標(biāo)準(zhǔn)解讀

GB/T 14141-1993 是一項(xiàng)中國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn),全稱為《硅外延層、擴(kuò)散層和離子注入層薄層電阻的測(cè)定 直排四探針?lè)ā?。該?biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用直排四探針技術(shù)來(lái)測(cè)量硅半導(dǎo)體材料中外延層、擴(kuò)散層及離子注入層的薄層電阻的方法、設(shè)備要求、測(cè)試步驟以及數(shù)據(jù)處理方法。以下是其主要內(nèi)容的闡述:

標(biāo)準(zhǔn)適用范圍

本標(biāo)準(zhǔn)適用于測(cè)量硅半導(dǎo)體晶片上的外延層、擴(kuò)散層和離子注入層的電阻率(薄層電阻),這些層通常用于集成電路、功率器件等電子元件的制造過(guò)程中。測(cè)量的薄層厚度范圍一般在幾百納米至幾微米之間。

測(cè)試原理

直排四探針?lè)ɑ谒奶结樇夹g(shù),其中四個(gè)探針以直線排列接觸樣品表面。通過(guò)施加恒定電流于外側(cè)的兩個(gè)探針,并測(cè)量?jī)?nèi)側(cè)兩個(gè)探針之間的電壓降,可以依據(jù)歐姆定律計(jì)算出薄層電阻。這種方法能夠較為準(zhǔn)確地測(cè)量薄層電阻,同時(shí)減少因接觸電阻和樣品厚度不均勻性帶來(lái)的誤差。

設(shè)備要求

  • 四探針測(cè)試儀:應(yīng)具備穩(wěn)定且可調(diào)的直流電源,用于提供測(cè)試電流。
  • 探針:探針材質(zhì)、直徑、排列間距需符合標(biāo)準(zhǔn)要求,確保測(cè)量精度。
  • 樣品準(zhǔn)備:樣品表面需清潔、平整,無(wú)明顯損傷或污染,以保證測(cè)試結(jié)果的可靠性。

測(cè)試步驟

  1. 樣品準(zhǔn)備:確保樣品符合測(cè)試前的處理要求,如去污、退火等。
  2. 探針布置:按照標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的間距和對(duì)稱性放置探針于樣品表面。
  3. 電流與電壓測(cè)量:應(yīng)用恒定電流于外側(cè)探針,測(cè)量?jī)?nèi)側(cè)探針間的電壓。
  4. 數(shù)據(jù)記錄:記錄不同電流下的電壓值,進(jìn)行多次測(cè)量以提高數(shù)據(jù)準(zhǔn)確性。
  5. 計(jì)算薄層電阻:利用測(cè)量得到的數(shù)據(jù),根據(jù)四探針?lè)ǖ睦碚摴接?jì)算薄層電阻。

數(shù)據(jù)處理

  • 應(yīng)考慮探針針尖半徑、接觸電阻等因素的影響,必要時(shí)進(jìn)行相應(yīng)的校正。
  • 通過(guò)多點(diǎn)測(cè)量取平均值,以減小隨機(jī)誤差。
  • 分析測(cè)試結(jié)果的一致性和重復(fù)性,確保數(shù)據(jù)的有效性。

標(biāo)準(zhǔn)的重要性

此標(biāo)準(zhǔn)為硅基半導(dǎo)體材料的薄層電阻測(cè)量提供了統(tǒng)一的方法和要求,對(duì)于保證半導(dǎo)體器件的性能評(píng)估、質(zhì)量控制具有重要意義。它有助于半導(dǎo)體行業(yè)內(nèi)的標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)流程,提升產(chǎn)品的一致性和可靠性。


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  • 1993-02-06 頒布
  • 1993-10-01 實(shí)施
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UDC669.782H21中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T14141-93硅外延層、擴(kuò)散層和離子注人層薄層電阻的測(cè)定直排四探針?lè)═estmethodforsheetresistanceofsiliconepitaxialdiffusedandiion-implantedlayersusingacollinearfour-probearray1993-02-06發(fā)布1993-10-01實(shí)施國(guó)家技術(shù)監(jiān)督局發(fā)布

中華人民共和國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)硅外延層、擴(kuò)散層和離子注人層直排四探針?lè)℅B/T14141-93薄層電阻的測(cè)定Testmethodforsheetresistanceofsiliconepitaxial.diffusedandion-implantedlayersusingacollinearfour-probearray主題內(nèi)容與適用范臣本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用直排四探針測(cè)量硅外延層、擴(kuò)散層和離子注入層薄層電阻的方法,本標(biāo)淮適用于測(cè)量直徑大于10.0mm用外延、擴(kuò)散、離子注入到硅圓片表面上或表面下形成的薄層的平均薄層電阻。硅片基體導(dǎo)電類型與被測(cè)薄層相反。對(duì)于厚度為0.2~3m的薄層,測(cè)量范圍為250~50000;對(duì)于厚度不小于3m的薄層,薄層電阻的測(cè)量下限可達(dá)10Q。2引用標(biāo)準(zhǔn)GB6615桂片電阻率的直排四探針測(cè)試方法GB11073硅片徑向電阻率變化的測(cè)量方法方法提要使用直排四探針測(cè)量裝暨、使直流電流通過(guò)試樣上兩外探針,測(cè)量?jī)蓛?nèi)探針之間的電位差,計(jì)算出薄層電阻。4試劑4.1氫氟酸(01.15g/mL)4.2水,電阻率大于2MQ·cm(25℃).4.3三氯乙烯.95%。4.4甲醇.99.5%。4.5干燥氮?dú)狻?瀏量?jī)x器5.1探針系統(tǒng)5.1.1探針為具有45°~150°角的圓錐形碳化探針。針尖半徑分別為35~100m、100~250㎡m的半球形或半徑為50~125Pm的平的圓截面。5.1.2探針與試樣壓力分為小于0.3N及0.3~0.8N兩種。5.1.3探針(帶有彈簧及外引線)之間或探針系統(tǒng)其他部分之間的絕緣電阻至少為10°0。5.1.4探針排列和間距:四探針應(yīng)以等距離直線排列。探針間距及針尖狀況應(yīng)

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