標(biāo)準(zhǔn)解讀

《GB/T 30858-2014 藍(lán)寶石單晶襯底拋光片》是一項(xiàng)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),主要針對(duì)用于電子器件、光學(xué)元件等領(lǐng)域的藍(lán)寶石單晶襯底拋光片的質(zhì)量要求進(jìn)行了規(guī)定。該標(biāo)準(zhǔn)涵蓋了產(chǎn)品的分類與標(biāo)記、技術(shù)要求、試驗(yàn)方法、檢驗(yàn)規(guī)則以及包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸和貯存等方面的內(nèi)容。

在產(chǎn)品分類上,根據(jù)其用途不同,藍(lán)寶石單晶襯底拋光片被分為不同類型,并且每種類型都有相應(yīng)的規(guī)格尺寸要求。此外,對(duì)于材料的晶體取向也有明確的規(guī)定,以確保滿足特定應(yīng)用領(lǐng)域的需求。

技術(shù)要求方面,《GB/T 30858-2014》對(duì)藍(lán)寶石單晶襯底拋光片提出了嚴(yán)格的物理性能指標(biāo),包括但不限于外觀質(zhì)量、幾何尺寸偏差、表面粗糙度、晶體完整性及純度等。其中特別強(qiáng)調(diào)了表面平整度的重要性,因?yàn)檫@對(duì)于后續(xù)加工或直接使用都非常關(guān)鍵。

為了驗(yàn)證這些技術(shù)參數(shù)是否達(dá)標(biāo),標(biāo)準(zhǔn)還詳細(xì)列出了相應(yīng)的檢測(cè)方法。這不僅包括了常規(guī)的視覺檢查,也涉及到利用專業(yè)儀器進(jìn)行更精確測(cè)量的技術(shù)手段。比如通過原子力顯微鏡來測(cè)定表面粗糙度值;采用X射線衍射儀測(cè)試晶體結(jié)構(gòu)等。

關(guān)于檢驗(yàn)規(guī)則,《GB/T 30858-2014》明確了抽樣方案、合格判定條件等內(nèi)容,確保出廠前每個(gè)批次的產(chǎn)品都能達(dá)到規(guī)定的質(zhì)量水平。同時(shí),還給出了不合格品處理的具體指導(dǎo)原則。

最后,在包裝、標(biāo)志、運(yùn)輸和貯存部分,則是對(duì)如何妥善保護(hù)這些精密材料提出了建議,比如應(yīng)使用防靜電材料包裝、避免強(qiáng)烈光照直射等措施,以防止在物流過程中造成損壞。


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....

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  • 正在執(zhí)行有效
  • 2014-07-24 頒布
  • 2015-04-01 實(shí)施
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文檔簡(jiǎn)介

ICS29045

H83.

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)

GB/T30858—2014

藍(lán)寶石單晶襯底拋光片

Polishedmono-crystallinesapphiresubstrateproduct

2014-07-24發(fā)布2015-04-01實(shí)施

中華人民共和國(guó)國(guó)家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布

中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

GB/T30858—2014

前言

本標(biāo)準(zhǔn)按照給出的規(guī)則起草

GB/T1.1—2009。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)及材料分技術(shù)委員會(huì)

(SAC/TC203)(SAC/TC

共同提出并歸口

203/SC2)。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位協(xié)鑫光電科技控股有限公司中國(guó)科學(xué)院上海光機(jī)所浙江昀豐新能源科技

:、、

有限公司浙江上城科技有限公司江蘇吉星新材料有限公司

、、。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人魏明德黃朝暉劉逸楓杭寅徐永亮袁忠純蔡金榮

:、、、、、、。

GB/T30858—2014

藍(lán)寶石單晶襯底拋光片

1范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了藍(lán)寶石單晶襯底拋光片的要求試驗(yàn)方法檢驗(yàn)規(guī)則標(biāo)志包裝運(yùn)輸儲(chǔ)存質(zhì)量證

、、、、、、、

明書與訂貨單或合同內(nèi)容

()。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于單面拋光藍(lán)寶石襯底片以下簡(jiǎn)稱藍(lán)寶石襯底片

()。

2規(guī)范性引用文件

下列文件對(duì)于本文件的應(yīng)用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文

。,

件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件

。,()。

產(chǎn)品幾何技術(shù)規(guī)范表面結(jié)構(gòu)輪廓法表面粗糙度參數(shù)及其數(shù)值

GB/T1031(GPS)

半導(dǎo)體單晶晶向測(cè)定方法

GB/T1555

計(jì)數(shù)抽樣檢驗(yàn)程序第部分按接收質(zhì)量限檢索的逐批檢驗(yàn)抽樣計(jì)劃

GB/T2828.11:(AQL)

硅片彎曲度測(cè)試方法

GB/T6619

硅片翹曲度非接觸式測(cè)試方法

GB/T6620

硅拋光片表面質(zhì)量目測(cè)檢驗(yàn)方法

GB/T6624

硅及其他電子材料晶片參考面長(zhǎng)度測(cè)量方法

GB/T13387

硅片直徑測(cè)量方法

GB/T14140

半導(dǎo)體材料術(shù)語(yǔ)

GB/T14264

硅拋光片表面顆粒測(cè)試方法

GB/T19921

藍(lán)寶石襯底片厚度及厚度變化測(cè)試方法

GB/T30857

3術(shù)語(yǔ)和定義

界定的以及下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件

GB/T14264。

31

.

藍(lán)寶石sapphire

可以用來外延生長(zhǎng)的有確定晶向的人工生長(zhǎng)單晶氧化鋁材料

、。

32

.

襯底substrate

用于生長(zhǎng)硅氮化鎵或其他材料的拋光藍(lán)寶石晶片

、。

33

.

局部厚度變化localthicknessvariation

當(dāng)藍(lán)寶石晶片的背面為理想平面時(shí)在晶片表面的局部區(qū)域內(nèi)相對(duì)于特定參考平面的最大偏差

,,,

通常報(bào)告晶片上所有局部定域的最大值

。

34

.

藍(lán)寶石晶棒sapphireingot

依特定軸向生長(zhǎng)的

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