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2+(ⅱ)Pb+H2O2+2HAc=Pb(Ac)2+2H2O(ⅲ)H2O2作還原劑,還原PbO2(4)Al(OH)3、Fe(OH)3、BaSO4(5)Ba2+、Na+解析:(1)結(jié)合難溶電解質(zhì)的Ksp,可知利用Na2CO3“脫硫”發(fā)生沉淀轉(zhuǎn)化反應(yīng):PbSO4(s)+COeq\o\al(\s\up11(2-),\s\do4(3))(aq)=PbCO3(s)+SOeq\o\al(\s\up11(2-),\s\do4(4))(aq);存在沉淀溶解平衡PbSO4(s)?Pb2+(aq)+SOeq\o\al(\s\up11(2-),\s\do4(4))(aq),已知Ksp(PbCO3)?Ksp(PbSO4),加入Na2CO3,可將PbSO4轉(zhuǎn)化為更難溶的PbCO3,有利于后續(xù)溶于酸。(2)沉淀轉(zhuǎn)化反應(yīng)BaSO4(s)+COeq\o\al(\s\up11(2-),\s\do4(3))(aq)?BaCO3(s)+SOeq\o\al(\s\up11(2-),\s\do4(4))(aq)的平衡常數(shù)K=eq\f(c(SOeq\o\al(\s\up1(2-),\s\do1(4))),c(COeq\o\al(\s\up1(2-),\s\do1(3))))=eq\f(Ksp(BaSO4),Ksp(BaCO3))=eq\f(1.1×10-10,2.6×10-9)≈0.04,K值較小,說明正向反應(yīng)程度有限,BaSO4不能完全轉(zhuǎn)化為BaCO3。(3)(ⅰ)根據(jù)鉛膏的組成成分中含鐵元素可知,H2O2能夠氧化的離子為Fe2+;(ⅱ)H2O2將Pb氧化為Pb2+,繼而Pb2+與醋酸反應(yīng)生成Pb(Ac)2,反應(yīng)的化學(xué)方程式為Pb+H2O2+2HAc=Pb(Ac)2+2H2O;(ⅲ)PbO2轉(zhuǎn)化為Pb(Ac)2的過程中Pb元素化合價(jià)降低,則H2O2作還原劑,起到還原PbO2的作用。(4)“脫硫”時(shí),BaSO4部分轉(zhuǎn)化為BaCO3,Ba元素以BaSO4、BaCO3的形式進(jìn)入“酸浸”工序,此外還有Al、Fe等金屬元素,結(jié)合題給金屬氫氧化物沉淀時(shí)的pH和鉛膏的成分,可知濾渣中含有Al(OH)3、Fe(OH)3、BaSO4。(5)“沉鉛”后的濾液中有“酸浸”時(shí)BaCO3溶于酸產(chǎn)生的Ba2+,還有因加入NaOH溶液而引入的Na+。2.(1)+6(2)Al(OH)3(3)①M(fèi)oOeq\o\al(\s\up11(2-),\s\do4(4))+Ba2+=BaMoO4↓②eq\f(2.6×10-9,3.5×10-8)×eq\f(1.0×10-7,4.7×10-11)(4)①NaHCO3②NH3(5)①Al2O3②4∶1解析:(1)根據(jù)化合物Na2MoO4中Na為+1價(jià),O為-2價(jià),由化合物中化合價(jià)代數(shù)和為0,可計(jì)算出Na2MoO4中Mo元素的化合價(jià)為+6。(2)“750℃焙燒”時(shí),廢催化劑中的氧化鋁發(fā)生反應(yīng):Al2O3+2NaOH=2NaAlO2+H2O,“濾液Ⅰ”中主要存在NaAlO2和Na2MoO4,通入過量CO2時(shí),發(fā)生反應(yīng):NaAlO2+CO2+2H2O=Al(OH)3↓+NaHCO3,生成的沉淀X為Al(OH)3。(3)由(2)的分析可知“濾液Ⅱ”的主要成分是NaHCO3和Na2MoO4。①“濾液Ⅱ”中加入BaCl2溶液生成BaMoO4的離子方程式為MoOeq\o\al(\s\up11(2-),\s\do4(4))+Ba2+=BaMoO4↓。②開始生成BaCO3時(shí),溶液中eq\f(c(COeq\o\al(\s\up1(2-),\s\do1(3))),c(MoOeq\o\al(\s\up1(2-),\s\do1(4))))=eq\f(Ksp(BaCO3),Ksp(BaMoO4))=eq\f(2.6×10-9,3.5×10-8),又因?yàn)镵a2=eq\f(c(H+)·c(COeq\o\al(\s\up1(2-),\s\do1(3))),c(HCOeq\o\al(\s\up1(-),\s\do1(3))))=4.7×10-11,由于“沉鉬”中,pH為7.0,則eq\f(c(COeq\o\al(\s\up1(2-),\s\do1(3))),c(HCOeq\o\al(\s\up1(-),\s\do1(3))))=eq\f(Ka2,c(H+))=eq\f(4.7×10-11,1.0×10-7),因此可得eq\f(c(HCOeq\o\al(\s\up1(-),\s\do1(3))),c(MoOeq\o\al(\s\up1(2-),\s\do1(4))))=eq\f(2.6×10-9,3.5×10-8)×eq\f(1.0×10-7,4.7×10-11)。(4)①由于“濾液Ⅱ”的主要成分是NaHCO3和Na2MoO4,加入適量BaCl2溶液“沉鉬”后,“濾液Ⅲ”中主要存在的鈉鹽有NaCl和NaHCO3,則Y為NaHCO3。②由“濾液Ⅲ”制備NaHCO3,原理類似侯氏制堿法,加入NaCl固體后,通入足量堿性氣體NH3,再通入足量CO2,發(fā)生反應(yīng):NH3+H2O+CO2=NH4HCO3、NH4HCO3+NaCl=NaHCO3↓+NH4Cl,析出溶解度較小的NaHCO3固體。(5)①由題給芯片制造的刻蝕過程示意圖可知,加入H2O2刻蝕液,GaAs逐漸溶解,當(dāng)H2O2刻蝕液接觸AlAs時(shí),反應(yīng)生成一種致密的氧化膜,由此可知,Ga、As均可溶于H2O2刻蝕液中,形成的致密氧化膜是AlAs中的鋁被氧化為致密的Al2O3膜。②GaAs與H2O2反應(yīng)時(shí),As由-3價(jià)變?yōu)椋?價(jià),O由-1價(jià)變?yōu)椋?價(jià),由氧化還原反應(yīng)中得失電子守恒規(guī)律可知,氧化劑(H2O2)與還原劑(GaAs)的物質(zhì)的量之比為4∶1。3.(1)①與硫酸反應(yīng),使得TiOSO4+2H2O?TiO2·H2O↓+H2SO4平衡正向移動(dòng),沉鈦;過量的作用是防止二價(jià)鐵被氧化②過濾(2)①Fe2++2NH3·H2O=Fe(OH)2↓+2NHeq\o\al(\s\up11(+),\s\do4(4))②>③pH6.0左右,4Fe(OH)2+O2+2H2O=4Fe(OH)3,因此pH幾乎不變,之后發(fā)生反應(yīng)4Fe2++O2+6H2O=4FeOOH↓+8H+,溶液中H+濃度增大,pH減?、苋芤褐型瑫r(shí)存在兩個(gè)氧化反應(yīng)4Fe2++O2+4H+=4Fe3++2H2O和4Fe2++O2+6H2O=4FeOOH↓+8H+,因此c(Fe2+)的減小大于c(Fe3+)的增加,或用疊加反應(yīng)解釋:12Fe2++3O2+2H2O=4FeOOH↓+8Fe3+(3)不受影響解析:(2)②0.1mol·L-1Fe2+沉淀為Fe(OH)2,起始的pH為6.3,Ksp[Fe(OH)2]為定值,溶液pH越小,c(H+)越大,c(OH-)越小,沉淀生成時(shí)溶液中c(Fe2+)越大。(3)NaOH標(biāo)準(zhǔn)液用來測(cè)定剩余H2SO4標(biāo)準(zhǔn)液的量,若Na2C2O4過量,剩余H2SO4可與Na2/r/

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