標(biāo)準(zhǔn)解讀

《YS/T 899-2013 高純鉭化學(xué)分析方法 痕量雜質(zhì)元素的測(cè)定 輝光放電質(zhì)譜法》是一項(xiàng)針對(duì)高純度鉭材料中痕量雜質(zhì)元素檢測(cè)的標(biāo)準(zhǔn)。該標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)規(guī)定了使用輝光放電質(zhì)譜(Glow Discharge Mass Spectrometry, GDMS)技術(shù)來(lái)測(cè)定高純鉭中的多種雜質(zhì)元素的方法。適用于需要對(duì)鉭材料進(jìn)行高質(zhì)量控制或研究其純度的應(yīng)用場(chǎng)景。

標(biāo)準(zhǔn)中首先明確了適用范圍,指出它適用于高純鉭及其制品中包括但不限于鈉、鎂、鋁、硅、磷、硫、鉀、鈣、鈦、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅、砷、硒、銀、鎘、銦、錫、銻、碲、鉛、鉍等元素的測(cè)定。這些元素可能以極低濃度存在于鉭樣品中,但即便是微量的存在也可能影響材料性能,因此準(zhǔn)確測(cè)量它們至關(guān)重要。

接著,標(biāo)準(zhǔn)描述了試驗(yàn)所需的主要設(shè)備和試劑,如輝光放電質(zhì)譜儀、標(biāo)準(zhǔn)溶液以及用于校準(zhǔn)的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)等,并對(duì)儀器的工作參數(shù)設(shè)置給出了具體指導(dǎo)。此外,還提供了樣品制備的具體步驟,包括取樣、清洗、切割成適合GDMS分析的尺寸形狀等過(guò)程。

在測(cè)試程序部分,標(biāo)準(zhǔn)詳述了如何通過(guò)輝光放電質(zhì)譜法對(duì)樣品進(jìn)行處理與分析,包括樣品安裝方式、激發(fā)條件的選擇、數(shù)據(jù)采集及處理方法等關(guān)鍵環(huán)節(jié)。對(duì)于每一步操作都有詳細(xì)的說(shuō)明,確保不同實(shí)驗(yàn)室之間可以獲得一致性和可比性的結(jié)果。

最后,標(biāo)準(zhǔn)還包括了質(zhì)量保證措施,比如空白實(shí)驗(yàn)、重復(fù)性檢驗(yàn)、回收率測(cè)試等內(nèi)容,用以驗(yàn)證方法的有效性和可靠性。同時(shí),也提到了如何報(bào)告最終分析結(jié)果,包括必須包含的信息項(xiàng)目等,以便于信息交流和技術(shù)共享。

該文件為相關(guān)領(lǐng)域內(nèi)專業(yè)人士提供了一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)化的操作指南,有助于提高高純鉭材料分析工作的科學(xué)性和準(zhǔn)確性。


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....

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  • 2014-03-01 實(shí)施
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YS/T 899-2013高純鉭化學(xué)分析方法痕量雜質(zhì)元素的測(cè)定輝光放電質(zhì)譜法_第1頁(yè)
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文檔簡(jiǎn)介

ICS7712099

H63..

中華人民共和國(guó)有色金屬行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)

YS/T899—2013

高純鉭化學(xué)分析方法

痕量雜質(zhì)元素的測(cè)定

輝光放電質(zhì)譜法

Methodsforchemicalanalysisofhighpuritytantalum—

Determinationoftraceimpurityelementcontent—

Glowdischargemassspectrometry

2013-10-17發(fā)布2014-03-01實(shí)施

中華人民共和國(guó)工業(yè)和信息化部發(fā)布

YS/T899—2013

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口

(SAC/TC243)。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位北京有色金屬研究總院金川集團(tuán)股份有限公司東方電氣集團(tuán)峨嵋半導(dǎo)體材料

:、、

有限公司

。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人李寶城劉英孫澤明童堅(jiān)李繼東臧慕文李娜程紫輝張江峰邱平秦芳林

:、、、、、、、、、、、

文英王攀峰

、。

YS/T899—2013

高純鉭化學(xué)分析方法

痕量雜質(zhì)元素的測(cè)定

輝光放電質(zhì)譜法

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了高純鉭中痕量元素含量的測(cè)定方法測(cè)定元素見(jiàn)表

,1。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于高純鉭中痕量元素含量的測(cè)定除鈮鉬鎢外各元素測(cè)定范圍為

。、、1μg/kg~

鈮鉬和鎢的測(cè)定范圍為

5000μg/kg,、1μg/kg~100000μg/kg。

2方法原理

試料作為陰極進(jìn)行輝光放電其表面原子被濺射而脫離試料進(jìn)入輝光放電等離子體中離子化后再被

,,

導(dǎo)入質(zhì)譜儀中進(jìn)行測(cè)定在每一元素同位素質(zhì)量數(shù)處以預(yù)設(shè)的掃描點(diǎn)數(shù)和積分時(shí)間對(duì)相應(yīng)譜峰積分所

。,

得面積即為譜峰強(qiáng)度在缺少標(biāo)準(zhǔn)樣品時(shí)計(jì)算機(jī)根據(jù)儀器軟件中的典型相對(duì)靈敏度因子自動(dòng)計(jì)算出

。,“”

各元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)有標(biāo)準(zhǔn)樣品時(shí)則需要通過(guò)在與被測(cè)樣品相同的分析條件離子源結(jié)構(gòu)以及測(cè)試條件

;,、

下對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行獨(dú)立測(cè)定獲得相對(duì)靈敏度因子應(yīng)用該相對(duì)靈敏度因子計(jì)算出各元素的質(zhì)量分?jǐn)?shù)

,。

被測(cè)元素的含量以質(zhì)量分?jǐn)?shù)wX計(jì)按式計(jì)算

(),(1):

IXA

wX=X·Taw

()RSF(/Ta)·IAX·(Ta)……(1)

Ta·

式中

:

wX待測(cè)元素質(zhì)量分?jǐn)?shù)單位為微克每千克

()———,(μg/kg);

X在特定輝光放電條件下測(cè)定中X元素的校正系數(shù)

RSF(/Ta)———Ta;

IX待測(cè)元素X的同位素譜峰強(qiáng)度

———,cps;

I元素的同位素譜峰強(qiáng)度

Ta———Ta,cps;

AX待測(cè)元素X的同位素豐度

———;

A元素的同位素豐度

Ta———Ta;

w的質(zhì)量分?jǐn)?shù)定義為9

(Ta)———Ta1.00×10μg/kg。

3試劑與材料

除非另有說(shuō)明分析中所用的試劑均為優(yōu)級(jí)純所用的水為一級(jí)水

,,。

31無(wú)水乙醇

.。

32氬氣φ

.(≥99.999%)。

33氫氟酸

.(1+9)。

34鉭標(biāo)準(zhǔn)樣品被測(cè)元素質(zhì)量分?jǐn)?shù)在

.,50μg/kg~500μg/kg。

35鉭空白樣品要求被測(cè)元素質(zhì)量分?jǐn)?shù)低于被測(cè)試樣的倍以上

.,10。

4儀器

41高質(zhì)量分辨率輝光放電質(zhì)譜儀

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