GB/T 34649-2017磁控濺射用釕靶

ICS7715099

H68..

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T34649—2017

磁控濺射用釕靶

Magnetronsputteringrutheniumtarget

2017-09-29發(fā)布2018-04-01實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T34649—2017

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)由中國(guó)有色金屬工業(yè)協(xié)會(huì)提出

。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)有色金屬標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)歸口

(SAC/TC243)。

本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位有研億金新材料有限公司有色金屬技術(shù)經(jīng)濟(jì)研究院

:、。

本標(biāo)準(zhǔn)起草人羅俊鋒丁照崇李勇軍向磊萬(wàn)小勇劉書(shū)芹熊曉東王莊賀昕滕海濤高巖

:、、、、、、、、、、。

Ⅰ

GB/T34649—2017

磁控濺射用釕靶

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了磁控濺射用釕靶的要求試驗(yàn)方法檢驗(yàn)規(guī)則及標(biāo)志包裝運(yùn)輸貯存質(zhì)量證明書(shū)和

、、、、、、

訂貨單或合同內(nèi)容

()。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于微電子領(lǐng)域鍍膜用磁控濺射釕靶以下簡(jiǎn)稱釕靶

()。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

一般公差未注公差的線性和角度尺寸的公差

GB/T1804

燒結(jié)金屬材料不包括硬質(zhì)合金可滲性燒結(jié)金屬材料密度含油率和開(kāi)孔率的

GB/T5163()、

測(cè)定

金屬平均晶粒度測(cè)定方法

GB/T6394

金屬材料中氫氧氮碳和硫分析方法通則

GB/T14265、、、

釕粉化學(xué)分析方法鉛鐵鎳鋁銅銀金鉑銥鈀銠硅量的測(cè)定輝光放電

GB/T23275、、、、、、、、、、、

質(zhì)譜法

濺射靶材背板結(jié)合質(zhì)量超聲波檢驗(yàn)方法

YS/T837-

3術(shù)語(yǔ)和定義

下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件

。

31

.

磁控濺射physicalvapordepositionPVD

;

物理氣相沉積鍍膜的一種方法通過(guò)在靶材表面引入電場(chǎng)和磁場(chǎng)利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來(lái)提

:,

高等離子體密度并利用電場(chǎng)對(duì)惰性氣體通常為氣粒子加速轟擊靶表面從而濺射出材料原子或

,(Ar),

原子團(tuán)最后沉積形成膜鍍層

,。

32

.

磁控濺射用釕靶magnetronsputteringrutheniumtarget

用金屬釕制備的用于磁控濺射的鈀材用于制備釕膜鍍層

,。

4要求

41產(chǎn)品分類

.

411釕靶按化學(xué)成分分為四個(gè)牌號(hào)

..Ru-99.95、Ru-99.99、Ru-99.995、Ru-99.999。

412按靶材焊接方式可分為單體型和焊接型背板材料包括鋁合金銅及銅合金

..,、。

413釕靶按截面形狀可分為圓形