循環(huán)伏安法知識(shí)小結(jié)

循環(huán)伏安法知識(shí)小結(jié)循環(huán)伏安法知識(shí)小結(jié)循環(huán)伏安法知識(shí)小結(jié)xxx公司循環(huán)伏安法知識(shí)小結(jié)文件編號(hào)：文件日期：修訂次數(shù)：第1.0次更改批準(zhǔn)審核制定方案設(shè)計(jì)，管理制度利用循環(huán)伏安確定反應(yīng)是否為可逆反應(yīng)

1.氧化峰電流與還原峰電流絕對(duì)值相等，即二者絕對(duì)值比值始終為一，與掃描速率，換向電勢(shì)，擴(kuò)散系數(shù)無(wú)關(guān)。

2.氧化峰與還原峰電位差約為59mV利用循環(huán)伏安確定反應(yīng)是否為可逆反應(yīng)

1.氧化峰電流與還原峰電流之比的絕對(duì)值等于1

2.氧化峰與還原峰電位差約為(59/n)mV(25攝氏度時(shí))

一般這兩個(gè)條件即可判斷擴(kuò)散反應(yīng)或者是吸附反應(yīng)：

改變掃描速率，看峰電流是與掃描速率還是它的二次方根成正比,若是與掃描速率成線性，就是表面控制過(guò)程,與二次方根成線性，就是擴(kuò)散控制利用循環(huán)伏安確定反應(yīng)是否可逆

1：氧化峰和還原峰的電流比是否相等，若相等則可逆。

有時(shí)對(duì)同一體系，掃描速率不同也會(huì)在一定程度上影響其可逆性的一般而言，掃速越大其電化學(xué)反應(yīng)電流也就越大。

2：氧化峰和還原峰電位差等于59/nmV,若大于，則是準(zhǔn)可逆體系。這種確定onsetpotential的方法的依據(jù)是什么呢我看有的文獻(xiàn)上直接是作一條切線，但這樣誤差也很大，很主觀隨意。

以前我們老師上電極過(guò)程動(dòng)力學(xué)的時(shí)候說(shuō)準(zhǔn)確的onsetpotential其實(shí)是很難被確定的。只能估計(jì)大致的范圍。求法可以說(shuō)有好幾種，據(jù)我所知就有兩種，一種是樓上說(shuō)的切線法，一種是我說(shuō)的10％或20％法哪種方法不重要，重要的只在自己的樣品之間比。另外，我不知道你的樣品是什么，就我所熟知的電催化劑而言，其實(shí)評(píng)價(jià)它的好壞，起始電位固然重要，但更看重它的峰形以及質(zhì)量單位電流密度。、切線法是有這個(gè)問(wèn)題，所以用峰高的10％來(lái)定，人為因素要小一些啦。其實(shí)說(shuō)來(lái)說(shuō)去又變成了起始電位測(cè)不準(zhǔn)啦！循環(huán)伏安法中對(duì)電流正負(fù)的認(rèn)為規(guī)定很多書(shū)上都把還原反應(yīng)電流規(guī)定為正，一般不說(shuō)正電流或負(fù)電流，而說(shuō)陽(yáng)極電流或陰極電流。陽(yáng)極反應(yīng)的電流是陽(yáng)極電流，對(duì)應(yīng)的峰為氧化峰，陰極反應(yīng)的電流是陰極電流，對(duì)應(yīng)的峰為還原峰。電流的正負(fù)是人為規(guī)定的，習(xí)慣上還原峰電流規(guī)定為正，氧化峰電流為負(fù)，但是也有相反的情況，不能按照電流的正負(fù)來(lái)區(qū)分氧化峰或還原峰，從電位上可以判斷，通常氧化峰位于還原峰較正的位置上，也就說(shuō)，峰電位較正的峰是氧化峰，峰電位較負(fù)的峰是還原峰，這是極化造成的結(jié)果?？磼呙璺较?，由正向負(fù)方向掃出的峰就是還原峰，由負(fù)往正方向掃就是氧化峰，也就是對(duì)應(yīng)的負(fù)掃和正掃，我們用的是上海辰華的工作站，也是顛倒的，一般我們把數(shù)據(jù)導(dǎo)出再用ORIGIN75處理數(shù)據(jù)，把圖形倒過(guò)來(lái)。習(xí)慣上，將流入電極表面的電流，定義為負(fù)，流出電極表面的電流定義為正，前者為陰極，還原，后者為氧化。

儀器的cv圖，可以根據(jù)掃描電位的方向，向負(fù)電位方向掃，肯定是先出現(xiàn)的還原電流峰，所以哪個(gè)先出來(lái)，就是還原峰，不用拘泥于坐標(biāo)軸。循環(huán)伏安測(cè)試的原理：

1.若電極反應(yīng)為O＋e-→R，反應(yīng)前溶液中只含有反應(yīng)粒子O、且O、R在溶液均可溶，控制掃描起始電勢(shì)從比體系標(biāo)準(zhǔn)平衡電勢(shì)(φ平)正得多的起始電勢(shì)(φi)處開(kāi)始勢(shì)作正向電掃描，電流響應(yīng)曲線則如附圖所示。

2.當(dāng)電極電勢(shì)逐漸負(fù)移到(φ平)附近時(shí)，O開(kāi)始在電極上還原，并有法拉第電流通過(guò)。由于電勢(shì)越來(lái)越負(fù)，電極表面反應(yīng)物O的濃度逐漸下降，因此向電極表面的流量和電流就增加。當(dāng)O的表面濃度下降到近于零，電流也增加到最大值Ipc，然后電流逐漸下降。當(dāng)電勢(shì)達(dá)到(φr)后，又改為反向掃描。

3.隨著電極電勢(shì)逐漸變正，電極附近可氧化的R粒子的濃度較大，在電勢(shì)接近并通過(guò)(φ平)時(shí)，表面上的電化學(xué)平衡應(yīng)當(dāng)向著越來(lái)越有利于生成R的方向發(fā)展。于是R開(kāi)始被氧化，并且電流增大到峰值氧化電流Ipa，隨后又由于R的顯著消耗而引起電流衰降。整個(gè)曲線稱(chēng)為“循環(huán)伏安曲線”。循環(huán)伏安的其它應(yīng)用

（1）電極可逆性的判斷循環(huán)伏安法中電壓的掃描過(guò)程包括陰極與陽(yáng)極兩個(gè)方向，因此從所得的循環(huán)伏安法圖的氧化波和還原波的峰高和對(duì)稱(chēng)性中可判斷電活性物質(zhì)在電極表面反應(yīng)的可逆程度。若反應(yīng)是可逆的，則曲線上下對(duì)稱(chēng)，若反應(yīng)不可逆，則曲線上下不對(duì)稱(chēng)。

（2）電極反應(yīng)機(jī)理的判斷循環(huán)伏安法還可研究電極吸附現(xiàn)象、電化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)物、電化學(xué)—化學(xué)耦聯(lián)反應(yīng)等,對(duì)于有機(jī)物、金屬有機(jī)化合物及生物物質(zhì)的氧化還原機(jī)理研究很有用。

測(cè)試的時(shí)候，以等腰三角形的脈沖電壓加在工作電極上，得到的電流電壓曲線包括兩個(gè)分支，如果前半部分電位向陰極方向掃描，電活性物質(zhì)在電極上還原，產(chǎn)生還原波，那么后半部分電位向陽(yáng)極方向掃描時(shí)，還原產(chǎn)物又會(huì)重新在電極上氧化，產(chǎn)生氧化波。因此一次三角波掃描，完成一個(gè)還原和氧化過(guò)程。循環(huán)，你好，循環(huán)伏安法是一種測(cè)試方法，不是電鍍的一種手段。

循環(huán)伏安一般是給電極施加恒定掃描速度的電壓持續(xù)的觀察電極表面電流和電位的關(guān)系，可以用來(lái)表征電極表面發(fā)生的反應(yīng)以及探討電極反應(yīng)的機(jī)理。

而電鍍是給電極施加恒定的電流使得金屬離子在鍍件表面沉積，現(xiàn)在常見(jiàn)的電鍍錫、電鍍銅、電鍍鋅、電鍍鎳、電鍍鉻和電鍍貴金屬等。你說(shuō)的電鍍鉑就是貴金屬一種。

所以說(shuō)，兩者沒(méi)有必然的關(guān)系。一般是先進(jìn)行電鍍，然后進(jìn)行循環(huán)伏安表征。這可能是他們之間的一點(diǎn)聯(lián)系吧。這是電分析方面的，標(biāo)準(zhǔn)曲線還是通過(guò)紫外或者紅外等其他手段測(cè)量比較好，通過(guò)CV測(cè)量的話，得需要做一批不同濃度的CV曲線，通過(guò)曲線特征峰的積分面積從而確定濃度與峰面積之間的關(guān)系，然后繪制出標(biāo)準(zhǔn)曲線。這樣就可以用來(lái)測(cè)定未知物的濃度了！物理吸附是通過(guò)范德華力之間作用的，不能通過(guò)CV曲線來(lái)測(cè)量。

化學(xué)吸附是分子之間的相互作用，是可以通過(guò)CV曲線測(cè)量的。

一般的，如果峰值電流與濃度之間呈現(xiàn)線性關(guān)系，則可以認(rèn)為是化學(xué)吸附。當(dāng)然通過(guò)特征峰分析也是可以的。

希望能對(duì)你有幫助，你可以查看一些電化學(xué)測(cè)量方面的書(shū)籍。循環(huán)伏安可以用于電沉積金屬的，實(shí)際是就是在CV過(guò)程中，金屬鹽或者酸發(fā)生還原被還原成單質(zhì)的。循環(huán)伏安法，這里有篇很好的綜述介紹，