標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 32999-2016 表面化學(xué)分析 深度剖析 用機械輪廓儀柵網(wǎng)復(fù)型法測量濺射速率》是一項國家標(biāo)準(zhǔn)，主要針對表面化學(xué)分析領(lǐng)域中利用機械輪廓儀通過柵網(wǎng)復(fù)型技術(shù)來測定材料表面在離子束濺射過程中的去除速率。該標(biāo)準(zhǔn)適用于各種固體材料，尤其是那些需要進(jìn)行精確表面深度剖析的樣品。

標(biāo)準(zhǔn)詳細(xì)規(guī)定了實驗所需的儀器設(shè)備、測試條件以及操作步驟。其中，機械輪廓儀是一種能夠高精度地測量物體表面形貌變化的工具，在此過程中扮演關(guān)鍵角色；而柵網(wǎng)復(fù)型法則是一種特殊的樣本制備方法，它允許研究人員更準(zhǔn)確地追蹤并量化由于濺射作用導(dǎo)致的表面形態(tài)改變情況。

按照該標(biāo)準(zhǔn)執(zhí)行時，首先需準(zhǔn)備一個具有已知結(jié)構(gòu)特征（如特定圖案或紋理）的標(biāo)準(zhǔn)參考樣品，并在其上覆蓋一層薄金屬膜形成柵網(wǎng)。接著使用離子束對該樣品進(jìn)行處理，同時利用機械輪廓儀定期記錄下因濺射引起的變化。通過對這些數(shù)據(jù)進(jìn)行分析，可以計算出單位時間內(nèi)材料被移除的具體量值，即所謂的“濺射速率”。


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....

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  • 正在執(zhí)行有效
  • 2016-10-13 頒布
  • 2017-09-01 實施
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文檔簡介

ICS7104040

G04..

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T32999—2016/ISO/TR223352007

:

表面化學(xué)分析深度剖析用機械輪

廓儀柵網(wǎng)復(fù)型法測量濺射速率

Surfacechemicalanalsis—Dethrofilin—Measurementofsutterinrate

yppgpg:

mesh-replicamethodusingamechanicalstylusprofilometer

(ISO/TR22335:2007,IDT)

2016-10-13發(fā)布2017-09-01實施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會

GB/T32999—2016/ISO/TR223352007

:

目次

前言

…………………………Ⅲ

引言

…………………………Ⅳ

范圍

1………………………1

術(shù)語和定義

2………………1

符號和縮略語

3……………1

原理

4………………………2

方法

5………………………2

獲取柵網(wǎng)復(fù)型圖形

5.1…………………2

用輪廓儀測量濺射坑深度

5.2…………7

計算濺射速率

5.3………………………9

實驗室間聯(lián)合比對結(jié)果總結(jié)

6……………9

附錄資料性附錄試樣表面和離子槍的幾何結(jié)構(gòu)配置

A()……………10

附錄資料性附錄柵網(wǎng)復(fù)型圖形與網(wǎng)孔尺寸的關(guān)系

B()………………13

參考文獻(xiàn)

……………………16

Ⅰ

GB/T32999—2016/ISO/TR223352007

:

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)使用翻譯法等同采用表面化學(xué)分析深度剖析用機械輪廓儀柵網(wǎng)

ISO/TR22335:2007《

復(fù)型法測量濺射速率

》。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國微束標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會提出并歸口

(SAC/TC38)。

本標(biāo)準(zhǔn)負(fù)責(zé)起草單位北京師范大學(xué)分析測試中心清華大學(xué)分析中心

:、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人吳正龍姚文清

:、。

Ⅲ

GB/T32999—2016/ISO/TR223352007

:

引言

本標(biāo)準(zhǔn)給出了利用俄歇電子能譜和射線光電子能譜測定深度剖析離子濺射速率的

(AES)X(XPS)

方法試樣的離子濺射面積范圍為22首先在試樣上放置一個合適大小并和試樣表

,0.4mm~3.0mm。

面接觸的柵網(wǎng)通過離子濺射在試樣表面上復(fù)制一個柵網(wǎng)圖形然后通過機械輪廓儀測量出濺射深度

,。,

假設(shè)離子濺射速率恒定則濺射速率等于濺射深度除以濺射時間本標(biāo)準(zhǔn)提供了一種將深度剖析中離

,。

子濺射時間轉(zhuǎn)換為濺射深度的方法

。

Ⅳ

GB/T32999—2016/ISO/TR223352007

:

表面化學(xué)分析深度剖析用機械輪

廓儀柵網(wǎng)復(fù)型法測量濺射速率

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了利用俄歇電子能譜和射線光電子能譜測定深度剖析離子濺射速率的

(AES)X(XPS)

方法試樣的離子濺射面積范圍為22本標(biāo)準(zhǔn)只適用于橫向均勻的體相材料或單層

,0.4mm~3.0mm。

材料其離子濺射速率由濺射深度與濺射時間確定濺射深度通過機械探針輪廓儀測得

,,。

本標(biāo)準(zhǔn)提供了一種將深度剖析中的離子濺射時間轉(zhuǎn)換為濺射深度的方法并假設(shè)濺射速率恒定

,。

本方法不是為掃描探針顯微系統(tǒng)設(shè)計的因此不能用掃描探針顯微系統(tǒng)評價該方法本方法不適用于

,。

濺射面積小于2的情況也不適用于濺射誘導(dǎo)的表面粗糙度與被測區(qū)域的濺射深度相比較明顯

0.4mm,

的情況

。

2術(shù)語和定義

下列術(shù)語和定義適用于本文件

。

21

.

濺射時間sputteringtime

離子轟擊試樣表面的時間

。

22

.

濺射深度sputtereddepth

被分析試樣原始表面與經(jīng)深度剖析剝離一定量物質(zhì)后的表面之間的垂直距離[1]

。

23

.

濺射速率sputteringrate

濺射深度與濺射時間的比值

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