等離子發(fā)光分析終點檢測儀EV-140C

等離子發(fā)光分析終點檢測儀概要這是一套分析放射性發(fā)光的終點監(jiān)測設(shè)備，專為以等離子技術(shù)為基礎(chǔ)的半導(dǎo)體薄膜制程進(jìn)行終點檢定或等離子條件的監(jiān)控而研制。最新的數(shù)學(xué)模型技術(shù)賦予它通過捕獲微弱信號的變化進(jìn)行終點檢定的能力。在放射性發(fā)光中捕獲微弱變化的能力顯著地提高了靈敏度。對于抗干擾性的改善確保了本設(shè)備在復(fù)雜環(huán)境下持續(xù)不停的生產(chǎn)線上獲得高穩(wěn)定的運行。特征布賴特光柵布賴特光學(xué)系統(tǒng)是通過 制造的一個巨大的，直徑為的偏差糾正凹面光柵而實現(xiàn)的。凹面光柵本身的聚光能力使其具有比短焦距車爾尼特納型光譜儀更為明亮的一套簡易光學(xué)系統(tǒng)架構(gòu)，并且可以最小化因為鏡面及其他反射面造成的反射損失。背光式CCD傳感器可以提供高靈敏度和高分辨度的2048個光學(xué)通道。背光式可以達(dá)到高量子效率，確保從紫外光到可見光之間的寬波段范圍內(nèi)獲得穩(wěn)定的分光鏡使用。高靈敏度的測量在紫外光波段，特別是在那些較少受到干擾影響的波長范圍，使終點監(jiān)測成為可能。專為先進(jìn)制程控制而準(zhǔn)備的Sigma-P軟件應(yīng)制程控制的要求，此軟件可以執(zhí)行多種工序，從等離子體現(xiàn)象分析到測量數(shù)據(jù)的數(shù)據(jù)庫創(chuàng)建和生產(chǎn)設(shè)備的遠(yuǎn)程遙控。測量工序的可編程架構(gòu)設(shè)計使其可以對多重監(jiān)測和時序處理進(jìn)行設(shè)定。它賦予檢測器不僅可以被用于終點監(jiān)測，同時也可以被廣泛的用于等離子體環(huán)境下的監(jiān)測。這是一種對于等離子體異常情況進(jìn)行報警的先進(jìn)設(shè)計，也可以通過利用2種波長之間的變換系數(shù)來指導(dǎo)終點測量。全回收功能一旦收集到光譜學(xué)的數(shù)據(jù)后，對制程優(yōu)化或者終點監(jiān)測的模擬可以通過應(yīng)用新的制程設(shè)計反復(fù)進(jìn)行。一個用于識別等離子中發(fā)光類別的數(shù)據(jù)庫已經(jīng)包含在內(nèi)光譜學(xué)數(shù)據(jù)可以轉(zhuǎn)換成一個時距記錄曲線圖，或者可以通過屏幕格式，把操作波形，比對參考數(shù)據(jù)獲得的相對計算波形和其他信息顯示出來。專為時間記錄圖分析而準(zhǔn)備的自動圖形軟件從巨大并伴隨干擾的光譜數(shù)據(jù)中發(fā)現(xiàn)細(xì)微的圖形差異是一個艱巨的挑戰(zhàn)。自動圖形軟件將自動地找到圖形變化的特征并測定最為合適的終點波長。強大的終點數(shù)學(xué)模型。通過使用客戶指定波長范圍的計算波形和過濾系統(tǒng)，終點可以被準(zhǔn)確的發(fā)現(xiàn)。在接近2個指定區(qū)域的2條直線的交叉點，最新發(fā)展的數(shù)學(xué)模型賦予機臺穩(wěn)定的監(jiān)測細(xì)微變化的性能。此功能確保各點的變化準(zhǔn)確地從干擾中被區(qū)分出來，正如終點在微小開放區(qū)域內(nèi)的細(xì)微信號變化，都能被準(zhǔn)確的監(jiān)測。超出微小開放區(qū)域（＜0.2%）的蝕刻監(jiān)測。當(dāng)頻率率波器將干擾信號從原始信號中過濾掉后，不同信號（粉色線）在圖形中的比率（黑色線）變化（上升（ ）減?。ǎ┛梢允刮覀儨?zhǔn)確監(jiān)測到終點的位置。制程設(shè)計，一種伴隨分析結(jié)果同步自動完成的制程生成軟件（選擇項軟件）制程設(shè)計是自動圖形分析工具的一種衍生版本。它賦予使用者通過在顯示器上實時的分析和模擬，生成最佳的數(shù)學(xué)模型。這種數(shù)學(xué)模型可以很容易地被構(gòu)建到真實的制程里。對于那些微弱和復(fù)雜的發(fā)光類別型的終點監(jiān)測，或者因制程條件的變化而不能被發(fā)現(xiàn)的終點監(jiān)測，或者類似情況，這種設(shè)計可以使制程研制的負(fù)擔(dān)大大減輕。第一步：自動分離出波長變化的圖形；第二步：使用接近的2條直線，鑒定出變化點；第三步：通過完整的數(shù)學(xué)模型進(jìn)行的EDP模擬管理可以被輸出和構(gòu)建到Sigma-P中；先進(jìn)的統(tǒng)計處理：反饋給制程。統(tǒng)計處理編輯可以從大量不同的視圖中分析日志數(shù)據(jù)，幫助提高異常分析和缺陷率。分析的結(jié)果可以被反饋到測量當(dāng)中。規(guī)格光學(xué)單元波長范圍 200-800nm光學(xué)分別率<2.0nm@=200-500nm<2.5nm@=500-700nm光學(xué)設(shè)計設(shè)計焦距二級過濾器偏差糾錯平場凹面光柵140mm內(nèi)置探測器CCD型號 背光薄型線性CCD攝像傳感器像素A/D分辨率整合時間2048X6416bit20ms-2.5s(10msecstep)規(guī)格可見光輸入傳感器單位尺寸傳感器單位質(zhì)量連接反應(yīng)室的數(shù)量電源功率工作溫度要求環(huán)境溫度操作濕度要求前 CI顯示冷卻風(fēng)扇輸入/輸出帶測量曲線連接的信號輸出輸出點數(shù)量輸出范圍遠(yuǎn)程協(xié)議數(shù)字信號輸出遠(yuǎn)程協(xié)議接口控制界面光纖137(W)X156(H)5.4(W)X6.1(H)4.0kg1Ch24VDC±10%12VA(Max)15-35°C0"－50°C<80%RHat25°C運行狀態(tài)指