上頜竇底壁分腭的起源和分布

上頜竇底壁分腭的起源和分布

上肢關(guān)節(jié)底壁的特征是上肢關(guān)節(jié)底壁的皮質(zhì)骨突。這一結(jié)構(gòu)首先由科學(xué)家奧克爾描述。這種結(jié)構(gòu)類似于傾斜的雙重弓，存在于上溝關(guān)節(jié)的底壁上，并將上溝關(guān)節(jié)的底壁分為兩個(gè)或多個(gè)關(guān)節(jié)腔。近年來不同的學(xué)者用不同的方式對(duì)該結(jié)構(gòu)進(jìn)行了研究,他們有的通過直接觀察,如觀察關(guān)顱標(biāo)本或在上頜竇開窗術(shù)中直接描述;有的通過放射學(xué)檢查,如口腔全景片或CT間接研究。目前由于螺旋CT加三維重建技術(shù)的發(fā)展,很多學(xué)者應(yīng)用CT對(duì)這一結(jié)構(gòu)進(jìn)行了準(zhǔn)確詳細(xì)的研究[2~4],包括上頜竇分嵴的發(fā)生率、位置、高度等。鑒于該解剖結(jié)構(gòu)在種植牙的上頜竇提升術(shù)中有重要意義,很多學(xué)者報(bào)告了由于上頜竇分嵴的存在增加了上頜竇粘膜穿孔的風(fēng)險(xiǎn)[5~7],手術(shù)方案應(yīng)充分考慮到這一解剖結(jié)構(gòu)的影響,因此本文就上頜竇底壁的分嵴起源,分類以及研究方法、情況和意義進(jìn)行綜述。1下頜竇分哌的發(fā)生及發(fā)展學(xué)者Underwood首先在1910年發(fā)現(xiàn)并描述了上頜竇底壁的分嵴,他認(rèn)為該分嵴的形成跟牙齒的發(fā)生和萌出有關(guān)。上頜竇底壁經(jīng)常形成三個(gè)不同的竇腔,前面一個(gè)小的竇腔位于上前磨牙區(qū);相鄰的中間一個(gè)竇腔比較大,位于上第一第二磨牙區(qū);相鄰的后面一個(gè)較小的竇腔位于第三磨牙區(qū)。這三個(gè)竇腔經(jīng)常被骨嵴包繞,竇腔與竇腔之間可以形成獨(dú)立的分嵴,并且與牙齒的發(fā)生和萌出的三個(gè)特殊階段有關(guān),在八個(gè)月到二歲的期間,由于乳磨牙的萌出形成了前面的竇腔;在五歲到十二歲期間,由于第一第二磨牙得萌出形成了中間的竇腔;在十六歲到三十歲期間,由于第三磨牙的萌出形成了后面的竇腔。竇腔以及分嵴的形成是由于隨著牙齒萌出,位于牙根之間的上頜竇骨質(zhì)緩慢下沉,形成竇腔;而不同牙齒之間由于不同時(shí)間萌出,位于其相鄰之間的骨質(zhì)部分就形成了上頜竇分嵴。Underwood闡述了上頜竇分嵴可能的發(fā)生以及來源,根據(jù)他的理論,上頜竇分嵴的位置跟牙齒的萌出位置相關(guān),但不能解釋其他位置以及類型的分嵴。1999年Krennmair等提出把上頜竇分嵴分成原發(fā)性分嵴和繼發(fā)性分嵴,原發(fā)性分嵴根據(jù)Underwood的理論已經(jīng)闡述,而繼發(fā)性分嵴則由于部分上后牙的缺失,隨之上頜竇發(fā)生不規(guī)則氣化,之后在上頜竇底壁形成了繼發(fā)性分嵴。也有其他的學(xué)者,他們把沒有缺失上后牙的上頜竇分嵴稱為原發(fā)性分嵴;但是當(dāng)缺失部分或全部上后牙后,就稱為繼發(fā)性分嵴、或這兩種分嵴的混合型。2下頜竇底壁的ct檢測和定位1910年Underwood首先研究了上頜竇底壁的分嵴這一解剖結(jié)構(gòu),他通過45個(gè)頭顱標(biāo)本,在上頜竇平面剖開后直接觀察上頜竇底壁。隨著種植牙技術(shù)的發(fā)展,上頜竇提升術(shù)也成為一種研究上頜竇底壁分嵴的方法,1995年UIm等通過41例上頜竇提升術(shù)中觀察上頜竇底壁分嵴的發(fā)生率,并提出相應(yīng)的處理意見。放射學(xué)技術(shù)作為一種無創(chuàng)快速準(zhǔn)確的檢查方法,也被許多學(xué)者用來研究上頜竇底壁的分嵴,Shibli等研究了1024例無牙頜患者的全景片,報(bào)告了上頜竇底壁分嵴的發(fā)生率。Lugmayr等研究了100例成人患者上頜竇的CT影像,分析了上頜竇底壁分嵴的形態(tài)和發(fā)生率。隨著研究方法的深入,有學(xué)者通過綜合應(yīng)用各種研究方法來分析上頜竇底壁分嵴這一解剖結(jié)構(gòu)。Krennmair等通過265例患者分析了上頜竇底壁分嵴的發(fā)生率,65例通過上頜竇提升術(shù)中觀察,200例通過CT檢查。Kasabah等綜合應(yīng)用全景片和CT影像分析來觀察上頜竇底壁分嵴情況,也得出了全景片有較大的誤診率,在44.1%左右。最近由于CT和三維重建技術(shù)以及相應(yīng)軟件的發(fā)展,很多學(xué)者傾向于CT來對(duì)這結(jié)構(gòu)作準(zhǔn)確詳細(xì)的研究,Velasquez-Plata等應(yīng)用SIM/Plant軟件系統(tǒng)分析了312例上頜竇的CT影像,精確的得出了有關(guān)上頜竇底壁分嵴的位置,高度等。同樣Kim等也運(yùn)用類似的軟件系統(tǒng)分析了200例上頜竇的CT影像。3關(guān)于上頜骨分類的研究3.1下頜竇的發(fā)生率關(guān)于上頜竇分嵴發(fā)生率的研究情況,有的學(xué)者以患者為研究對(duì)象進(jìn)行統(tǒng)計(jì),有的學(xué)者以上頜竇為研究對(duì)象進(jìn)行統(tǒng)計(jì),由于研究方法的不同,數(shù)據(jù)的差異也較大。1910年Underwood以患者為研究對(duì)象,得出上頜竇分嵴的發(fā)生率為66.7%;以上頜竇為研究對(duì)象,得出上頜竇分嵴的發(fā)生率為33.3%。同樣2002年Velasquez-Plata等得出的發(fā)生率分別為32.7%和24%;2006年Kim等得出的發(fā)生率分別為38%和26.5%;2007年Gonzalez-Santana等得出的發(fā)生率分別為36.7%和25%。但是以上頜竇為研究對(duì)象進(jìn)行上頜竇分嵴的發(fā)生率統(tǒng)計(jì)的學(xué)者較多,UIm等統(tǒng)計(jì)得出的結(jié)論為31.7%;Lugmayr等統(tǒng)計(jì)得出的結(jié)論為13%;Krennmair統(tǒng)計(jì)得出的結(jié)論為26.3%,Kasabah等統(tǒng)計(jì)得出的結(jié)論為35.3%;總之,以患者為研究對(duì)象進(jìn)行統(tǒng)計(jì)的數(shù)值變化在21.6%到66.7%之間,以上頜竇為研究對(duì)象進(jìn)行統(tǒng)計(jì)的數(shù)值變化在13%到35.3%之間。而且有學(xué)者研究后認(rèn)為上頜竇分嵴的發(fā)生率跟患者的性別和年齡無關(guān),但是跟有無缺失上后牙存在關(guān)系。有學(xué)者統(tǒng)計(jì)了完全缺失上后牙跟部分缺失上后牙的上頜竇分嵴的發(fā)生率,發(fā)現(xiàn)完全缺失上后牙的上頜竇分嵴的發(fā)生率高于部分缺失上后牙的,并且差別存在統(tǒng)計(jì)學(xué)意義。根據(jù)學(xué)者Kim等的觀點(diǎn),這是因?yàn)橥耆笔虾笱篮?該區(qū)域的上頜竇可能形成了繼發(fā)性分嵴。3.2下頜竇底壁的分布上頜竇分嵴位于上頜竇底壁的位置比較復(fù)雜,難以描述。首先不同學(xué)者對(duì)上頜竇底壁有不同的分區(qū)方法,分區(qū)描述不同導(dǎo)致上頜竇分嵴的位置的描述也不盡相同。Underwood根據(jù)牙齒萌出的三個(gè)不同階段把上頜竇分嵴的位置分為三個(gè)區(qū)域:前部為第二前磨牙和第一磨牙牙根相應(yīng)的上頜竇底壁區(qū)域;中部為第一和第二磨牙牙根相應(yīng)的上頜竇底壁區(qū)域;后部為第三磨牙牙根遠(yuǎn)中相應(yīng)的上頜竇底壁區(qū)域,根據(jù)研究他發(fā)現(xiàn)最常見的上頜竇分嵴的位置位于后部。Krennmair等學(xué)者把上頜竇底壁分成另外三個(gè)區(qū)域:前部為前磨牙牙根所在區(qū)域,中部為第一磨牙牙根所在區(qū)域,后部在第二磨牙牙根所在區(qū)域,根據(jù)他們的研究,他們認(rèn)為常見的上頜竇分嵴的位置位于前部多見。Velasquez-Plata等學(xué)者的分法為:前部為包括第二前磨牙牙根的近中和遠(yuǎn)中之間所在上頜竇底壁的區(qū)域;中部包括第二前磨牙遠(yuǎn)中和第二磨牙牙根之間所在上頜竇底壁的區(qū)域;后部包括第二磨牙牙根遠(yuǎn)中所在上頜竇底壁的區(qū)域,根據(jù)他們的研究認(rèn)為上頜竇分嵴的位置多見位于中部。Gonzalez-Santana等學(xué)者通過劃分兩條直線上頜竇底壁前后之間的距離平分成三等份,因此得到三個(gè)區(qū)域,分別為前部、中部和后部,根據(jù)他們的研究上頜竇分嵴的位置多見位于中部。3.3下頜竇分蝽的平均高度UIm等在1995年提出上頜竇分嵴的高度大于2.5mm才認(rèn)為存在分嵴,該原則目前被大多數(shù)學(xué)者所認(rèn)同。學(xué)者Underwood在1910年報(bào)告測得上頜竇分嵴的平均高度在6.4~12.7mm之間。Gonzalez-Santana等學(xué)者報(bào)告測得上頜竇分嵴的平均高度在2.5~6mm之間。目前多數(shù)學(xué)者認(rèn)為該分嵴為上頜竇底壁皮質(zhì)骨突起,為一三維形態(tài),因此須在該分嵴的內(nèi)側(cè)、正中以及外側(cè)予以分別測量。Velasquez-Plata等學(xué)者測得該分嵴外側(cè)的平均高度為3.5mm,正中的平均高度為5.9mm,內(nèi)側(cè)的平均高度為7.6mm;Kim等學(xué)者測得該分嵴外側(cè)的平均高度為1.6mm,正中的平均高度為3.5mm,內(nèi)側(cè)的平均高度為5.5mm。而且目前有學(xué)者認(rèn)為完全缺失上后牙的上頜竇分嵴的高度高于部分缺失上后牙的,并且差別存在統(tǒng)計(jì)學(xué)意義。但是對(duì)于原發(fā)性分嵴和繼發(fā)性分嵴的高度,不同的學(xué)者存在分歧。Kim等學(xué)者認(rèn)為原發(fā)性的上頜竇分嵴高于繼發(fā)性分嵴;Velasquez-Plata等學(xué)者認(rèn)為繼發(fā)性上頜竇分嵴高于原發(fā)性分嵴。4下頜竇側(cè)壁東南角的解剖結(jié)構(gòu)上頜竇分嵴在上頜竇形態(tài)以及解剖結(jié)構(gòu)的研究中需引起注意,隨著種植牙技術(shù)和上頜竇提升術(shù)的開展,該解剖位置在術(shù)前設(shè)計(jì)以及術(shù)中實(shí)施均有重要意義。由于該解剖位置的存在,使上頜竇側(cè)壁開窗的位置以及施耐德氏膜提升均變得復(fù)雜,易造成膜穿孔和置入材料的