全口義齒工藝技術(shù)復(fù)習(xí)題答案-

全?義齒?藝技術(shù)復(fù)習(xí)題答案-?、概念：1.全?義齒：為?列缺失患者制作的修復(fù)體。2.?列缺失：是指患者上頜、下頜或上下頜的天然?全部缺失，是臨床上常見的修復(fù)病例，多見于?年?。3.?列缺損：上頜或下頜?列內(nèi)的不同部位有不同數(shù)?的?齒缺失,同時(shí)?列內(nèi)有不同數(shù)?的天然?存在。4.??頜：?列缺失患者的上下頜稱為??頜5.前?區(qū)：在?腔前庭內(nèi)，頰系帶之間為前?區(qū)。6.后?區(qū)：在?腔前庭內(nèi)，頰系帶以后為后?區(qū)。7.顴突：位于后?區(qū)內(nèi)相當(dāng)于上頜第?磨?根部的?突起處，此區(qū)黏膜薄，為避免前后翹動(dòng)，相應(yīng)的基托組織?做適當(dāng)緩沖。8.上頜結(jié)節(jié)：是上頜?槽嵴兩側(cè)遠(yuǎn)端的圓形?突，表?有黏膜覆蓋。與頰黏膜之間形成頰間隙。9.翼上頜切跡：位于上頜結(jié)節(jié)之后，是蝶?翼突與上頜結(jié)節(jié)后緣之間的?間隙，表?覆蓋黏膜，形成軟組織凹陷，是上頜全?義齒兩側(cè)后緣的界限。10.切?乳突：位于腭中縫之前分，上頜中切?的腭側(cè)，為?梨形或卵圓形的軟組織突起。11.上頜硬區(qū)：位于上頜腭穹隆中部的前份，?組織呈嵴狀隆起，?稱上頜隆突或腭隆突。表?覆蓋黏膜較薄，受壓后易產(chǎn)?疼痛。12.腭?凹：是?內(nèi)黏液腺導(dǎo)管的開?，位于腭中縫兩側(cè)，軟硬腭連接處的稍后?，上頜全?義齒的后緣?般應(yīng)在腭?凹后2mm左右處。13.后堤區(qū)：前后顫動(dòng)線之間的區(qū)域，為上頜基托后緣的邊緣封閉區(qū)。14.頰棚區(qū)15.遠(yuǎn)中頰?區(qū)16.磨?后墊17.下頜隆突18下頜??嵴19.義齒間隙：是在?腔內(nèi)容納義齒的潛在空間。20.固位：是指義齒抵抗從?內(nèi)垂直脫位的能?。21.穩(wěn)定：是指義齒對(duì)抗?平和轉(zhuǎn)動(dòng)的?量，防?義齒側(cè)向和前后向脫位。22.吸附?：是兩種物體分?之間相互的吸引?，包括附著?和粘著?。23.附著?：附著?是指不同分?之間的吸引?。24.粘著?：粘著?是指同分?之間的內(nèi)聚?。25.??頜印模：是?可塑性印模材料取得的??上、下頜?槽嵴和周圍軟硬組織的印模。26.?次印模：是選擇與患者??頜??、形態(tài)合適的成品托盤及?海藻酸印模材料或熱塑性印模材料?次完成?作印模的?法。27.?次印模：由初印模和終印模組成，是在患者?中取兩次印模后完成?作印模的?法。28.模型：模型是灌注模型材料（?膏或?造?）于印模內(nèi)形成的物體原型。29.頜位關(guān)系記錄：是指??托來確定并記錄在患者?部下1/3的適宜?度和兩側(cè)髁突在下頜關(guān)節(jié)凹?理位置時(shí)的上下頜位置關(guān)系，以便在這個(gè)上下頜?的位置關(guān)系上，?全?義齒來重建??頜患者的正中?關(guān)系。30.垂直距離：為天然?列呈正中?合時(shí)，即尖窩交錯(cuò)的接觸關(guān)系時(shí)，?底?頦底的距離，也就是?部下1/3的距離。31.?平頜位關(guān)系：兩側(cè)髁突在下頜后退接觸位（RCP）時(shí)的上下頜位置關(guān)系。32.轉(zhuǎn)移頜位關(guān)系：轉(zhuǎn)移頜位關(guān)系是將臨床上所記錄的患者上頜對(duì)于顳下關(guān)節(jié)的位置關(guān)系再現(xiàn)于?架之上，以便在?架上能很好地模仿?體的下頜運(yùn)動(dòng)，制作出符合患者?腔內(nèi)?理環(huán)境的全?義齒。33.上?架：是將帶有上下?合托的模型??膏固定在給架之上，并保持上下頜模型間的?度和頜位關(guān)系，以便排?。

34.全?義齒的平衡?：全?義齒的平衡?是指下頜在正中?及前伸、側(cè)?運(yùn)動(dòng)時(shí)，上下頜相關(guān)的?齒都是能同時(shí)接觸的?種咬合關(guān)系。35.定位平?斜度：從上中切?近中切??上頜77的近中頰尖頂相連?成的三?平?稱為定位平?。定位平?與眶?平?的夾?稱為定位平?斜度。36.?尖?作斜?的斜度：是指下頜做前伸運(yùn)動(dòng)時(shí)，上后??尖遠(yuǎn)中斜?或下后??尖近中斜?與?平?間形成的夾?。37.個(gè)別托盤：根據(jù)患者的?腔情況和修復(fù)的需要?制作的托盤。?、填空：1.全?義齒是為?列缺失患者制作的義齒（修復(fù)體）。2.全?義齒的修復(fù)對(duì)象是?列缺失的患者，是為??頜患者解決全部天然?的缺失和部分軟、硬組織吸收與改變?制作的修復(fù)體。3.全?義齒由???和基托兩部分組成。4.?列缺失是指患者上頜、下頜或上下頜的天然?全部缺失，是臨床上常見的修復(fù)病例，多見于年?。?列缺失的最常見病因是齲病和?周病。5.?列缺失患者的上下頜稱為??頜。6.在?腔前庭，唇、頰系帶之間區(qū)域?yàn)榍?區(qū)，頰系帶以后為后?區(qū)。7.前顫動(dòng)線為硬腭與軟腭腱膜結(jié)合的部位；后顫動(dòng)線?稱為“啊”線，約從?側(cè)翼上頜切跡延伸?對(duì)側(cè)的翼上頜切跡。前后顫動(dòng)線之間的區(qū)域，稱為后堤區(qū)。作為上頜全?義齒后緣的封閉區(qū)，義齒基托組織?在此區(qū)域應(yīng)向黏膜?向突起。8.后堤區(qū)前后向?qū)挾纫螂癫康男螒B(tài)不同可分為以下三種，即硬腭平坦形、硬腭?拱形、中間形。9.?列缺失后，會(huì)出現(xiàn)?槽嵴的吸收。吸收在缺失后前3個(gè)?最快，3～5個(gè)?吸收速度減慢，?約6個(gè)?后吸收速度顯著下降，拔?后2年吸收速度趨于穩(wěn)定，每年以0.5mm的?平吸收，將終?持續(xù)。因此，全?義齒修復(fù)的時(shí)機(jī)應(yīng)在拔?后3～5個(gè)?；確實(shí)急需的，最早也應(yīng)在拔?后1個(gè)?進(jìn)?。?般情況下，?副普通的全?義齒，使?3～4年后應(yīng)進(jìn)?必要的調(diào)?和襯層處理，使?7～8年后應(yīng)予以重新修復(fù)。10.?列缺失后，?槽嵴吸收多少與?質(zhì)致密度直接關(guān)系，由于上下頜?內(nèi)外側(cè)?板的密度不?，結(jié)果上頜?槽嵴吸收?向向上向內(nèi)，上頜??逐漸變?；下頜?槽嵴吸收?向向下向外，下頜??逐漸變?。11.根據(jù)??頜的組織和全?義齒的關(guān)系，將??頜分成四個(gè)區(qū)，即主承托區(qū)、副承托區(qū)、邊緣封閉區(qū)和緩沖區(qū)。12.義齒有三個(gè)表?，即組織?、磨光?、咬合?，對(duì)義齒的穩(wěn)定和舒適有很?的影響。13.全?義齒能附著在上下頜?上是由于??壓?和吸附?等物理作?的結(jié)果。14.吸附?包括附著?和粘著?。附著?是指不同分?之間的吸引?。粘著?是指同分?之間的內(nèi)聚?。全?義齒的基托組織?和黏膜緊密貼合，其間有?薄層的唾液，基托組織?與唾液，唾液與黏膜之間產(chǎn)?附著?，唾液本?分?之間產(chǎn)?粘著?。15.在全?義齒分類?法中，按?列缺失情況分為全頜全?義齒和單頜全?義齒；按?列缺失后開始修復(fù)的時(shí)間分為長(zhǎng)期型全?義齒、即刻全?義齒、過渡性全?義齒；按義齒結(jié)構(gòu)和?持形式分為黏膜?持式全?義齒、混合?持式全?義齒、根?持式全?義齒。16.獲取??頜的印模有多種?法，主要有:①根據(jù)取印模的次數(shù)，分為?次印模法和?次印模法；②根據(jù)取印模時(shí)患者張?或閉?，分為開?式印模和閉?式印模；③根據(jù)取印模時(shí)是否對(duì)黏膜造成壓?，分為黏膜靜?式印模和黏膜運(yùn)動(dòng)式印模。臨床上常?的印模?法為?次印模法和?次印模法。17.托盤是承載印模材料在?內(nèi)取得印模的?具，主要有成品托盤和個(gè)別托盤兩種。上頜托盤的寬度應(yīng)?上頜?槽嵴寬2～3mm，周圍邊緣?度應(yīng)離開黏膜皺襞約2mm，唇頰系帶處呈切跡，托盤后緣兩側(cè)需蓋過翼上頜切跡，后緣連線位應(yīng)超過顫動(dòng)線3～4mm；下頜托盤的?度和寬度應(yīng)與上頜的托盤相同，后緣兩側(cè)應(yīng)蓋過磨?后墊，?側(cè)沿?溝前?。18.印模材料的種類較多，常?的印模材料有藻酸鹽類印模材料、硅橡膠印模材料、印模?膏、印模膏等。?前最常?的是藻酸鹽類印模材料，這種材料?前在國內(nèi)被?泛采?。19.在??頜初印模上灌注?膏形成初模型，?來制作個(gè)別托盤。在??頜終印模上灌注?膏或?造?形成終模型(?稱?作模型)。

20.調(diào)拌?膏的?法為旋轉(zhuǎn)調(diào)拌，調(diào)拌速度為每分鐘30轉(zhuǎn)左右，調(diào)拌時(shí)間?約1分鐘，到?膏調(diào)拌均勻細(xì)膩時(shí)開始灌注，灌模后靜置約半個(gè)?時(shí)，?膏發(fā)熱凝固后可?即脫模。21.模型形成的?法有圍模灌注法和?般灌注法。22.模型邊緣厚度以3～5mm為宜，模型最薄處也不能少于10mm。模型后緣應(yīng)在腭?凹后不少于2mm，下頜模型在磨?后墊?其前緣起向后不少于10mm。模型修整后底?要平，底座部分應(yīng)為?作部分的1/2。23.當(dāng)天然?列存在時(shí)，上下頜?的位置關(guān)系由緊密接觸的上下?列來保持的。有兩個(gè)穩(wěn)定的參考位，即正中?位、正中關(guān)系位。當(dāng)天然?列缺失后，隨之喪失正中?位，唯?穩(wěn)定參考位就是正中關(guān)系位了。24.頜位關(guān)系記錄包括了垂直關(guān)系記錄和?平關(guān)系記錄兩部分。25.?托由基托與?堤兩部分組成。26.確定處置距離的?法有息?頜位法?部?例測(cè)定法?部外形觀察法。27.確定?平頜位關(guān)系的?法很多，?般歸納為以下三類，即哥特式?描記法、直接咬合法、肌監(jiān)控儀法。28.直接咬合法是指利??堤及?間記錄材料，囑患者下頜后退并直接咬合在?起的?法。包括卷?后舔法、吞咽咬合法、后?咬合法、?腮咬合法。30.常?的暫基托材料有基托蠟?、?凝材料和光固化基托塑料板。31.制上?堤，放??內(nèi)調(diào)改?平?。要求?平?的前部在上唇下緣以下約2mm，且與瞳孔連線平?；?平?的后部，從側(cè)?觀要與?翼?屏線平?。?堤的唇?要充分襯托出上唇，使上唇豐滿??然，?堤后端整修成斜坡狀。32.檢查正中關(guān)系是否是正確?法有捫測(cè)顳肌法、捫測(cè)髁突動(dòng)度法、?部外形觀察法。33.?堤唇?畫標(biāo)志線包括中線、??線、唇?線和唇低線。34.?架的種類有四，分別是簡(jiǎn)單?架、平均值?架、半可調(diào)節(jié)?架、全可調(diào)節(jié)?架。34.???根據(jù)所使?的材料主要有兩?類樹脂?和瓷?。根據(jù)后???形態(tài)分為兩?類解剖式??形態(tài)和?解剖式??形態(tài)。35.平衡?的分類包括正中平衡?、前伸平衡?、側(cè)?平衡?。在?正中平衡?中，根據(jù)上下?接觸的數(shù)?，分為三點(diǎn)接觸?平衡、多點(diǎn)接觸?平衡、完全接觸的?平衡。36.與平衡?有關(guān)的五因素為髁導(dǎo)斜度、切導(dǎo)斜度、?尖?作斜?的斜度、補(bǔ)償曲線曲度、定位平?斜度。37.在Gysi的同?圓學(xué)說，五因素間必須保持的互相關(guān)系是：髁導(dǎo)斜度和切導(dǎo)斜度間為反變關(guān)系；補(bǔ)償曲線曲度、?尖斜度和定位平?斜度間為反變關(guān)系；髁導(dǎo)斜度或切導(dǎo)斜度與其余任何?種因素都是正變關(guān)系。38.孫廉的平衡咬合理論中，三因素指的是髁道斜度、切道斜度、平衡斜?的斜度。39.在前伸平衡?的調(diào)整中，前?切緣接觸?后???接觸，表明切導(dǎo)斜度過?或?尖斜度過?，在這種情況下，?先考慮增加補(bǔ)償曲線曲度使?尖?作斜?斜度加?，其次考慮在不影響美觀和功能的原則之下，適當(dāng)減?前?的切道斜度；前?切緣?接觸?后?有接觸時(shí)，表明切導(dǎo)斜度過?，或?尖斜度過?。?般調(diào)整后?的遠(yuǎn)近中向傾斜度，以減?補(bǔ)償曲線曲度。40.在側(cè)向平衡?的調(diào)整中，?作側(cè)早接觸?平衡側(cè)?接觸，主要是通過加?平衡側(cè)橫?曲線的?法來調(diào)整；平衡側(cè)早接觸??作側(cè)?接觸時(shí)，可?減?平衡側(cè)橫?曲線的?法來調(diào)整。41.全?義齒的蠟型塑型包括基托塑形、?齦、?根及腭皺襞的塑形。42.全?義齒蠟型完成后，先??膏將其包埋固定于型盒中，蠟加熱沖去后即形成?膏型腔，在型腔內(nèi)填以樹脂，經(jīng)加熱聚合后，???與基托連成?個(gè)堅(jiān)固的整體。再打開型盒從中取出義齒進(jìn)?打磨、拋光處理，全?義齒制作即告完成。43.全?義齒的裝盒采?反裝法，即將模型包埋固定于下半型盒內(nèi)，???、基托完全暴露，翻到上半盒內(nèi)。44.型盒由上層型盒、下層型盒和型盒蓋三部分組成。模型距型盒頂部?少應(yīng)有1cm。45.裝盒前，將完成蠟型的模型從?架上取下，浸泡在冷?中約10分鐘，使其吸??分，以免裝盒時(shí)吸收裝盒?膏中的?分加快凝固速度及膨脹，不利于操作，導(dǎo)致裝盒包埋不實(shí)。46.裝盒時(shí)，下層型盒的邊緣應(yīng)完全露出，以便與上層型盒吻合。待?膏結(jié)固(約30分鐘)后，其表?均勻涂?層分離劑。將上

層型盒罩在其上檢查，要求上下兩層型盒的邊緣吻合良好，調(diào)?膏注?上層型盒內(nèi)，為防??頸部和?間隙處產(chǎn)??泡，可?排筆蘸?膏漿在這些部位先涂布?層。47.上層型盒灌注后約30分鐘，包埋?膏完全硬固，此時(shí)?可進(jìn)?燙盒處理。置?80°C以上熱?中浸泡5～10分鐘，打開型盒，去除軟蠟，?熱?的容器放于?處，?細(xì)?流沖洗?凈。48.樹脂充填在20℃左右室溫下，樹脂粉和液調(diào)和后約20分鐘達(dá)到?團(tuán)期，?團(tuán)期約維持5分鐘，此時(shí)進(jìn)?充填。49.全?義齒的熱處理可采?濕式聚合法(?浴加熱法)和?式聚合法兩種，?前常采??浴加熱法。50.出盒時(shí)機(jī)，型盒經(jīng)熱處理后在?中??冷卻，?溫降?50°C以下時(shí)，出盒最適宜。51.將表?黏附?膏全?義齒，浸泡于30%枸櫞酸鈉過飽和溶液中，24?時(shí)后取出，?清?洗刷?凈，殘存的?膏即可去凈。52.基托組織?是?腔黏膜的真實(shí)反映，除樹脂瘤、尖銳的凸起、殘留?膏渣以及需緩沖?突等處外，?般不應(yīng)研磨。53.全?義齒???選磨調(diào)?的原則注意保護(hù)功能尖，消除咬合時(shí)的早接觸點(diǎn)。去除下頜運(yùn)動(dòng)時(shí)的咬合?擾，達(dá)到平衡?。調(diào)磨順序?yàn)椋赫?的選磨→側(cè)??的選磨→前伸?的選磨。54.在正中?的選磨中，盡量調(diào)磨???的斜?和窩，不降低?尖?度。?尖與斜?發(fā)?早接觸時(shí)，應(yīng)調(diào)磨斜?；?尖與窩發(fā)?早接觸時(shí)，應(yīng)調(diào)磨與?尖相對(duì)應(yīng)的窩；斜?與斜?發(fā)?早接觸時(shí)，兩斜?均可調(diào)磨。55.在側(cè)??的選磨中，?作側(cè)發(fā)?早接觸時(shí)，應(yīng)調(diào)磨早接觸的?尖斜?；平衡側(cè)發(fā)?早接觸時(shí)，應(yīng)調(diào)磨上頜后??尖的頰斜?或下頜后?頰尖的?斜?。側(cè)??上下尖???擾時(shí)，可調(diào)磨上頜尖?的?斜?或下頜尖?的唇斜?。56.在前伸?的選磨中，前?接觸后?不接觸時(shí)，應(yīng)調(diào)磨上前?的?窩或下前?切緣的唇斜?；后?接觸前?不接觸時(shí)，應(yīng)調(diào)磨上頜后??尖的遠(yuǎn)中斜?或下頜后??尖的近中斜?。57.基托不密合重襯的?法有:直接重襯法、間接重襯法、?凝軟襯材料重襯。三、簡(jiǎn)答：1.簡(jiǎn)述切?乳突的?理意義。（1）其下為切?孔，有?腭神經(jīng)和?管通過，義齒基托組織?在此區(qū)應(yīng)緩沖。（2）切?乳突是上頜重要的，穩(wěn)定的標(biāo)志。因此可作為排列上頜中切?的參考標(biāo)志。a.兩個(gè)上頜中切?的交界線應(yīng)以切?乳突尖端作為標(biāo)準(zhǔn)；b.上頜中切?唇?置于切?乳突中點(diǎn)前8-10mm；c.上頜兩側(cè)尖??尖頂?shù)倪B線應(yīng)通過切?乳突中點(diǎn)前后1mm范圍。2.簡(jiǎn)述磨?后墊的?理意義。（1）是下頜全?義齒后界封閉區(qū)。（2）下頜全?義齒后緣應(yīng)?于磨?后墊的前1/3～1/2處。（3）磨?后墊可作為指導(dǎo)排列???的解剖標(biāo)志。a.垂直向：下頜第?磨?的合?應(yīng)與磨?后墊的１／２等?；b.前后向：下頜第?磨?應(yīng)位于磨?后墊前緣；c.頰?向：磨?后墊頰?、??與下頜尖?的近中?形成?個(gè)三?形，下頜后?的?尖應(yīng)位于此三?形內(nèi)。4.簡(jiǎn)述影響全?義齒固位的有關(guān)因素。（1）頜?的解剖形態(tài)；（2）?腔黏膜的性質(zhì)；（3）睡液的質(zhì)和量；（4）基托的邊緣。5.簡(jiǎn)述影響全?義齒穩(wěn)定的有關(guān)因素。（1）良好的咬合關(guān)系；（2）合理的排?；（3）理想的基托磨光?形態(tài)。6.簡(jiǎn)述全?義齒基托的伸展范圍。上下頜唇頰?側(cè)在粘膜反折線處，讓開系帶；上頜后緣在兩側(cè)翼上頜切跡與腭?凹后2mm三點(diǎn)間的連線處，下頜后緣在下頜磨?后墊的前1／3～1／2處。7.以藻酸鹽印模材料制取?次印模為例，簡(jiǎn)述制取??頜上下頜印模的?法。（1）選擇?致與上下??頜患者???致的成品托盤。（2）調(diào)拌藻酸鹽印模材料，引??中，作上下頜主動(dòng)被動(dòng)肌功能修整。（3）印模材料凝固后，將托盤從?中取出，檢查印模的完整性，完畢。8.簡(jiǎn)述制取個(gè)別托盤的步驟和?法。（1）個(gè)別托盤的邊緣線；（2）緩沖；（3）預(yù)留空間；（4）?凝樹脂的調(diào)拌與壓制；（5）打磨與完成。9.簡(jiǎn)述圍模灌注法的步驟和?法。①在印模的周緣下約2mm處粘著?條約5mm寬的蠟棍，下頜印模的?側(cè)邊緣間?蠟板封閉空隙；②沿蠟棍外?及印模后緣圍繞?層成盒型蠟板，圍板上緣?印模最?處的距離不少于10mm。③灌注?膏，完成。10.簡(jiǎn)述排?的原則。（1）??形狀，應(yīng)盡可能與頜?形狀?致；（2）???的蓋嵴部應(yīng)盡可能貼近?槽嵴；（3）?平?應(yīng)與?槽嵴接近平?，并且平分頜間距離；(4)前?應(yīng)排成淺覆蓋和淺覆?關(guān)系；(5)形成正常的?曲線。11.列表說明排列??前?的要求表5-1前?排列的精確位置要求唇?向傾斜近遠(yuǎn)中向傾斜旋轉(zhuǎn)度與?堤平?關(guān)系上頜中切?接近垂直或頸部垂直或稍向遠(yuǎn)中與前?區(qū)頜?曲切緣與?平?接觸稍向腭側(cè)傾斜傾斜度?致上頜側(cè)切?切緣稍向唇側(cè)傾頸部稍向遠(yuǎn)中傾遠(yuǎn)中微向?側(cè)旋切緣?出?平?0.5斜斜轉(zhuǎn)～1mm上頜尖?頸部向唇側(cè)突出頸部稍向遠(yuǎn)中傾唇?遠(yuǎn)中向?側(cè)?尖與?平?接觸切緣微向?側(cè)傾斜旋轉(zhuǎn)與后部頜?斜其程度介于1、2曲度?致之間下頜中切?頸部微向?側(cè)傾垂直與前?區(qū)頜?曲切緣?出?平?約斜度?致1mm下頜側(cè)切?近似垂直頸部稍向遠(yuǎn)中傾同中切?同中切?

斜下頜尖?頸部稍向唇側(cè)突頸部稍向遠(yuǎn)中傾唇?遠(yuǎn)中向?側(cè)同中切?出斜旋轉(zhuǎn)與后部頜?曲度?致12.列表說明排列??后?的要求后?排列的精確位置要求頰?向傾斜近遠(yuǎn)中向傾斜與?平?關(guān)系上頜第?前磨?頸部微向頰側(cè)傾斜垂直頰尖在??上，?尖離開?平?約1mm上頜第?前磨?垂直垂直頰?尖均在?平?上上頜第?磨?頸部稍向腭側(cè)傾斜頸部稍向近中傾斜近中?尖在?平?上，遠(yuǎn)?尖、近頰尖離開約1mm，遠(yuǎn)頰尖離開約1.5mm上頜第?磨?頸部向腭側(cè)傾斜頸部向近中傾斜近?尖離開?平?約1mm，遠(yuǎn)?尖、近頰尖離開約2mm，遠(yuǎn)頰尖離開約2.5mm下頜后?以上后???為準(zhǔn)，按正中?關(guān)系排下后?13.在全?義齒的試戴中，蠟型戴??中后，需檢查那些項(xiàng)?。（1）檢查外觀（?部?例）及垂直距離（2）檢查暫基托是否平穩(wěn)（3）檢查頜位關(guān)系（4）檢查咬合關(guān)系（5）檢查平衡?（6）檢查排?情況（7）檢查發(fā)?情況（8）檢查基托14.敘述全?義齒基托的伸展范圍及厚度要求上下頜唇頰?側(cè)在粘膜反折線處，讓開系帶；上頜后緣在兩側(cè)翼上頜切跡與腭凹后2mm三點(diǎn)間的連線處，下頜后緣在下頜磨?后墊的前1／3～1／2處。基托的厚度為1.5～2mm，接近???處逐漸加厚；基托邊緣、翼頜切跡、磨?后墊厚度為2.5～3mm，呈圓鈍狀；緩沖區(qū)基托可適當(dāng)加厚，以備緩沖時(shí)留有余地。15.簡(jiǎn)述判斷樹脂充填是否?夠的標(biāo)志①型盒周邊有多余的樹脂被擠出；②玻璃紙較平整，皺褶不明顯；③樹脂致密，顏?較深。16.簡(jiǎn)述樹脂充填及熱處理中常見問題及原因（1）?泡（散在?泡）樹脂填塞不?或充填過早（基托較厚處形成圓形??泡）熱處理過快（基托表??泡）單體過多或后填加，調(diào)拌不勻材料本?性能不佳（2）咬合增?樹脂過硬樹脂量過多裝盒??膏強(qiáng)度不夠型盒未壓緊

（3）基托顏?不?樹脂調(diào)拌不均勻樹脂充填時(shí)過硬?托?揮發(fā)過快過多?和?盆不?凈充填時(shí)反復(fù)多次填塞（4）???與基托樹脂連接不牢上下型盒分別充填樹脂，時(shí)間過長(zhǎng)試壓后玻璃紙未去凈???上涂有分離劑關(guān)盒前???與基托間未加?托?17.簡(jiǎn)述基托磨光時(shí)需要注意的問題（1）磨光需?各種磨具，磨具與義齒直接接觸，其質(zhì)量直接影響到研磨的效果，（2）磨具的?作轉(zhuǎn)速對(duì)研磨有?定影響，?作轉(zhuǎn)速快，研磨效率?，（3）操作時(shí)兩?要拿穩(wěn)義齒，??得當(dāng)，防?義齒在?速拋光下脫?飛出造成損壞。（4）操作時(shí)要遵循由粗磨逐漸到細(xì)磨的原則，細(xì)磨時(shí)要改?向，使前后磨痕交叉成直?，使研磨均勻。（5）在細(xì)磨時(shí)，?刷、布輪等?具?定要潤(rùn)濕，并不斷加磨光糊劑，不能?磨。否則易因摩擦產(chǎn)熱，造成基托表?焦化，破壞表?形態(tài)。18.簡(jiǎn)述全?義齒修復(fù)后常見的問題的原因及處理疼痛：基托邊緣過長(zhǎng)磨短、磨圓鈍基托的邊緣?槽嵴有明顯?突、硬區(qū)、組織倒凹緩沖組織?的壓?和消除組織倒凹???量相對(duì)過?、或義齒不穩(wěn)定采取選?號(hào)義?、擴(kuò)?外展隙、減徑或減數(shù)；查找早接觸點(diǎn)的確切部位選磨。垂直距離過?、基托變形可采?稍稀?膏，輕者可通過調(diào)磨降低?度，重者應(yīng)重作義齒。固位不理想：義齒固位尚好，說話或打哈?時(shí)義齒易脫位：主要原因是基托邊緣過長(zhǎng)、系帶區(qū)基托未形成相應(yīng)的切跡，或基托邊緣過短、過銳，?齒排列過分偏向頰或?側(cè)。可以采?磨短過長(zhǎng)基托，緩沖系帶區(qū)，重襯結(jié)合加長(zhǎng)基托邊緣的?法解決。偏離了中性區(qū)的?齒排列應(yīng)考慮重作?齒。吃飯時(shí)義齒易脫位：頜位關(guān)系記錄有問題，義齒不平衡所致選磨或重做咬唇頰、咬?：?列缺失后長(zhǎng)時(shí)間未及時(shí)修復(fù)造成頰脂肪墊處的黏膜內(nèi)陷或?體變?；???排列的覆蓋、?側(cè)的反覆蓋偏?或?qū)θ?；初戴義齒時(shí)使?不當(dāng)；上下頜基托遠(yuǎn)中端在咬合時(shí)間隙過?在上頜義齒基托頰側(cè)放燙軟的印模膏，并以雕刻?加熱固定在基托上以外撐內(nèi)陷的頰側(cè)黏膜，磨改上下?尖的斜?，上下后?的頰?側(cè)軸?。咀嚼功能不良：上下頜義齒接觸點(diǎn)少，垂直距離低在?內(nèi)直接??凝造?粉加?上頜或下頜義齒、或重作義齒。通過調(diào)?增加接觸點(diǎn)進(jìn)?增加接觸?積。發(fā)?障礙：?腔部狹窄；?的活動(dòng)范圍減?堅(jiān)持訓(xùn)練；可適當(dāng)磨改上下義齒?列?側(cè)軸?以增加?道半徑。惡?：咽部敏感；后緣過長(zhǎng)或不密合可磨短上頜義齒后緣基托；重襯。?理因素造成的不適：患者對(duì)全?義齒的期望值過?耐?解釋全?義齒選擇題[A1型題]1、上頜后部?槽嵴?吸收的?向?yàn)?/p>

A向上、向后B向上、向外C向上、向內(nèi)D向后、向外E向上、向前2、下頜后部?槽嵴?吸收的?向?yàn)锳向下、向后B向下、向外C向下、向內(nèi)D向后、向外E向下、向前3、全?義齒修復(fù)應(yīng)在拔?多少時(shí)間后進(jìn)?A?周B三周C?個(gè)?D三個(gè)?E六個(gè)?4、??頜頜患者下頜下于正中關(guān)系位時(shí)上下頜?槽嵴頂間的距離稱為A開?度B息?合間隙C垂直距離D頜間距離E覆合5、全?義齒的固位和?持有利的粘膜情況是A厚、松軟B厚、韌C薄D薄、?燥EB或D6、?腔前庭內(nèi)相當(dāng)于原中切?近中交界線的延長(zhǎng)線上的是A?系帶B唇系帶C頰系帶D?輪匝肌的起始部E上頜義齒切跡7、腭?凹位于A切?乳突前?B腭皺與切?乳突之間C腭皺后?D上頜?槽嵴后緣E軟硬腭交界處，腭中縫兩側(cè)8、上頜義齒后堤區(qū)位于A磨?后墊B腭?凹前?C前顫動(dòng)線之前D前后顫動(dòng)線之間E后顫動(dòng)線之后9、后堤區(qū)的作?是A定位B邊緣封閉作?C?持作?D排?標(biāo)志E緩沖作?10、切?乳突的作?是A排列上頜中切?的參考標(biāo)志B確定合平?的標(biāo)志C確定伸展范圍的標(biāo)志D確定?槽嵴頂?shù)臉?biāo)志E確定后堤區(qū)的標(biāo)志11、上頜中切?的唇?通常位于切?乳突中點(diǎn)前A1-4mmB5-7mmC8-10mmD11-15mmE16-20mm

12、上頜義齒基托不需要緩沖的部位是A切?乳突B顴突區(qū)C腭中縫D顫動(dòng)線E上頜隆突13、切?乳突是排列上?切?的解剖標(biāo)志，因?yàn)锳切?乳突位于上頜腭中縫的前端B切?乳突與上頜中切?之間有較穩(wěn)定的關(guān)系C切?乳突下?為切?孔，排?時(shí)要防?此處壓迫D切?乳突的位置變化較?E兩個(gè)上中切?的交界線應(yīng)以切?乳突為準(zhǔn)14、下頜義齒的基托需要緩沖的部位是A磨?后墊B下頜??嵴C頰系帶D頰側(cè)