垂直地震剖面技術(shù)簡(jiǎn)介

垂直地震剖面技術(shù)簡(jiǎn)介引言垂直地震采集工作垂直地震處理工作垂直地震解釋工作結(jié)論垂直地震剖面技術(shù)簡(jiǎn)介匯報(bào)提綱概念1井中地震：通常把將激發(fā)系統(tǒng)（震源）和接收系統(tǒng)（撿波器）同時(shí)或其中 之一置于井中測(cè)量地震波信號(hào)的方法稱為井中地震技術(shù)。

技術(shù)特點(diǎn)單程/無(wú)淺層衰減準(zhǔn)確深度信息

目的層地震響應(yīng)更保真多分量地震信息方位各向異性信息井中地震分類VSP技術(shù)（VerticalSeismicProfile)井間地震技術(shù)(CrosswellSeismic)單井地震技術(shù)(Uniwell/SinglewellSeismic)隨鉆地震技術(shù)(SeismicWhileDrilling)微地震技術(shù)(MicroSeismic/PassiveMonitoring)儀器井（InstrumentWell)1.引言——井中地震技術(shù)概念2垂直地震剖面：（Verticalseismicprofile）是相對(duì)于地面地震剖面而 言的，該方法實(shí)質(zhì)是在井中觀測(cè)地震波場(chǎng)，將井下檢波器 置于井中不同深度來(lái)記錄地面震源所產(chǎn)生的地震信號(hào)。技術(shù)特點(diǎn)接收點(diǎn)分布在介質(zhì)內(nèi)部。記錄的地震波可以比較真實(shí)的反映研究對(duì)象。干擾因素少?？赏瑫r(shí)記錄上行波和下行波。使用三分量檢波器可記錄多分量地震信息。震源可重復(fù)性容易實(shí)現(xiàn)。參考檢波器檢波器1.初至波2.下行多次波3.上行反射波4.上行多次波1.引言——VSP技術(shù)1.引言——VSP技術(shù)作用技術(shù)作用預(yù)測(cè)鉆井未鉆遇地層的埋深正確識(shí)別多次波與地面勘探資料結(jié)合，可減少地震反演的多解性避開(kāi)低速帶的影響，使記錄的分辨率較高提供子波、反褶積因子、速度、反射系數(shù)、衰減系數(shù)等物理參數(shù)地表惡劣地區(qū)用VSP測(cè)量替代和填補(bǔ)地面地震的空白帶與聲波資料結(jié)合，有利于薄層研究可采集到的多波多分量記錄，有利于井孔周圍油藏的研究確定地震同向軸與地質(zhì)層位的對(duì)應(yīng)關(guān)系1.引言——VSP技術(shù)發(fā)展歷程零井源距VSP非零井源距VSP變井源距VSP三維VSPVSP技術(shù)發(fā)展歷程零井源距VSP（Zero-offsetVSP）非零井源距VSP（offsetVSP）

多方位VSP（AzimuthalVSP）變井源距VSP（WalkawayVSP）三維VSP（3DVSP）隨鉆反VSP技術(shù)（SWD）多分量VSP（Multi-componentVSP）引言垂直地震采集工作垂直地震處理工作垂直地震解釋工作結(jié)論垂直地震剖面技術(shù)簡(jiǎn)介匯報(bào)提綱2.垂直地震采集工作零偏震源非零偏震源求取速度資料（平均速度、層速度）確定地震反射的地質(zhì)（時(shí)代、巖性）層位，識(shí)別多次波研究井周圍的地層構(gòu)造細(xì)節(jié)綜合解釋研究--井周圍的地層巖性變化對(duì)鉆頭以下的目的層深度進(jìn)行預(yù)測(cè)地質(zhì)任務(wù)井源距的選擇井源距選取要考慮地面條件和地質(zhì)任務(wù)而定：零偏移距不得超過(guò)最大觀測(cè)深度的1/15；非零偏移距應(yīng)用模型正演方法確定。震源的選擇采用具可重復(fù)性的炸藥震源井，需支架，套管，井壁與套管間固井水泥，小藥包（0.1-0.5kg），潛水面以下激發(fā)采樣間隔一般情況下，采樣間隔10m，高精度為5m2.垂直地震采集工作水平地震與垂直地震區(qū)別水平地震剖面：地表激發(fā)，檢波器平行地表埋置。垂直地震剖面：地表激發(fā)，檢波器垂直地表下到井中。引言垂直地震采集工作垂直地震處理工作垂直地震解釋工作結(jié)論垂直地震剖面技術(shù)簡(jiǎn)介匯報(bào)提綱3.垂直地震處理工作---以零偏VSP為例*12345678901234傳播深度傳播時(shí)間123456789震源井孔原始記錄延伸軸12345678901234時(shí)間“下行波”切除下行波上行波**下行多次波12345678901234地震雙程時(shí)間初疊（靜校正后）傳播深度傳播深度初至波的提?。挥弥兄禐V波分離上下行波場(chǎng)；多次波的壓制——從下行波中提取算子對(duì)上行波做VSP反褶積，算子長(zhǎng)度通過(guò)試驗(yàn)而定；4.反褶積后的上行波拉平、去噪（F-K波）。處理手段分離后的上行波場(chǎng)分離后的下行波場(chǎng)零偏P波3.垂直地震處理工作初至波的提取上行波場(chǎng)和下行波場(chǎng)的分離反褶積后去噪后零偏P波3.垂直地震處理工作多次波壓制上行波拉平去噪原始數(shù)據(jù)上行波上行波排齊****包括：

1靜校正

2反褶積

3濾波走廊疊加TT—“管道”波垂直地震剖面剖析T3.垂直地震處理工作引言垂直地震采集工作垂直地震處理工作垂直地震解釋工作結(jié)論垂直地震剖面技術(shù)簡(jiǎn)介匯報(bào)提綱3.垂直地震解釋工作地質(zhì)任務(wù)1：求取速度資料（層速度，平均速度，時(shí)深關(guān)系曲線）地質(zhì)任務(wù)2：確定地震反射的地質(zhì)（時(shí)代、巖性）層位，識(shí)別多次波VSP剖面與水平地震剖面、地質(zhì)剖面的對(duì)比確定主要反射層的地質(zhì)層位；確定多次波產(chǎn)生的層位、傳播路徑3.垂直地震解釋工作地震剖面地震剖面VSPLOGAB聲波速度曲線應(yīng)用高分辨率的零偏VSP走廊疊加剖面，可以更精細(xì)的描述層間的波組特征變化。通過(guò)高分辨VSPLOG和聲波速度曲線對(duì)比，可以看出：本井VSPLOG和聲波速度曲線具有良好的對(duì)應(yīng)關(guān)系。聲波曲線出現(xiàn)小幅度的速度變化界面時(shí)，在VSPLOG上可以看見(jiàn)與之相應(yīng)的反射特征。在地震剖面上，可以借助VSP和聲波速度曲線識(shí)別地震剖面上的多次波干擾。當(dāng)VSP剖面上出現(xiàn)較強(qiáng)反射，聲波曲線也出現(xiàn)相應(yīng)的速度變化，但地震剖面無(wú)強(qiáng)的反射界面，成斷續(xù)反射，應(yīng)該考慮到地震剖面一次反射波受到未去除掉的多次波干擾。VSPLOG,地震剖面和聲波速度對(duì)比3.垂直地震解釋工作依據(jù)鉆井地質(zhì)分層所提供的各地質(zhì)層位所在的深度，利用VSP時(shí)深關(guān)系計(jì)算出該深度所對(duì)應(yīng)的時(shí)間，將鉆井與地面地震結(jié)合起來(lái)。3.垂直地震解釋工作地質(zhì)任務(wù)3：研究井周圍的地層構(gòu)造細(xì)節(jié)3.垂直地震解釋工作研究井旁構(gòu)造形態(tài)的變化以及巖性的變化，與水平地震剖面認(rèn)真對(duì)比，提出對(duì)水平地震剖面解釋的修改意見(jiàn)3.垂直地震解釋工作進(jìn)行波場(chǎng)分析，分析各種類型的波，研究波的衰減規(guī)律和它與地層巖性的關(guān)系。遼河曙光油田開(kāi)發(fā)區(qū)邊緣杜70塊地震測(cè)線較稀，通過(guò)對(duì)曙1-38-60井進(jìn)行非零偏VSP觀測(cè)，查明該區(qū)油層可向外追蹤400m。根據(jù)VSP觀測(cè)成果布設(shè)的曙1-38-61井獲工業(yè)產(chǎn)能。地質(zhì)任務(wù)4：研究井周圍的地層巖性變化井旁儲(chǔ)層預(yù)測(cè)：根據(jù)地質(zhì)解釋所揭示的砂層組的頂面深度，利用VSP速度參數(shù)計(jì)算出相應(yīng)的時(shí)間，在連井剖面上確定出相應(yīng)的反射軸，然后進(jìn)行橫向追蹤。3.垂直地震解釋工作引言垂直地震采集工作垂直地震處理工作垂直地震解釋工作結(jié)論垂直地震剖面技術(shù)簡(jiǎn)介匯報(bào)提綱5.結(jié)論結(jié)論1：VSP比地面地震具有更高的信噪比，分辨率和保真度①VSP技術(shù)能夠避免地面環(huán)境噪聲的干擾，能夠避免表層低降速帶對(duì)地震波能量的衰減和高頻吸收②VSP觀測(cè)時(shí)地震波傳播路徑短，能近距離接收到界面反射信息，因此，VSP技術(shù)能夠獲得高信噪比、高分辨率、高保真的地震反射信息，這是地面地震無(wú)法實(shí)現(xiàn)的“先天性”優(yōu)勢(shì)。結(jié)論2：VSP標(biāo)定比合成記錄標(biāo)定更加準(zhǔn)確VSP可直接測(cè)得地震波走時(shí)與深度的關(guān)系；而合成記錄容易出現(xiàn)累加誤差，聲波時(shí)差沒(méi)有淺層速度，無(wú)法避免低降速帶的影響；VSP-LOG剖面是實(shí)際測(cè)量的地震記錄；合成記錄是聲波測(cè)井資料經(jīng)人工計(jì)算獲得的一種人工合成記錄；VSP-LOG剖面測(cè)量不受井筒污染影響；合成記錄容易受井筒污染（密度曲線）；VSP-LOG剖面標(biāo)定對(duì)標(biāo)志層依賴程度較小；而合成記錄必須有標(biāo)志層做控制。結(jié)論3