎn)生。首先,作為工藝副產(chǎn)物,該雜質(zhì)是多羥基化合物,很容易和水以氫鍵締合,因而水溶性很大,氮氧上有孤電子對,易與氫質(zhì)子結(jié)合。因此,在精制工藝中通過鹽酸水溶液精制可以得到很好的去除。對三批中試和三批工藝驗(yàn)證樣品進(jìn)行檢測,××××成品中均未檢出雜質(zhì)5(檢測情況見表3.2.S.3-25)。表3.2.S.3-25中試及工藝驗(yàn)證6批雜質(zhì)5在成品中的檢出情況批號含量中試三批工藝驗(yàn)證三批161201171002190301200314421200318421200323421雜質(zhì)5NDNDNDNDNDND注:成品檢測方法雜質(zhì)5定量限LOQ200ppm;檢測限LOD70ppm;ND:Notdetected,未檢出。其次,雜質(zhì)5還是本品種的降解產(chǎn)物,為××××在儲存的過程中氧化產(chǎn)生。對三批工藝驗(yàn)證加速6個月和長期穩(wěn)定性12個月樣品進(jìn)行檢測,××××成品中均未檢出雜質(zhì)5(檢測情況見表3.2.S.3-26)。綜上所述,結(jié)合上述三方面的研究尺度及殘留風(fēng)險評估,擬暫不定入質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn),作為非特定雜質(zhì)單雜不得過0.10%進(jìn)行控制。表3.2.S.3-26工藝驗(yàn)證3批雜質(zhì)5在成品中的檢出情況批號含量加速6個月長期穩(wěn)定性12個月161201171002190301200314421200318421200323421雜質(zhì)5NDNDNDNDNDND注:成品檢測方法雜質(zhì)5定量限LOQ200ppm;檢測限LOD70ppm;ND:Notdetected,未檢出。4、有機(jī)雜質(zhì)在關(guān)鍵批次產(chǎn)品中檢測情況中試及工藝驗(yàn)證6批產(chǎn)品中有機(jī)雜質(zhì)檢測情況,見表3.2.S.3-28。表3.2.S.3-28有機(jī)雜質(zhì)在關(guān)鍵批次產(chǎn)品中檢測情況批號雜質(zhì)名稱中試工藝驗(yàn)證限度161201171002190301200314421200318421200323421雜質(zhì)1(%)NDNDNDNDNDND0.10雜質(zhì)2(%)NDNDNDNDNDND0.10雜質(zhì)3(%)NDNDNDNDNDND0.10雜質(zhì)4(%)NDNDNDNDNDND0.10雜質(zhì)5(%)NDNDNDNDNDND0.10雜質(zhì)6(%)NDNDNDNDNDND0.10最大未知單雜(%)0.060.060.030.040.030.040.10總雜(%)0.090.040.030.10.070.11.0結(jié)論符合規(guī)定符合規(guī)定符合規(guī)定符合規(guī)定符合規(guī)定符合規(guī)定/注:Notdetected,未檢出。本品經(jīng)中試3批及工藝驗(yàn)證3批樣品檢測結(jié)果表明:××××現(xiàn)行生產(chǎn)工藝對有機(jī)雜質(zhì)和潛在基毒雜質(zhì)的清除能力較強(qiáng),產(chǎn)品質(zhì)量得以得到有效控制。3.2.S.3.2.2.2無機(jī)雜質(zhì)分析及控制說明:通過檢測重金屬、熾灼殘?jiān)?、氯化物等,列出無機(jī)雜質(zhì)在關(guān)鍵批次產(chǎn)品中檢測情況XXXXXXXXXXXXXXX3.2.S.3.2.2.3殘留溶劑分析及控制說明:起始物料引入、工藝使用以及反應(yīng)生成的溶劑均有可能殘留到產(chǎn)品中。通過各步中間體的結(jié)晶、烘干以及產(chǎn)品的精制、烘干均可有效的去除殘留溶劑。列出關(guān)鍵批次的溶劑殘留檢測情況。XXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXXX3.2.S.3.3.1已知雜質(zhì)的制備與結(jié)構(gòu)確證3.2.S.3.3.1.1雜質(zhì)A化學(xué)結(jié)構(gòu)式批號含量來源包裝貯藏用途雜質(zhì)A的COA及標(biāo)定報告見附件3.2.R.6-5。3.2.S.3.3.1.2雜質(zhì)B化學(xué)名:XXXXXXXXXX結(jié)構(gòu)式:化學(xué)結(jié)構(gòu)式分子式:分子量:批號:來源:制備日期:(1)合成路線XXXXXXXXXX(2)純度檢測XXXXXXXXXX(3)結(jié)構(gòu)確證XXXXXXXXXX(說明:可參考3.2.S.3.1.1結(jié)構(gòu)確證部分書寫本部分內(nèi)容。)附件附件3.2.R.6-1結(jié)構(gòu)確證委托測試協(xié)議書附件3.2.R.6-2高效液相色譜圖圖X或標(biāo)定報告附件3.2.R.6-3主成分對照品使用說明書附件3.2.R.6-4成品單晶結(jié)構(gòu)報告附件3.2.R.6-5雜質(zhì)A的COA及標(biāo)定報告原料藥:××××(原料藥名稱)M3:3.2.S.3特性鑒定參考文獻(xiàn)RaoTS,ChengZ.Piperidineinhibitors
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