排污單位自行監(jiān)測技術(shù)指南 電子工業(yè)（征求意見稿）

中華人民共和國國家生態(tài)環(huán)境標(biāo)準(zhǔn)

HJ□□□□—202□

排污單位自行監(jiān)測技術(shù)指南

電子工業(yè)

Self-monitoringtechnologyguidelinesforpollutionsources

—Electronicsindustry

（征求意見稿）

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前言

為落實《中華人民共和國環(huán)境保護(hù)法》《中華人民共和國水污染防治法》《中華人民共和國大氣污

染防治法》《中華人民共和國土壤污染防治法》《排污許可管理條例》等法律法規(guī)，指導(dǎo)和規(guī)范電子工

業(yè)排污單位的自行監(jiān)測工作，制定本標(biāo)準(zhǔn)。

本標(biāo)準(zhǔn)提出了電子工業(yè)排污單位自行監(jiān)測的一般要求、監(jiān)測方案制定、信息記錄和報告的基本內(nèi)容

和要求。

本標(biāo)準(zhǔn)為首次發(fā)布。

本標(biāo)準(zhǔn)由生態(tài)環(huán)境部生態(tài)環(huán)境監(jiān)測司、法規(guī)與標(biāo)準(zhǔn)司組織制訂。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位：中國環(huán)境監(jiān)測總站、上海市環(huán)境監(jiān)測中心、上海市集成電路行業(yè)協(xié)會。

本標(biāo)準(zhǔn)生態(tài)環(huán)境部202□年□□月□□日批準(zhǔn)。

本標(biāo)準(zhǔn)自202□年□□月□□日起實施。

本標(biāo)準(zhǔn)由生態(tài)環(huán)境部解釋。

ii

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排污單位自行監(jiān)測技術(shù)指南電子工業(yè)

1適用范圍

本標(biāo)準(zhǔn)提出了電子工業(yè)排污單位自行監(jiān)測的一般要求、監(jiān)測方案制定、信息記錄和報告的基本內(nèi)容

和要求。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于電子工業(yè)排污單位在生產(chǎn)運行階段對其排放的水、氣污染物，噪聲以及對周邊環(huán)境質(zhì)

量影響開展自行監(jiān)測。

電子工業(yè)排污單位中，自備火力發(fā)電機(jī)組（廠）、配套動力鍋爐的自行監(jiān)測要求按照《排污單位自

行監(jiān)測技術(shù)指南火力發(fā)電及鍋爐》（HJ820）執(zhí)行。

2規(guī)范性引用文件

本標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容引用了下列文件或其中的條款。凡是未注明日期的引用文件，其有效版本（包括所有的

修改單）適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

GB36600土壤環(huán)境質(zhì)量建設(shè)用地土壤污染風(fēng)險管控標(biāo)準(zhǔn)（試行）

GB37822揮發(fā)性有機(jī)物無組織排放控制標(biāo)準(zhǔn)

GB39731電子工業(yè)水污染物排放標(biāo)準(zhǔn)

GB/T14848地下水質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)

HJ164地下水環(huán)境監(jiān)測技術(shù)規(guī)范

HJ/T166土壤環(huán)境監(jiān)測技術(shù)規(guī)范

HJ610環(huán)境影響評價技術(shù)導(dǎo)則地下水環(huán)境

HJ819排污單位自行監(jiān)測技術(shù)指南總則

HJ820排污單位自行監(jiān)測技術(shù)指南火力發(fā)電及鍋爐

HJ964環(huán)境影響評價技術(shù)導(dǎo)則土壤環(huán)境（試行）

《固定污染源排污許可分類管理名錄》

《國家危險廢物名錄》

3術(shù)語和定義

GB39731界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

3.1

電子工業(yè)electronicsindustry

從事計算機(jī)、電子器件、電子元件及電子專用材料、其他電子設(shè)備等生產(chǎn)活動的工業(yè)。

3.2

計算機(jī)制造computermanufacturing

計算機(jī)整機(jī)、計算機(jī)零部件、計算機(jī)外圍設(shè)備、工業(yè)控制計算機(jī)及系統(tǒng)、信息安全設(shè)備以及其他計

算機(jī)的制造。

3.3

1

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電子器件制造electronicdevicemanufacturing

電子真空器件、半導(dǎo)體分立器件、集成電路、顯示器件、半導(dǎo)體照明器件、光電子器件以及其他電

子器件的制造。

3.4

電子元件制造electroniccomponentmanufacturing

電阻電容電感元件、電子電路、敏感元件及傳感器、電聲器件及零件以及其他電子元件的制造。

3.5

電子專用材料制造specialelectronicmaterialmanufacturing

用于電子元器件、組件及系統(tǒng)制備的專用電子功能材料、互聯(lián)與封裝材料、工藝與輔助材料的制造。

3.6

其他電子設(shè)備制造otherelectronicterminalmanufacturing

電子（氣）物理設(shè)備以及其他未列明的電子設(shè)備的制造。

3.7

揮發(fā)性有機(jī)物volatileorganiccompounds（VOCs）

參與大氣光化學(xué)反應(yīng)的有機(jī)化合物，或者根據(jù)有關(guān)規(guī)定確定的有機(jī)化合物。

本標(biāo)準(zhǔn)用非甲烷總烴作為揮發(fā)性有機(jī)物排放的綜合控制指標(biāo)。

3.8

非甲烷總烴nonmethanehydrocarbons（NMHC）

采用規(guī)定的監(jiān)測方法，氫火焰離子化檢測器有響應(yīng)的除甲烷外的其他氣態(tài)有機(jī)化合物的總和，以碳

的質(zhì)量濃度計。

3.9

雨水排放口rainwateroutlet

直接或通過溝、渠或者管道等設(shè)施向廠界外專門排放天然降水的排放口。

4自行監(jiān)測的一般要求

排污單位應(yīng)查清本單位的污染源、污染物指標(biāo)及潛在的環(huán)境影響，制定監(jiān)測方案，設(shè)置和維護(hù)監(jiān)測

設(shè)施，按照監(jiān)測方案開展自行監(jiān)測，做好質(zhì)量保證和質(zhì)量控制，記錄和保存監(jiān)測信息，依法向社會公開

監(jiān)測結(jié)果。

5監(jiān)測方案制定

5.1廢水排放監(jiān)測

排污單位廢水排放監(jiān)測點位、監(jiān)測指標(biāo)及最低監(jiān)測頻次按照表1執(zhí)行。

表1廢水排放監(jiān)測點位、監(jiān)測指標(biāo)及最低監(jiān)測頻次

監(jiān)測頻次

重點排污單位非重點排污單位

行業(yè)類別監(jiān)測點位監(jiān)測指標(biāo)

直接間接直接間接

排放排放排放排放

2

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監(jiān)測頻次

重點排污單位非重點排污單位

行業(yè)類別監(jiān)測點位監(jiān)測指標(biāo)

直接間接直接間接

排放排放排放排放

車間或生產(chǎn)設(shè)施廢流量、總鉛、總鎘、總鉻、六價鉻、總鎳、總

日日月年

水排放口a銀、總砷

計算機(jī)制

自動自動

造排污單流量、pH值、化學(xué)需氧量、氨氮季度年

監(jiān)測監(jiān)測

位、其他生產(chǎn)廢水總排放口

懸浮物、石油類、總有機(jī)碳、總氮、總磷、陰

電子設(shè)備月月季度年

離子表面活性劑、總氰化物、總銅b、總鋅b

制造排污

流量、pH值、懸浮物、五日生化需氧量、化

單位生活污水排放口季度—季度—

學(xué)需氧量、氨氮、總磷、總氮

雨水排放口pH值、氨氮、化學(xué)需氧量、懸浮物月c

車間或生產(chǎn)設(shè)施廢流量、總鉛、總鎘、總鉻、六價鉻、總鎳、總

日日月年

水排放口a銀、總砷

自動自動

流量、pH值、化學(xué)需氧量、氨氮季度年

監(jiān)測監(jiān)測

電子器件

生產(chǎn)廢水總排放口懸浮物、石油類、總有機(jī)碳、總氮、總磷、陰

制造排污

離子表面活性劑、總氰化物、硫化物、氟化物、月月季度年

單位

總銅、總鋅

流量、pH值、懸浮物、五日生化需氧量、化

生活污水排放口季度—季度—

學(xué)需氧量、氨氮、總磷、總氮

雨水排放口pH值、氨氮、化學(xué)需氧量、懸浮物月c

車間或生產(chǎn)設(shè)施廢流量、總鉛、總鎘、總鉻、六價鉻、總鎳、總

日日月年

水排放口a銀、總砷

自動自動

流量、pH值、化學(xué)需氧量、氨氮季度年

監(jiān)測監(jiān)測

電子元件

生產(chǎn)廢水總排放口懸浮物、石油類、總有機(jī)碳、總氮、總磷、陰

制造排污

離子表面活性劑、總氰化物、硫化物、氟化物、月月季度年

單位

總銅、總鋅

流量、pH值、懸浮物、五日生化需氧量、化

生活污水排放口季度—季度—

學(xué)需氧量、氨氮、總磷、總氮

雨水排放口pH值、氨氮、化學(xué)需氧量、懸浮物月c

車間或生產(chǎn)設(shè)施廢流量、總鉛、總鎘、總鉻、六價鉻、總鎳、總

日日月年

水排放口a銀、總砷

自動自動

流量、pH值、化學(xué)需氧量、氨氮季度年

電子專用監(jiān)測監(jiān)測

材料制造生產(chǎn)廢水總排放口懸浮物、石油類、總有機(jī)碳、總氮、總磷、陰

排污單位離子表面活性劑、總氰化物、氟化物、總銅、月月季度年

總鋅

流量、pH值、懸浮物、五日生化需氧量、化

生活污水排放口季度—季度—

學(xué)需氧量、氨氮、總磷、總氮

3

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監(jiān)測頻次

重點排污單位非重點排污單位

行業(yè)類別監(jiān)測點位監(jiān)測指標(biāo)

直接間接直接間接

排放排放排放排放

雨水排放口pH值、氨氮、化學(xué)需氧量、懸浮物月c

注：設(shè)區(qū)的市級及以上生態(tài)環(huán)境主管部門明確要求安裝自動監(jiān)測設(shè)備的污染物指標(biāo)，應(yīng)采取自動監(jiān)測。

a根據(jù)排污許可證、環(huán)境影響評價文件及批復(fù)等確定監(jiān)測指標(biāo)。

b適用于有電鍍、化學(xué)鍍工藝的計算機(jī)制造排污單位和其他電子設(shè)備制造排污單位。

c雨水排放口有流動水排放時按月監(jiān)測。若監(jiān)測一年無異常情況，可放寬至每季度開展一次監(jiān)測。

5.2廢氣排放監(jiān)測

5.2.1有組織廢氣排放監(jiān)測

5.2.1.1對于多個污染源或生產(chǎn)設(shè)備共用一個排氣筒的，監(jiān)測點位可布設(shè)在共用排氣筒上。當(dāng)執(zhí)行不

同排放控制要求的廢氣合并排氣筒排放時，應(yīng)在廢氣混合前進(jìn)行監(jiān)測；若監(jiān)測點位只能布設(shè)在混合后的

排氣筒上，監(jiān)測指標(biāo)應(yīng)涵蓋所對應(yīng)污染源或生產(chǎn)設(shè)備的監(jiān)測指標(biāo)，最低監(jiān)測頻次按照嚴(yán)格的執(zhí)行。

5.2.1.2排污單位各產(chǎn)污環(huán)節(jié)有組織廢氣排放監(jiān)測點位、監(jiān)測指標(biāo)及最低監(jiān)測頻次按照表2執(zhí)行。

表2有組織廢氣排放監(jiān)測點位、監(jiān)測指標(biāo)及最低監(jiān)測頻次

監(jiān)測頻次

行業(yè)類別監(jiān)測點位監(jiān)測指標(biāo)重點非重點

排污單位排污單位

半年

揮發(fā)性有機(jī)物a

（自動監(jiān)測b）

有機(jī)廢氣排放口年

計算機(jī)制造、其他電子設(shè)備制造排半年

苯、甲苯、二甲苯

污單位（季度c）

顆粒物、鉛及其化合物d、

含塵廢氣排放口半年年

錫及其化合物d

電子真空器件制造有機(jī)廢氣排放口揮發(fā)性有機(jī)物a半年年

電子

半導(dǎo)體分立器件制造、集氮氧化物、氟化物、氯化

器件酸性廢氣排放口半年年

成電路制造、顯示器件制氫、硫酸霧

制造

造、半導(dǎo)體照明器件制有機(jī)廢氣處理系半年

排污揮發(fā)性有機(jī)物a年

造、光電子器件制造、其統(tǒng)排放口（自動監(jiān)測e）

單位

他電子器件制造堿性廢氣排放口氨半年年

電阻電容電感元件制造、顆粒物、鉛及其化合物d、

含塵廢氣排放口半年年

電子敏感元件及傳感器制造、錫及其化合物d

元件電聲器件及零件制造、其

有機(jī)廢氣排放口揮發(fā)性有機(jī)物a、甲苯半年年

制造他電子元件制造

排污顆粒物、鉛及其化合物f、

含塵廢氣排放口半年年

單位電子電路制造錫及其化合物f

酸性廢氣排放口氮氧化物、甲醛、氯化氫、半年年

4

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硫酸霧、氰化氫

有機(jī)廢氣排放口揮發(fā)性有機(jī)物a、苯半年年

堿性廢氣排放口氨半年年

電子電子功能材料酸性廢氣排放口氮氧化物半年年

專用酸性廢氣排放口氮氧化物半年年

互聯(lián)與封裝材料

材料有機(jī)廢氣排放口揮發(fā)性有機(jī)物a半年年

制造顆粒物、鉛及其化合物g、

含塵廢氣排放口半年年

排污工藝與輔助材料錫及其化合物g

單位有機(jī)廢氣排放口揮發(fā)性有機(jī)物a半年年

半年

揮發(fā)性有機(jī)物a年

揮發(fā)性有機(jī)物燃（自動監(jiān)測c）

涉及揮發(fā)性有機(jī)物燃燒（焚燒、氧

燒（焚燒、氧化）顆粒物、二氧化硫、氮氧

化）處理的電子工業(yè)排污單位半年年

裝置排氣筒化物

二噁英類h年

注1：廢氣監(jiān)測應(yīng)按照相應(yīng)分析方法、技術(shù)規(guī)范同步監(jiān)測煙氣參數(shù)。

注2：設(shè)區(qū)的市級及以上生態(tài)環(huán)境主管部門明確要求安裝自動監(jiān)測設(shè)備的污染物指標(biāo)，應(yīng)采取自動監(jiān)測。

a揮發(fā)性有機(jī)物以非甲烷總烴作為表征物質(zhì)，或按照所執(zhí)行的排放標(biāo)準(zhǔn)確定表征物質(zhì)。

b適用于納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點管理排污單位的噴漆生產(chǎn)線有機(jī)廢氣排放口。

c適用于納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點管理排污單位的有機(jī)廢氣主要排放口。

d適用于有焊接工序的電子工業(yè)排污單位。

e適用于納入《固定污染源排污許可分類管理名錄》重點管理的集成電路制造和顯示器件制造排污單位的有機(jī)廢氣

排放口。

f適用于有鍍錫工序的電子工業(yè)排污單位。

g適用于有錫料調(diào)配工序的電子工業(yè)排污單位。

h適用于燃燒含氯有機(jī)廢氣的電子工業(yè)排污單位。

5.2.2無組織廢氣排放監(jiān)測

排污單位無組織廢氣排放監(jiān)測點位設(shè)置應(yīng)遵循GB37822和HJ819中的原則，其排放監(jiān)測點位、監(jiān)

測指標(biāo)及最低監(jiān)測頻次按照表3執(zhí)行。

表3無組織廢氣排放監(jiān)測點位、監(jiān)測指標(biāo)及最低監(jiān)測頻次

監(jiān)測點位監(jiān)測指標(biāo)監(jiān)測頻次

廠界揮發(fā)性有機(jī)物a、苯、甲醛、鉛及其化合物年

注1：應(yīng)同步監(jiān)測氣象參數(shù)。

a揮發(fā)性有機(jī)物以非甲烷總烴作為表征物質(zhì)，或按照所執(zhí)行的排放標(biāo)準(zhǔn)確定表征物質(zhì)。

5.3廠界環(huán)境噪聲監(jiān)測

廠界環(huán)境噪聲監(jiān)測點位設(shè)置應(yīng)遵循HJ819中的原則，主要考慮噴漆設(shè)備、塑封壓機(jī)、機(jī)床、混合

機(jī)、成型機(jī)、剪板機(jī)、鉆孔機(jī)、粉碎機(jī)、磨砂機(jī)等主要噪聲源在廠區(qū)內(nèi)的分布情況。

廠界環(huán)境噪聲每季度至少開展一次晝、夜間噪聲監(jiān)測，監(jiān)測指標(biāo)為等效連續(xù)A聲級，夜間有頻發(fā)、

偶發(fā)噪聲影響時同時測量頻發(fā)、偶發(fā)最大聲級。夜間不生產(chǎn)的可不開展夜間噪聲監(jiān)測，周邊有敏感點的，

5

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應(yīng)提高監(jiān)測頻次。

5.4周邊環(huán)境質(zhì)量影響監(jiān)測

5.4.1法律法規(guī)等有明確要求的，按要求開展環(huán)境質(zhì)量監(jiān)測。

5.4.2無明確要求的，若排污單位認(rèn)為有必要的，可根據(jù)實際情況參照表4對周邊土壤和地下水開展

監(jiān)測，監(jiān)測點位可按照HJ964、HJ/T166、HJ610和HJ164中的相關(guān)規(guī)定設(shè)置。

表4周邊環(huán)境質(zhì)量影響監(jiān)測指標(biāo)及最低監(jiān)測頻次

目標(biāo)環(huán)境監(jiān)測指標(biāo)監(jiān)測頻次

土壤砷、鎘、鉻（六價）、銅、鉛、鎳年

地下水pH值、銅、鋅、硫化物、氰化物、氟化物、砷、鎘、鉻（六價）、鉛年

注：根據(jù)企業(yè)使用的原輔用料、生產(chǎn)工藝過程、生產(chǎn)的產(chǎn)品和副產(chǎn)品，結(jié)合GB36600和GB/T14848，篩選確定具體監(jiān)

測指標(biāo)。

5.5其他要求

5.5.1除表1~表3中的污染物指標(biāo)外，5.5.1.1和5.5.1.2中的污染物指標(biāo)也應(yīng)納入監(jiān)測指標(biāo)范圍，并參

照表1~表3和HJ819確定監(jiān)測頻次。

5.5.1.1排污許可證、所執(zhí)行的污染物排放（控制）標(biāo)準(zhǔn)、環(huán)境影響評價文件及其批復(fù)〔僅限2015年1

月1日（含）后取得環(huán)境影響評價批復(fù)的排污單位〕、相關(guān)生態(tài)環(huán)境管理規(guī)定明確要求的污染物指標(biāo)。

5.5.1.2排污單位根據(jù)生產(chǎn)過程的原輔用料、生產(chǎn)工藝、中間及最終產(chǎn)品類型、監(jiān)測結(jié)果確定實際排

放的，在相關(guān)有毒有害或優(yōu)先控制污染物名錄中的污染物指標(biāo)，或其他有毒污染物指標(biāo)。

5.5.2各指標(biāo)的監(jiān)測頻次在滿足本標(biāo)準(zhǔn)的基礎(chǔ)上，可根據(jù)HJ819中的確定原則提高監(jiān)測頻次。

5.5.3采樣方法、監(jiān)測分析方法、監(jiān)測質(zhì)量保證與質(zhì)量控制等按照HJ819執(zhí)行。

5.5.4監(jiān)測方案的描述、變更按照HJ819執(zhí)行。

6信息記錄和報告

6.1信息記錄

6.1.1監(jiān)測信息記錄

手工監(jiān)測記錄和自動監(jiān)測運維記錄按照HJ819執(zhí)行。

6.1.2生產(chǎn)和污染治理設(shè)施運行狀況信息記錄

排污單位應(yīng)詳細(xì)記錄生產(chǎn)及污染治理設(shè)施運行狀況，日常生產(chǎn)中也應(yīng)參照以下內(nèi)容記錄相關(guān)信息，

并整理成臺賬保存?zhèn)洳椤?/p>

6.1.2.1生產(chǎn)運行狀況記錄

按照工藝生產(chǎn)單元和生產(chǎn)流水線分類，根據(jù)各排污單位具體情況，選擇記錄以下相關(guān)信息：

a）原輔料用量，主要包括原料用量、各類涂料用量、各類溶劑用量、吸附劑用量、其他輔料用量

等；

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b）產(chǎn)品產(chǎn)量，按生產(chǎn)單元記錄各工序產(chǎn)品產(chǎn)量及其他關(guān)鍵指標(biāo)；

c）新鮮用水取水量、用水量、用電量、燃料用量等；

d）主要生產(chǎn)設(shè)備、設(shè)施的操作使用記錄等。

6.1.2.2廢水污染治理設(shè)施運行狀況記錄

按班次記錄污水處理量、回水用量、回用率、污水排放量、污泥產(chǎn)生量、污水處理使用的藥劑名稱

及用量、鼓風(fēng)機(jī)電量等，記錄污水處理設(shè)施運行、故障及維護(hù)情況等。

6.1.2.3廢氣污染治理設(shè)施運行狀況記錄

按更換批次記錄廢氣處理使用的吸附劑、過濾材料等耗材的名稱及用量，記錄廢氣處理設(shè)施運行參

數(shù)、故障及維護(hù)情況等。

6.1.3一般工業(yè)固體廢物和危險廢物記錄

按批次記錄一般工業(yè)固體廢物和危險廢物產(chǎn)生、貯存、轉(zhuǎn)移、利用和處置情況，一般工業(yè)固體廢物

及危險廢物產(chǎn)生情況見表5。

表5一般工業(yè)固體廢物及危險廢物產(chǎn)生情況

類別廢物種類

一般工業(yè)固體廢物廢邊角料、有機(jī)污泥等

鋰電池隔膜生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的廢白油；使用顯影劑、氫氧化物、偏亞硫酸氫鹽、醋酸進(jìn)行膠

卷顯影產(chǎn)生的廢顯（定）影劑、膠片和廢相紙；使用鉻酸進(jìn)行鉆孔除膠處理產(chǎn)生的廢渣和廢

水處理污泥；線路板生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的廢蝕銅液；使用酸進(jìn)行銅氧化處理產(chǎn)生的廢液和廢水

危險廢物處理污泥；銅板蝕刻過程中產(chǎn)生的廢蝕刻液和廢水處理污泥；線路板制造過程中電鍍鉛錫合

金產(chǎn)生的廢液；使用酸進(jìn)行電解除油、酸蝕、活化前表面敏化、催化、浸亮產(chǎn)生的廢酸液；

使用硝酸進(jìn)行鉆孔蝕膠處理產(chǎn)生的廢酸液；液晶顯示板或集成電路板的生產(chǎn)過程中使用酸浸

蝕劑進(jìn)行氧化物浸蝕產(chǎn)生的廢酸液等

注1：根據(jù)排污單位工藝產(chǎn)污情況，確定具體的種類指標(biāo)。

注2：其他可能產(chǎn)生的危險廢物按照《國家危險廢物名錄》或國家規(guī)定的危險廢物鑒別標(biāo)準(zhǔn)和鑒別方法認(rèn)定。

6.2信息報告、應(yīng)急報告和信息公開

按照HJ819執(zhí)行。

7其他

排污單位應(yīng)如實記錄手工監(jiān)測期間的工況（包括生產(chǎn)負(fù)荷、污染治理設(shè)施運行情況等），確保監(jiān)測

數(shù)據(jù)具有代表性。

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的內(nèi)容外，按照HJ819執(zhí)行。

7

HJ□□□□－202□

目次

前言.............................................................................................................................................ii

1適用范圍....................................................................................................................................1

2規(guī)范性引用文件........................................................................................................................1

3術(shù)語和定義................................................................................................................................1

4自行監(jiān)測的一般要求................................................................................................................2

5監(jiān)測方案制定............................................................................................................................2

6信息記錄和報告........................................................................................................................6

7其他............................................................................................................................................7

i

HJ1293—2023

附錄C

（資料性附錄）

農(nóng)藥制造工業(yè)主要廢水污染特征

表C.1農(nóng)藥制造工業(yè)主要廢水污染特征

主要污染指標(biāo)及產(chǎn)生濃度/（mg/L）

產(chǎn)品類別廢水名稱涉及到的污染物

CODCr氨氮磷酸鹽（以P計）特征污染物

有機(jī)磷類農(nóng)工藝廢水10000～20000050～10000500～20000有機(jī)磷農(nóng)藥：10～800，全鹽量1%～10%原藥活性成分、AOX、甲醛、溶劑、硫化

藥原藥綜合廢水500～300050～50020～150有機(jī)磷農(nóng)藥：1～10，全鹽量0.5%～2%物、總氰化物、揮發(fā)酚、甲苯、三氯乙醛

氰化物：50～10000，全鹽量1%～10%，莠去

原藥活性成分、氟化物、總氰化物、AOX、

工藝廢水20000～100000200～20000/津：～，氟蟲腈：～，苯胺類：～

13660.19510甲醛、苯胺類、氯苯類、甲苯、溶劑吡啶、

雜環(huán)類農(nóng)藥1000

2,2’:6’,2’’-三聯(lián)吡啶、2-氯-5-氯甲基吡啶、

原藥氰化物：10～10000，全鹽量0.5%～10%，莠

揮發(fā)酚、硝基苯類、硫化物、莠去津、氟

綜合廢水2000～10000100～300/去津：0.5～1.0，氟蟲腈：0.02～0.03，苯胺類：

蟲腈

1.0～100

酰胺類農(nóng)藥工藝廢水5000～300002000～20000500～8000苯胺類：50～200原藥活性成分、甲醛、苯胺類、總磷、溶

原藥綜合廢水1000～400080～2005～20苯胺類：5～20劑

10000～

有機(jī)硫類農(nóng)工藝廢水10000～20000/氰化物：100～1000原藥活性成分、總錳、總鋅、乙撐硫脲、

30000

藥原藥溶劑、總氰化物、AOX、硝基苯類

綜合廢水2000～5000100～300/氰化物：3～5

有機(jī)氯類農(nóng)工藝廢水8000～15000///原藥活性成分、AOX、總氰化物、二甲苯、

藥原藥綜合廢水500～2000///溶劑

苯氧羧酸類工藝廢水15000～30000//揮發(fā)酚：200～5000

原藥活性成分、揮發(fā)酚、AOX、溶劑

農(nóng)藥原藥綜合廢水1000～5000//揮發(fā)酚：5～50

氨基甲酸酯工藝廢水5000～20000200～1000/全鹽量：1%～10%

原藥活性成分、硫化物、溶劑、揮發(fā)酚

類農(nóng)藥原藥綜合廢水500～200050～150/全鹽量：0.5%～2%