
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文檔簡介
會(huì)計(jì)學(xué)1ch材料表面與界面實(shí)用2最常見的材料表界面類型(按形成途徑劃分)機(jī)械作用界面化學(xué)作用界面固體結(jié)合界面液相或氣相沉積界面凝固共生界面粉末冶金界面黏結(jié)界面熔焊界面第1頁/共23頁38.1.1物質(zhì)表面
固體表面的定義:晶體三維周期結(jié)構(gòu)和真空之間的過渡區(qū)域。理想表面清潔表面吸附表面
理想表面:表面結(jié)構(gòu)不變地延續(xù)到表面后中斷,是理論
上結(jié)構(gòu)完整的二維點(diǎn)陣平面,忽略了熱運(yùn)動(dòng)熱擴(kuò)散和熱
缺陷及表面的物理化學(xué)現(xiàn)象等。
d理想表面結(jié)構(gòu)第2頁/共23頁4清潔表面:是指不存在任何吸附、催化反應(yīng)、雜質(zhì)擴(kuò)散等物理化學(xué)效應(yīng)的表面,沒有表面污染的實(shí)際表面臺(tái)階表面弛豫表面結(jié)構(gòu)重構(gòu)表面[112][111][110](001)周期臺(tái)階表面臺(tái)階表面不是一個(gè)平面,它是由有規(guī)則的或不規(guī)則的臺(tái)階的表面所組成第3頁/共23頁5弛豫表面結(jié)構(gòu)dd0(2)弛豫表面表面層之間以及表面和體內(nèi)原子層之間的垂直距離和體內(nèi)原子層間距相比有所膨脹和壓縮現(xiàn)象第4頁/共23頁6(3)重構(gòu)表面:表面原子層在水平方向上的周期性(晶格基矢as)不同于體內(nèi)晶格基矢a,但垂直方向上的層間距離與內(nèi)部層間距離相同密排六方重構(gòu)表面示意圖asa第5頁/共23頁7吸附表面:在實(shí)際存在的表面,普遍存在吸附物質(zhì)。吸附物質(zhì):表面環(huán)境中的氣相分子、原子及其化合物,來自體內(nèi)擴(kuò)散出來的元素物質(zhì)。吸附形式:可以被簡單吸附在晶體表面可以外延生長在晶體表面構(gòu)成新的表面層進(jìn)入表面層一定深度同表面原子形成有序的表面合金。第6頁/共23頁88.1.2固體的表面自由能和表面張力表面能:每增加單位表面積時(shí),體系自由能的增量單位J·m-2表面張力:擴(kuò)張表面單位長度所需要的力。與液體相比:1)固體的表面自由能中包含了彈性能。表面張力在數(shù)值上不等于表面自由能;2)固體的表面上的原子組成和排列是各向異性的,張力是各向異性的,不同晶面的表面自由能也不相同。3)實(shí)際固體的表面絕大多數(shù)處于非平衡狀態(tài),決定固體表面形態(tài)的主要是形成固體表面時(shí)的條件以及它所經(jīng)歷的歷史。4)固體的表面自由能和表面張力的測(cè)定非常困難。第7頁/共23頁98.1.4固液界面與潤濕
機(jī)械潤滑、注水采油、油漆涂布、金屬焊接、搪瓷坯釉、陶瓷/金屬的封接等工藝和理論都與潤濕過程有關(guān)。
潤濕的熱力學(xué)定義:固體與液體接觸后能使體系的吉布斯自由能降低,稱為潤濕。
潤濕形式:
附著潤濕
鋪展?jié)櫇?/p>
浸漬潤濕
第8頁/共23頁10
鋪展?jié)櫇?/p>
概念:液滴落在清潔平滑固體表面的過程。
忽略液體重力和粘度影響,則鋪展是由固/氣(SG)、固/液(SL)和液/氣(LG)三個(gè)界面張力所決定:
式中θ是潤濕角;F稱潤濕張力。
θ>90°不潤濕;
θ<90°潤濕;
θ=0°完全潤濕。
(自由鋪展)
潤濕的先決條件是>。
第9頁/共23頁118.1.5固固界面與黏附固固界面:結(jié)構(gòu)與組分中存在不同的兩個(gè)固相之間的界面黏附:兩黏附固體界面上的黏結(jié)現(xiàn)象,是通過跨越兩固相界面的相互作用而產(chǎn)生的。βaγαβaβγαγβWa=γα+γβ-γαβaaγαβaγαaγαaWa=2γαWa為黏附功第10頁/共23頁12
8.1.2.1小角晶界及界面能
●
小角晶界:兩晶粒間的位向差小于10°;
大角晶界:位向差超過10°。
●小角晶界又可分:傾轉(zhuǎn)晶界(一系列刃位錯(cuò)構(gòu)成)
扭轉(zhuǎn)晶界(螺位錯(cuò)構(gòu)成)
第11頁/共23頁13
對(duì)稱傾轉(zhuǎn)晶界和扭轉(zhuǎn)晶界
(1)對(duì)稱傾轉(zhuǎn)晶界
對(duì)稱傾轉(zhuǎn)晶界可以看作
是取向一致的兩個(gè)晶體
相互傾轉(zhuǎn)角形成的
界面。
分類(2)不對(duì)稱傾斜界面:晶界看成兩組互相垂直的刃型位錯(cuò)排列而成的。(3)扭轉(zhuǎn)晶界:將一塊晶體沿橫斷面切開,并使上下部分晶體繞軸轉(zhuǎn)動(dòng)θ角,再與下部分晶體粘在一起形成??煽闯墒怯苫ハ嘟徊娴穆菸诲e(cuò)所組成。第12頁/共23頁14大角度晶界
大角度晶界:為原子呈不規(guī)則排列的一過渡層。大多數(shù)晶粒之間的晶界都屬于大角度晶界。第13頁/共23頁15晶界特征(1)晶界處點(diǎn)陣畸變大,存在晶界能。
(2)常溫下晶界的存在會(huì)對(duì)位錯(cuò)的運(yùn)動(dòng)起阻礙運(yùn)動(dòng),使塑型變形抗力提高,使晶體(材料)的硬度和強(qiáng)度提高。(3)晶界處原子具有較高的動(dòng)能,且晶界處存在大量缺陷。原子在晶界處擴(kuò)散比晶內(nèi)快得多。
(4)固態(tài)相變時(shí)易在晶界處形成新核。(5)晶界上富集雜質(zhì)原子多,熔點(diǎn)低
(6)晶界腐蝕速度比晶內(nèi)快。(7)晶界具有不同與晶內(nèi)的物理性質(zhì)。第14頁/共23頁168.2.1.4相界1.共格界面(coherentphaseboundary):特征:界面兩側(cè)的保持一定的位向關(guān)系,沿界面兩相具有相同或近似的原子排列,兩相在界面上原子匹配得好,界面上能量高。理想的完全共格界面只有在孿晶面(界)。2.半共格界面(semi-coherentphaseboundary)
特征:沿相界面每隔一定距離產(chǎn)生一個(gè)刃型位錯(cuò),除刃型位錯(cuò)線上的原子外,其余原子都是共格的。所以半共格界面是由共格區(qū)和非共格區(qū)相間組成。半共格界面上的位錯(cuò)間距取決于相界處兩相匹配晶面的錯(cuò)配度(δ)3.非共格界面(noncoherentphaseboundary)特征:原子不規(guī)則排列的薄層為兩相的過渡層。第15頁/共23頁17第16頁/共23頁18
8.3界面的偏聚與遷移
8.3.1晶界平衡偏析
●晶界偏析:在平衡條件下,溶質(zhì)原子(離子)在晶界處
濃度偏離平均濃度。
●偏析的自發(fā)趨勢(shì):晶界結(jié)構(gòu)缺陷比晶內(nèi)多,溶質(zhì)原子
(離子)處于晶內(nèi)的能量比處在晶界的能量高,通過偏析
使系統(tǒng)能量降低。
●偏析驅(qū)動(dòng)力是內(nèi)能差:設(shè)一個(gè)原子位于晶內(nèi)和晶界的內(nèi)
能分別為El和Eg,則偏析的驅(qū)動(dòng)力為:
第17頁/共23頁198.3.2晶界遷移
晶界遷移—
晶界在其法線上的位移,從微觀上看,是通過晶粒邊緣上的原子向其鄰近晶粒的跳動(dòng)實(shí)現(xiàn)的
典型情況:晶粒長大過程;相變過程。第18頁/共23頁20
●
影響晶界遷移的主要因素
●溶質(zhì)或雜質(zhì)原子--
降低遷移率,與晶界偏析、晶界結(jié)構(gòu)有關(guān)。
●晶界第二相顆粒
--阻礙作用,晶界脫離第二相顆粒的
遷移是系統(tǒng)能量提高的過程(需生長出這段晶界),產(chǎn)
生晶界遷移的阻力。
●溫度--
遷移率與晶界擴(kuò)散系數(shù)D由Einstein關(guān)系聯(lián)系:
由上式知隨溫度的升高,晶界遷移率提高。
●晶粒位向
--晶界的晶粒取向差小,遷移率低。
第19頁/共23頁218.6復(fù)合體系的界面結(jié)合特性界面相是復(fù)合材料的一個(gè)組成部分,其作用可以歸納一下幾個(gè)方面。傳遞作用:界面能傳遞力,即將外力傳遞給增強(qiáng)物,起到基體和增強(qiáng)體之間的橋梁作用阻斷作用:結(jié)合適當(dāng)?shù)慕缑嬗凶柚沽鸭y擴(kuò)展、中斷材料破壞、減緩應(yīng)力集中的作用保護(hù)作用:界面相可以保護(hù)增強(qiáng)體免受環(huán)境的侵蝕,防止基體與增強(qiáng)體之間的化學(xué)反應(yīng),起到保護(hù)增強(qiáng)體的作用。第20頁/共23頁22本章重
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