標準解讀
《GB/T 23414-2009 微束分析 掃描電子顯微術(shù) 術(shù)語》是中國國家標準之一,主要規(guī)定了與掃描電子顯微鏡及其應(yīng)用相關(guān)的專業(yè)術(shù)語定義。該標準適用于科學研究、教育培訓以及相關(guān)技術(shù)文檔編寫等領(lǐng)域,旨在通過統(tǒng)一術(shù)語來促進交流和理解的一致性。
在內(nèi)容上,《GB/T 23414-2009》涵蓋了從基礎(chǔ)概念到高級技術(shù)細節(jié)的廣泛范圍,包括但不限于:
- 基礎(chǔ)原理:如電子槍、透鏡系統(tǒng)等構(gòu)成部分的工作機制。
- 技術(shù)參數(shù):涉及分辨率、放大倍數(shù)等關(guān)鍵性能指標的具體含義。
- 應(yīng)用領(lǐng)域:列舉了SEM(Scanning Electron Microscope, 掃描電子顯微鏡)在材料科學、生物學等多個學科中的具體用途。
- 樣品制備方法:介紹了不同類型樣品準備時所采用的技術(shù)手段。
- 成像模式:描述了二次電子像、背散射電子像等多種成像方式的特點及應(yīng)用場景。
- 數(shù)據(jù)處理:涉及到圖像分析軟件的功能介紹及其對實驗結(jié)果的影響。
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2009-04-01 頒布
- 2009-12-01 實施
文檔簡介
犐犆犛01.040.37:37.020
犖33
中華人民共和國國家標準
犌犅/犜23414—2009/犐犛犗22493:2008
微束分析掃描電子顯微術(shù)術(shù)語
犕犻犮狉狅犫犲犪犿犪狀犪犾狔狊犻狊—犛犮犪狀狀犻狀犵犲犾犲犮狋狉狅狀犿犻犮狉狅狊犮狅狆狔—
犞狅犮犪犫狌犾犪狉狔
(ISO22493:2008,IDT)
20090401發(fā)布20091201實施
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局
發(fā)布
中國國家標準化管理委員會
書
犌犅/犜23414—2009/犐犛犗22493:2008
目次
前言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅰ
引言!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!Ⅱ
1范圍!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1
2縮略語!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1
3SEM物理基礎(chǔ)術(shù)語!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!1
4SEM儀器術(shù)語!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!5
5SEM成像和圖像處理術(shù)語!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!10
6SEM圖像詮釋和分析術(shù)語!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!14
7SEM圖像放大倍率和分辨率校正及測量術(shù)語!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!16
參考文獻!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!18
中文索引!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!19
英文索引!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!!22
書
犌犅/犜23414—2009/犐犛犗22493:2008
前言
本標準等同采用國際標準ISO22493:2008《微束分析掃描電子顯微術(shù)術(shù)語》(英文版)。
為了便于使用,本標準做了下列編輯性修改:
———“本國際標準”一詞改為“本標準”;
———刪除國際標準的前言。
———“掃描電子顯微鏡”簡稱“掃描電鏡”。
———增加了中文索引。
本標準由全國微束分析標準化技術(shù)委員會提出并歸口。
本標準起草單位:中國科學院上海硅酸鹽研究所。
本標準主要起草人:李香庭、曾毅。
Ⅰ
犌犅/犜23414—2009/犐犛犗22493:2008
引言
SEM技術(shù)通常用于觀察和表征金屬、合金、陶瓷、玻璃、礦物、聚合物和粉體等固體材料在微米納
米范圍內(nèi)的形貌和組織。另外,應(yīng)用聚焦離子束與掃描電鏡分析技術(shù)能產(chǎn)生3維結(jié)構(gòu)。SEM技術(shù)的物
理基礎(chǔ)是電子光學、電子散射和二次電子發(fā)射的機理。
SEM技術(shù)是微束分析(MBA)的一個主要分支,已廣泛應(yīng)用于高技術(shù)工業(yè)、基礎(chǔ)工業(yè)、冶金和地質(zhì)、
生物和醫(yī)藥、環(huán)境保護和商貿(mào)等領(lǐng)域。各技術(shù)領(lǐng)域的術(shù)語標準化是該領(lǐng)域標準化發(fā)展的先決條件之一。
本標準是有關(guān)SEM的術(shù)語,它包含掃描電鏡在科學和工程領(lǐng)域?qū)嵺`中共同應(yīng)用的術(shù)語定義。本
標準是ISO/TC202微束分析技術(shù)委員會,SC1術(shù)語分技術(shù)委員會為完成微束分析(MBA)領(lǐng)域中電子
探針顯微分析(EPMA)、掃描電子顯微術(shù)(SEM)、分析電子顯微術(shù)(AEM)、能譜法(EDX)等系列標準中
的第二個標準,主要內(nèi)容包括:
SEM物理基礎(chǔ)術(shù)語;
SEM儀器術(shù)語;
SEM成像和圖像處理術(shù)語;
SEM圖像詮釋和分析術(shù)語;
SEM圖像放大倍率和分辯率校正及測量術(shù)語。
Ⅱ
犌犅/犜23414—2009/犐犛犗22493:2008
微束分析掃描電子顯微術(shù)術(shù)語
1范圍
本標準定義了掃描電子顯微術(shù)(SEM)實踐中使用的術(shù)語。包括一般術(shù)語和按技術(shù)分類的具體概
念的術(shù)語,也包括已經(jīng)在ISO23833中定義的術(shù)語。
本標準適用于所有有關(guān)SEM實踐的標準化文件。另外,本標準的某些術(shù)語定義,也適用于相關(guān)領(lǐng)
域的文件〔例如:電子探針顯微分析(EPMA)、分析電子顯微術(shù)(AEM)、能譜法(EDX)等〕。
2縮略語
AEManalyticalelectronmicroscopy/microscope分析電子顯微術(shù)/分析電子顯微鏡
BSE(BE)backscatteredelectron背散射電子
CPSEMcontrolledpressurescanningelectronmicroscope可控氣壓掃描電鏡
CRTcathoderaytube陰極射線管
EBICelectronbeaminducedcurrent電子束感生電流
EBSDelectronbackscatter/backscatteringdiffraction電子背散射衍射
EDSenergydispersiveXrayspectrometer/spectrometry能譜儀/能譜法
EDXenergydispersiveXrayspectrometry能譜法
EPMAelectronprobemicroanalysis/analyzer電子探針顯微分析/電子探針儀
ESEMenvironmentalscanningelectronmicroscope/microscopy環(huán)境掃描電鏡/環(huán)境掃描電子顯
微術(shù)
FWHMfullwidthathalfmaximum譜峰半高寬
SE
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