GB/T 15909-2009電子工業(yè)用氣體硅烷(SiH4)

犐犆犛７１．１００．２０

犌８６

中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)

犌犅／犜１５９０９—２００９

代替ＧＢ／Ｔ１５９０９—１９９５

電子工業(yè)用氣體硅烷（犛犻犎４）

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２００９１０３０發(fā)布２０１００５０１實(shí)施

中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局

發(fā)布

中國國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì)

書

犌犅／犜１５９０９—２００９

前言

本標(biāo)準(zhǔn)代替ＧＢ／Ｔ１５９０９—１９９５《電子工業(yè)用氣體硅烷》。

本標(biāo)準(zhǔn)與ＧＢ／Ｔ１５９０９—１９９５相比主要變化如下：

———修改規(guī)范性引用文件（ＧＢ／Ｔ１５９０９—１９９５的第２章，本版的第２章）；

———修改技術(shù)指標(biāo)內(nèi)容：增加一類產(chǎn)品純度和雜質(zhì)含量，用Ｃｌ－表示氯化物總量（ＧＢ／Ｔ１５９０９—

１９９５的３．１，本版的３．１）；

———修改電性能規(guī)格（ＧＢ／Ｔ１５９０９—１９９５的３．２，本版的３．３）；

———增加硅烷的采樣安全要求（見４．１．２）；

———增加對硅烷尾氣處理的要求（見４．３）；

———修改一氧化碳、二氧化碳、氧和氮含量的測定（ＧＢ／Ｔ１５９０９—１９９５的４．２、４．６，本版的４．４）；

———修改測定氯化物含量所用試劑和溶液的內(nèi)容（ＧＢ／Ｔ１５９０９—１９９５的４．３．４，本版的４．５．４）；

———修改測定氯化物含量結(jié)果處理公式（ＧＢ／Ｔ１５９０９—１９９５的４．３．６，本版的４．５．６）；

———增加其他方法測定氯化物含量（見４．５．７）；

———修改烴（Ｃ１～Ｃ３）含量的測定（ＧＢ／Ｔ１５９０９—１９９５的４．４，本版的４．６）；

———增加其他方法測定氫含量（見４．７．６）；

———增加其他方法測定水含量（見４．８）；

———增加微量甲硅醚，乙硅烷和甲基硅烷含量的測定（見４．９）；

———增加金屬離子含量的測定（見４．１０）；

———修改標(biāo)志、包裝、貯運(yùn)及安全（ＧＢ／Ｔ１５９０９—１９９５的第５章，本版的第５章）。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)提出。

本標(biāo)準(zhǔn)由全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(huì)氣體分會(huì)歸口。

本標(biāo)準(zhǔn)起草單位：浙江大學(xué)材化學(xué)院半導(dǎo)體材料研究所、西南化工研究設(shè)計(jì)院。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：余京松、周鵬云。

本標(biāo)準(zhǔn)所代替標(biāo)準(zhǔn)的歷次版本發(fā)布情況為：

———ＧＢ／Ｔ１５９０９—１９９５。

Ⅰ

書

犌犅／犜１５９０９—２００９

電子工業(yè)用氣體硅烷（犛犻犎４）

１范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了硅烷氣體的技術(shù)要求、試驗(yàn)方法以及包裝、標(biāo)志、貯運(yùn)及安全。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于電子工業(yè)中多晶硅和單晶硅外延淀積、二氧化硅的低溫化學(xué)汽相淀積、非晶硅薄膜淀

積等。

分子式：ＳｉＨ４。

相對分子質(zhì)量：３２．１１７（按２００５年國際相對原子質(zhì)量）。

２規(guī)范性引用文件

下列文件中的條款通過本標(biāo)準(zhǔn)的引用而成為本標(biāo)準(zhǔn)的條款。凡是注日期的引用文件，其隨后所有

的修改單（不包括勘誤的內(nèi)容）或修訂版均不適用于本標(biāo)準(zhǔn)，然而，鼓勵(lì)根據(jù)本標(biāo)準(zhǔn)達(dá)成協(xié)議的各方研究

是否可使用這些文件的最新版本。凡是不注日期的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

ＧＢ１９０—２００９危險(xiǎn)貨物包裝標(biāo)志

ＧＢ／Ｔ３７２３工業(yè)用化學(xué)產(chǎn)品采樣安全通則

ＧＢ５０９９鋼質(zhì)無縫氣瓶

ＧＢ／Ｔ５８３２．１氣體中濕度的測定電解法

ＧＢ７１４４氣瓶顏色標(biāo)志

ＧＢ／Ｔ８９８４氣體中一氧化碳、二氧化碳和碳?xì)浠衔锏臏y定氣相色譜法

ＧＢ１１６４０鋁合金無縫氣瓶

ＧＢ１４１９３液化氣體氣瓶充裝規(guī)定

氣瓶安全監(jiān)察規(guī)程

壓力容器安全技術(shù)監(jiān)察規(guī)程

３技術(shù)要求

３．１技術(shù)指標(biāo)

硅烷的質(zhì)量應(yīng)符合表１的要求。重金屬含量符合表２的要求。

表１技術(shù)指標(biāo)

項(xiàng)目指標(biāo)

－２

硅烷（ＳｉＨ４）純度（摩爾分?jǐn)?shù)）／１０≥９９．９９４９９．９５

－６

一氧化碳（ＣＯ）和二氧化碳（ＣＯ２）總含量（摩爾分?jǐn)?shù)）／１０＜０．２５

氯化物總量（摩爾分?jǐn)?shù)）（包括氯硅烷，ＨＣｌ等可離子化的氯化物，

１５

用Ｃｌ－表示）／１０－６＜

－６

烴（Ｃ１～Ｃ３）含量（摩爾分?jǐn)?shù)）／１０＜０．２１０

－６

氫（Ｈ２）含量（摩爾分?jǐn)?shù)）／１０＜５０４００

－６

氮（Ｎ２）含量（摩爾分?jǐn)?shù)）／１０＜１５

氧（氬）含量（摩爾分?jǐn)?shù)）／１０－６