![T-SZUAVIA 009.10-2019 多旋翼無(wú)人機(jī)系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境試驗(yàn)方法 第10部分:鹽霧試驗(yàn)_第1頁(yè)](http://file4.renrendoc.com/view/018f209167eea3d0026d04a765632089/018f209167eea3d0026d04a7656320891.gif)
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![T-SZUAVIA 009.10-2019 多旋翼無(wú)人機(jī)系統(tǒng)實(shí)驗(yàn)室環(huán)境試驗(yàn)方法 第10部分:鹽霧試驗(yàn)_第3頁(yè)](http://file4.renrendoc.com/view/018f209167eea3d0026d04a765632089/018f209167eea3d0026d04a7656320893.gif)
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文檔簡(jiǎn)介
T/SZUAVIA
009.10—2019 前言
................................................................................
II1
范圍
..............................................................................
12
規(guī)范性引用文件
....................................................................
13
鹽霧試驗(yàn)條件
......................................................................
14
試驗(yàn)設(shè)備要求
......................................................................
2IT/SZUAVIA
009.10—2019
部分:鹽霧試驗(yàn)1 范圍工作的能力。2 規(guī)范性引用文件件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改單)適用于本文件。GJB
150.11A-2009
軍用裝備實(shí)驗(yàn)室環(huán)境試驗(yàn)方法
第11部分:鹽霧試驗(yàn)RTCA/DO-160F
機(jī)載設(shè)備環(huán)境條件和試驗(yàn)程序
第14章:鹽霧3 鹽霧試驗(yàn)條件鹽霧試驗(yàn)條件主要要素包括:鹽溶液濃度、相對(duì)濕度、溫度、鹽霧時(shí)間、貯存時(shí)間、試驗(yàn)周期。a) 鹽溶液。鹽溶液是鹽霧試驗(yàn)的關(guān)鍵要素,直接影響試驗(yàn)結(jié)果,對(duì)于鹽溶液,主要的要求包括:濃度、pH、制備用材。對(duì)于中性鹽霧,各標(biāo)準(zhǔn)中對(duì)鹽溶液的要求如表
11
1
所示。在本標(biāo)準(zhǔn)中采用
中的鹽溶液。表1 鹽溶液要求項(xiàng)目
—86
—2009
GB/T2423.7—2008
GB/T2423.18—2000
GB/T10125—1997
GB/T1771—2007
ASTM—2007濃度 5%±1%(質(zhì)量百分比) (50±5)5%±1%pH
6.5~7.2(35±2)℃
6.5~7.2(35±2)℃
6.5~7.2(35±2)℃
6.5~7.2(20±2)℃
6.5~7.2
6.5~7.2(35±2)℃
6.5~7.2(35±2)℃水
電阻率不低于
Ω的蒸餾水或去離子水
電阻率為1500~2500Ω·m
蒸餾水或去離子水
蒸餾水或去離子水
電導(dǎo)率為20μS/cm蒸餾水或去離子水
GB/T6682導(dǎo)率≤0.5mS/m)
ASTM
四級(jí)水(電導(dǎo)率≤0.5μS/cm)ω(NaCI)
除CI以外的氯化鈉
化學(xué)純
ω(NaI)≤0.1%
總雜質(zhì)≤0.5%
ω(NaI)≤0.1%
總雜質(zhì)≤0.3%
化學(xué)純
≥99.5%ω(NaI)≤0.1%基本不含
鹵化物≤0.1%質(zhì)≤0.3%,ω(NaCI)Cu,Ni
<3×101T/SZUAVIA
009.10—2019注1:①條件試驗(yàn)時(shí),pH
pH。②每一批新配置的溶液都應(yīng)該測(cè)量
pH。4 試驗(yàn)設(shè)備要求4.1 試驗(yàn)箱試驗(yàn)箱所用的材料應(yīng)不會(huì)影響鹽霧的腐蝕效果。a) 使用對(duì)鹽霧特性沒(méi)有影響的支撐架。b) 與無(wú)人機(jī)樣品接觸的所有部件都不能引起電化學(xué)腐蝕。c) 冷凝液不能滴落在無(wú)人機(jī)樣品上。d) 任何與試驗(yàn)箱或無(wú)人機(jī)樣品接觸過(guò)的試驗(yàn)溶液都不能返回到鹽溶液槽中。e) 試驗(yàn)箱應(yīng)有排風(fēng)口以防止試驗(yàn)空間內(nèi)壓力升高。f) 應(yīng)根據(jù)我國(guó)有關(guān)法規(guī)對(duì)廢液進(jìn)行處理。4.2 鹽溶液槽使用不與鹽溶液發(fā)生反應(yīng)的材料制備鹽溶液槽。4.3 鹽溶液注入系統(tǒng)a) 和管路系統(tǒng)應(yīng)使用不與鹽溶液發(fā)生反應(yīng)的材料制成;防止鹽沉積堵塞噴嘴。b) 在下列條件下,在體積小于
0.34m3的試驗(yàn)箱內(nèi)能獲得合適的鹽霧:1) 噴嘴壓力應(yīng)盡可能低到按所要求的速率噴霧;2) 噴嘴的孔徑在
之間;3) 在每
24h
大約霧化
2.8L
當(dāng)采用容積遠(yuǎn)大于0.34m3的試驗(yàn)箱時(shí),上述條件需要修改。4.4 鹽霧收集器用至少2個(gè)鹽霧收集器來(lái)收集鹽溶液樣品。一個(gè)放置在樣品的邊緣最靠近噴嘴處,另一個(gè)也放置在樣品的邊緣但應(yīng)離噴嘴最遠(yuǎn)。若使用多個(gè)噴嘴,此原則同樣適用。收集器的安放位置不應(yīng)被樣品遮蔽,也不能讓收集器收集到從樣品或其他地方滴落的鹽水。4.5 鹽霧試驗(yàn)程序24期內(nèi),至少每間隔就應(yīng)測(cè)量鹽霧沉降率和沉降溶液的值,以保證沉降率在。步驟2:試驗(yàn)樣品在標(biāo)準(zhǔn)大氣環(huán)境溫度和相對(duì)濕度不大于50%條件下干燥24h。在干燥期間不應(yīng)觸動(dòng)試驗(yàn)樣品或?qū)ζ錂C(jī)械特性進(jìn)行任何調(diào)整。步驟3:干燥結(jié)束后如無(wú)其它規(guī)定,應(yīng)將樣品放回鹽霧箱內(nèi)并按步驟1和步驟2再進(jìn)行一次重復(fù)。步驟4:干燥結(jié)束后,啟動(dòng)試驗(yàn)樣品工作,確定其
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