全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)龍頭專題（一）：客戶入股+戰(zhàn)略并購+開 放創(chuàng)新阿斯麥如何成就光刻機領(lǐng)域霸主地位

1、內(nèi)容目錄 HYPERLINK l _bookmark0 寫在前面：半導(dǎo)體行業(yè)迎來黃金十年，從 ASML看中國光刻領(lǐng)域該如何突圍？ HYPERLINK l _bookmark2 統(tǒng)觀 年歷史，如何從小木棚走向全球光刻機領(lǐng)域霸主？6 HYPERLINK l _bookmark3 市場定位：服務(wù)于芯片制造的曝光環(huán)節(jié)，以繼續(xù)摩爾定律為指導(dǎo) HYPERLINK l _bookmark5 發(fā)展歷程：從 到 從單一光刻機走向整體光刻時代6 HYPERLINK l _bookmark8 管理團隊: 一流的財會背景豐富的同行業(yè)經(jīng)驗，創(chuàng)造十余年輝煌業(yè)績 HYPERLINK l _bookmark10 探清運作模式

2、，技術(shù)壁壘如何造就市場護城河？9 HYPERLINK l _bookmark13 客戶入股：打造利益共同體，共享研發(fā)風(fēng)險與回報10 HYPERLINK l _bookmark14 戰(zhàn)略并購：構(gòu)建完整上游供應(yīng)鏈，快速攫取技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢10 HYPERLINK l _bookmark17 開放創(chuàng)新：建立開放研究網(wǎng)絡(luò)，合理共享研發(fā)成果 HYPERLINK l _bookmark21 細看產(chǎn)品信息，論 L如何成就近 的市占率?13 HYPERLINK l _bookmark22 光刻歷史：從 到 歷經(jīng)五代實現(xiàn) 7nm工藝節(jié)點13 HYPERLINK l _bookmark24 產(chǎn)品組合：以三種光刻機為核

3、心，輔之以應(yīng)用組合14 HYPERLINK l _bookmark26 核心產(chǎn)品：光刻機產(chǎn)品種類豐富，同時涉及低、中、高、超高端市場14 HYPERLINK l _bookmark34 其他產(chǎn)品：通過收購與整合，拓展電子光束解決方案等應(yīng)用組合17 HYPERLINK l _bookmark40 銷售情況：ArF i、占據(jù)近八成銷售收入銷售額追平 ArF i19 HYPERLINK l _bookmark44 深剖財務(wù)數(shù)據(jù)，看公司業(yè)績?nèi)绾伟l(fā)展變化?21 HYPERLINK l _bookmark45 業(yè)績情況：季度業(yè)績呈現(xiàn)周期性波動，1993-2018年復(fù)合增速達24%21 HYPERLINK

4、l _bookmark54 研發(fā)情況：研發(fā)投入高達 億美元，專利和專利申請數(shù)量高達 萬項23 HYPERLINK l _bookmark56 費用情況：費用支出占比呈下降趨勢 年占比降至4.46%24 HYPERLINK l _bookmark58 聚焦全球市場，未來市場需求能否繼續(xù)保持強勁？24 HYPERLINK l _bookmark59 競爭格局 穩(wěn)居光刻機市場第一，是超高端領(lǐng)域獨家壟斷者24 HYPERLINK l _bookmark66 市場規(guī)模：終端市場的增長驅(qū)動光刻設(shè)備市場的增長，未來市場規(guī)?？善?7 HYPERLINK l _bookmark68 內(nèi)存和邏輯芯片需求預(yù)期增長，

5、推動光刻機需求增長27 HYPERLINK l _bookmark70 大數(shù)據(jù)、物聯(lián)網(wǎng)、自動駕駛、人工智能等創(chuàng)新推動半導(dǎo)體終端市場健康增長28 HYPERLINK l _bookmark74 行業(yè)趨勢：光刻機分辨率不斷提升、波長不斷縮短、制程節(jié)點不斷提高30 HYPERLINK l _bookmark79 反觀國內(nèi)現(xiàn)狀：在光刻機領(lǐng)域中國如何實現(xiàn)技術(shù)突圍？31 HYPERLINK l _bookmark80 上海微電子：與國際領(lǐng)先水平仍有差距，有望突破90nm制程節(jié)點31 HYPERLINK l _bookmark83 從 的崛起，看中國如何打造一流的光刻機生產(chǎn)商32圖表目錄 HYPERLINK

6、 l _bookmark1 圖 股市走勢圖：2019年7 月 日再創(chuàng)歷史新高5 HYPERLINK l _bookmark4 圖 2：芯片制造工藝 為芯片制造的曝光環(huán)節(jié)提供解決方案6 HYPERLINK l _bookmark6 圖 辦公室遍布全球 16 個家 個城市7 HYPERLINK l _bookmark7 圖 公司 35 年發(fā)展歷程8 HYPERLINK l _bookmark11 圖 打通上下游價值鏈，建立開放研究網(wǎng)絡(luò)9 HYPERLINK l _bookmark12 圖 打通上下游價值鏈，建立開放研究網(wǎng)絡(luò)9 HYPERLINK l _bookmark15 圖 的戰(zhàn)略并購線路圖10

7、 HYPERLINK l _bookmark16 圖 8：Cymer 的新技術(shù)發(fā)布情況一覽 HYPERLINK l _bookmark18 圖 與研究機構(gòu)、學(xué)院、外部技術(shù)合作伙伴建立巨大開放式研究網(wǎng)絡(luò) HYPERLINK l _bookmark19 圖 10：世界 光刻機的發(fā)展歷程12 HYPERLINK l _bookmark20 圖 的 光刻機研制歷程：已成功發(fā)布三款13 HYPERLINK l _bookmark23 圖 12：光刻機的發(fā)展史14 HYPERLINK l _bookmark25 圖 公司的產(chǎn)品情況14 HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請

8、參見報告尾頁。 HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。 HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。 HYPERLINK l _bookmark29 圖 的浸沒式 系統(tǒng)設(shè)備圖15 HYPERLINK l _bookmark30 圖 15：TWINSCAN 浸入式系統(tǒng)性能提升示意圖16 HYPERLINK l _bookmark31 圖 的干燥式 系統(tǒng)設(shè)備圖16 HYPERLINK l _bookmark32 圖 的 TWINSCANNXE:3400B 型號 設(shè)備圖17 HYPERLIN

9、K l _bookmark33 圖 技術(shù)性能提升示意圖17 HYPERLINK l _bookmark35 圖 產(chǎn)品組合流程圖18 HYPERLINK l _bookmark37 圖 的 光學(xué)計量解決方案18 HYPERLINK l _bookmark38 圖 21：電子束計量和檢測解決方案19 HYPERLINK l _bookmark39 圖 的應(yīng)用層級產(chǎn)品示意圖19 HYPERLINK l _bookmark41 圖 23：2018-2019年 光刻機季度出貨量（臺）20 HYPERLINK l _bookmark42 圖 24：2018-2019年 光刻機季度出貨量（臺）20 HYPE

10、RLINK l _bookmark43 圖 25：2018-2019年 凈銷售收入占比情況20 HYPERLINK l _bookmark46 圖 1993-2018 年度凈銷售收入情況：五個增長階段21 HYPERLINK l _bookmark47 圖 1993-2018 年度凈利潤情況22 HYPERLINK l _bookmark48 圖 2005-2018 年度凈銷售收入來源情況22 HYPERLINK l _bookmark49 圖 2005-2018 年度凈銷售收入地區(qū)分布情況22 HYPERLINK l _bookmark50 圖 1993-2018 年度利潤率情況22 HYP

11、ERLINK l _bookmark51 圖 2010Q1-2019Q2 季度凈銷售收入情況23 HYPERLINK l _bookmark52 圖 2010Q1-2019Q2 季度凈利潤情況23 HYPERLINK l _bookmark53 圖 2010Q1-2019Q2 季度利潤率情況23 HYPERLINK l _bookmark55 圖 2014-2018 年研發(fā)情況24 HYPERLINK l _bookmark57 圖 近五年費用情況24 HYPERLINK l _bookmark60 圖 36：全球光刻機市場競爭格局演變25 HYPERLINK l _bookmark61 圖

12、37：1984 年全球光刻機市場競爭格局25 HYPERLINK l _bookmark62 圖 38：1980 年代末期全球光刻機市場競爭格局25 HYPERLINK l _bookmark63 圖 39：ASML、尼康、佳能生產(chǎn)的光刻機情況26 HYPERLINK l _bookmark64 圖 40：尼康集團業(yè)務(wù)情況27 HYPERLINK l _bookmark65 圖 41：佳能公司業(yè)務(wù)情況27 HYPERLINK l _bookmark67 圖 對市場增長的預(yù)測情況27 HYPERLINK l _bookmark69 圖 43：DRAM和 市場增長情況28 HYPERLINK l

13、_bookmark71 圖 44：半導(dǎo)體終端市場的增長28 HYPERLINK l _bookmark72 圖 45：沉浸式設(shè)備是下一個計算浪潮29 HYPERLINK l _bookmark73 圖 46：5G 對芯片性能的要求29 HYPERLINK l _bookmark75 圖 47：成本降低趨勢30 HYPERLINK l _bookmark76 圖 48：分辨率提高趨勢30 HYPERLINK l _bookmark78 圖 未來產(chǎn)品路線圖31 HYPERLINK l _bookmark9 表 管理團隊8 HYPERLINK l _bookmark27 表 光刻機產(chǎn)品差異性列表15

14、 HYPERLINK l _bookmark28 表 提供的翻新光刻機系統(tǒng)規(guī)格列表15 HYPERLINK l _bookmark36 表 的 光學(xué)計量解決方案18 HYPERLINK l _bookmark77 表 5：光刻機行業(yè)發(fā)展趨勢：繼續(xù)摩爾定律30 HYPERLINK l _bookmark81 表 6：上海微電子裝備有限公司光刻機產(chǎn)品列表32 HYPERLINK l _bookmark82 表 7：上海微電子與 公司最領(lǐng)先的光刻機設(shè)備情況對比32 HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。 該如何突圍？半導(dǎo)體行業(yè)作為

15、尖端技術(shù)及高附加價值產(chǎn)業(yè)，一直備受關(guān)注，是在整個國民經(jīng)濟屮具有巨大戰(zhàn)略意義的關(guān)鍵性技術(shù)產(chǎn)業(yè)，因此世界各國政府都將其視為國家的骨干產(chǎn)業(yè)。2019 年 7 月22 日，中國科創(chuàng)板一聲鑼響，首批 25 家公司集體上市，安集科技、樂鑫科技、瀾起科技、華興源創(chuàng)、中微公司等多家半導(dǎo)體企業(yè)股價全線大漲，半導(dǎo)體板塊再度受到市場熱烈關(guān)注。中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會集成電路設(shè)計分會副理事長戴偉明博士表示，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正從韓、臺向中國大陸進行第三次轉(zhuǎn)移，中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)即將迎來黃金發(fā)展的十年，中國要抓住機遇積極發(fā)展發(fā)展半導(dǎo)體。而半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中，光刻機是核心設(shè)備，對芯片的工藝制程起著決定性作用。光刻是半導(dǎo)半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難

16、點和關(guān)鍵點在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上，這一過程通過光刻來實現(xiàn)，光刻的工藝水平直20-30 次的光刻，耗時占到了生產(chǎn)環(huán)節(jié)的一半，成本能占到三分之一。光刻不僅是影響代工一家就占據(jù)了全球ASML 僅用 30 年時間就在Bloomberg 45nm 以下高端光刻機設(shè)備市場 占據(jù)市場份額高達 80%2019 年 7 月 24 的股價創(chuàng)下 234.5 美元的歷史新高。圖 1：ASML 股市走勢圖：2019 年 7 月 24 日再創(chuàng)歷史新高收盤價(美元)5002000/1/72003/1/72006/1/72009/1/72012/1/72015/1/72018/1/7資料來源：wind, ,2019

17、/8/1本文對 ASML 的發(fā)展歷程、運作模式、產(chǎn)品信息以及競爭格局進行深度分析，探究 ASML會。 HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。統(tǒng)觀 市場定位：服務(wù)于芯片制造的曝光環(huán)節(jié)，以繼續(xù)摩爾定律為指導(dǎo)芯片的制造包括沉積、光刻膠涂覆、曝光、顯影、蝕刻、移植、剝離等工序，其中曝光是微芯片生產(chǎn)中的關(guān)鍵工序，ASML 正是處于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈中的曝光環(huán)節(jié)。ASML 的系統(tǒng)本質(zhì)上是投影系統(tǒng)，類似于幻燈片投影機，使用激光來布臵晶體管，相當(dāng)于微芯片的“腦細胞”。光線攜帶者要打印的圖案的藍圖，通過所謂的掩模投射出來，透鏡或鏡子將圖案聚焦在晶圓

18、片上，當(dāng)未暴露的部分被蝕刻掉時，圖案就顯露出來了。由于光刻技術(shù)將微芯片上的結(jié)構(gòu)制成圖形，因此，光刻技術(shù)在決定芯片上的特征有多小以及芯片制造商將晶體管組裝在一起的密度方面起著重要的作用。圖 2：芯片制造工藝：ASML 為芯片制造的曝光環(huán)節(jié)提供解決方案資料來源：公司官網(wǎng)， 據(jù)公司年報披露，上世紀(jì) 70 年代早期典型的芯片是 1 萬納米尺寸，而目前領(lǐng)先的芯片制造商可以生產(chǎn)出 10 摩爾在 1965 商可以在保持相同成本的情況下，每 2 年將典型微處理器的晶體管數(shù)量增加一倍，并提高其性能，這一趨勢已經(jīng)持續(xù)了 50 多年，被稱為摩爾定律。ASML 將繼續(xù)以摩爾定律為指導(dǎo)， 不斷向更高技術(shù)節(jié)點邁進。發(fā)展歷

19、程：從 EUV，從單一光刻機走向整體光刻時代阿斯麥）是一家專注于提供整體光刻解決方案的供應(yīng)商，為其客戶提供工具硬1984 年，總部位于荷蘭費爾德霍芬edhoven，至今已成立 35 年。L 以創(chuàng)新為生命線，不斷研發(fā)新產(chǎn)TWINSCAN TWINSCAN 光刻機 TWINSCAN 有 23247 16 凈銷售額 129.26 億美元，實現(xiàn)凈利潤 31.94 億美元。圖 3：ASML 辦公室遍布全球 16 個國家 60 個城市資料來源：公司官網(wǎng)， HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。推出 2500 1984 合資成立了 ASM

20、L 不斷堅持的追加投資，1985 1986 2500 鏡片制造商arl ess 1988 SL開始在亞洲市場開拓道路。 光刻機取得巨大成功，成功上市帶來充裕資金。1991 年，公司推出了 開始走向成熟；1995，ASML 在納斯達克和阿姆斯特丹交易所上市，帶來充裕的資金，為ASML成功研制雙工作臺、浸沒式 、TWINSCANNXT 系列，一舉奠定光刻機領(lǐng)域2000 年代是 推出了雙掃描系統(tǒng)，利用“雙級”技術(shù)，在測量下一個晶圓的同時，暴露出一個晶圓，從而使性能和生產(chǎn)率最大化。2003 成功研制出世界上第一臺浸入式光刻機TWINSCANAT：1150i；接著 2006 年推出第一臺沉浸式批量生產(chǎn)光

21、刻機 1700i；2007 年又成功研發(fā)出第一臺 193nm 浸入式系統(tǒng) TWINSCANXT：1900i；具有雙工作臺、浸沒式光刻技術(shù)的 TWINSCANXT、TWINSCANNXT 系列研制成功，奠定 ASML 在2009 的營業(yè)額已達 22.25 70%邁向整體光刻207 L 收購了美國 rn 公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為 整體光刻產(chǎn)品戰(zhàn)略的基石。2010 EV（3100SL成為 光刻機領(lǐng)域的獨家壟斷者，市占率為 100%。2013 收購了美國光源制造商 Cymer2016 收購了臺灣領(lǐng)先的電子束測量工具 2017 年，ASML 收購了德國卡爾蔡司 HYPERLIN

22、K / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。股份有限公司 24.9%的間接股權(quán)，促進了 系統(tǒng)的進一步發(fā)展，同年 TWINSCAN NXE:3400B 收購了競爭對手 Mapper 逐步走向整體光刻時代。圖 4：ASML 公司 35 年發(fā)展歷程資料來源：公司官網(wǎng)， 管理團隊: 一流的財會背景豐富的同行業(yè)經(jīng)驗，創(chuàng)造十余年輝煌業(yè)績ASML ASML 的 金 Stichting PensioEnfonds 的顧問，擁有一流的財會知識、管理能力。CFO 同樣來自2006 45.19 2018年的 129.26 億美元，實現(xiàn)了兩倍多的增長。表 1：ASML

23、管理團隊管理團隊職位履歷Peter T.F.M. Wennink總裁、CEO、管理委員會主席曾擔(dān)任德勤會計師事務(wù)所合伙人；荷蘭注冊會計師協(xié)會的成員；荷蘭政府雇員養(yǎng)老基金 Stichting Pensioenfonds ABP 的顧問Martin A. van den Brink總裁、CTO、管理委員會副主席荷蘭阿姆斯特丹大學(xué)物理學(xué)榮譽博士Roger J.M. Dassen執(zhí)行副總裁、CFO士、工商管理博士；荷蘭國家銀行監(jiān)事會成員Frits J. van Hout執(zhí)行副總裁、首席戰(zhàn)略官曾擔(dān)任 Beyler 集團 CEO；牛津大學(xué)理論物理碩士、應(yīng)用物理碩士； StichtingBrainport

24、地區(qū)經(jīng)濟發(fā)展委員會的董事會成員Christophe D. Fouquet執(zhí)行副總裁曾在半導(dǎo)體設(shè)備 Kla Tencor 公司任職；格勒諾布爾理工學(xué)院物理學(xué)學(xué)位Frdric J.M.Schneider-Maunoury執(zhí)行副總裁、COO曾擔(dān)任 ALSTOM 熱產(chǎn)品制造副總裁；巴黎 Ecole 理工學(xué)院畢業(yè)資料來源：公司官網(wǎng)， HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。創(chuàng)新是 ASML 的生命線，是推動其業(yè)務(wù)發(fā)展的引擎，ASML 的創(chuàng)新不是孤立地創(chuàng)新，而是堅持“開放式創(chuàng)新”理念， ASML 通過資本市場打通了產(chǎn)業(yè)上下游的利益鏈，與供

25、應(yīng)商和客戶建立了密切的合作；在政府協(xié)助下與外部技術(shù)合作伙伴、研究機構(gòu)、學(xué)院展開密切合作， 建立開放研究網(wǎng)絡(luò)，合理共享技術(shù)與成果。ASML 通過打通上下游供應(yīng)鏈，建立起開放研究網(wǎng)絡(luò)，大大加快了創(chuàng)新速度，快速形成技術(shù)壁壘。圖 5：ASML 打通上下游價值鏈，建立開放研究網(wǎng)絡(luò)資料來源：公司官網(wǎng)， ASML 注入大量資金； 則給予股東優(yōu)先供貨權(quán)。通過客戶入股使得 ASML 與客戶結(jié)成緊密的利益共同體，在共享股東先進科技的同時降低自身的研發(fā)風(fēng)險。在外部技術(shù)合作方面，ASML 主導(dǎo)打造了囊括外部技術(shù)合作伙伴、研究機構(gòu)、高等院校的巨大開放式研究網(wǎng)絡(luò)，并通過建立特有的專利制度管理知識產(chǎn)權(quán)和研究成果。圖 6：A

26、SML 打通上下游價值鏈，建立開放研究網(wǎng)絡(luò)資料來源：公司年報， HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。客戶入股：打造利益共同體，共享研發(fā)風(fēng)險與回報ASML 引入三大客戶2013 2017 的研發(fā)項目提供 （億美元以加速 戰(zhàn)略并購：構(gòu)建完整上游供應(yīng)鏈，快速攫取技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢ASML 一方面通過客戶入股獲得研發(fā)資金，降低研發(fā)風(fēng)險；另一方面不斷通過戰(zhàn)略并購，快速擴大市場份額、打通上游供應(yīng)鏈、攫取技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢、擴展業(yè)務(wù)領(lǐng)域。通過收購光源大廠Cymer、電子束檢測設(shè)備商 HMI 以及入股鏡頭龍頭卡爾蔡司等，ASML 構(gòu)建起完整的上游供應(yīng)

27、鏈，并且快速獲得了光源、鏡頭等光刻機零件領(lǐng)先的技術(shù)，占據(jù)技術(shù)高地，進一步促進公司技術(shù)的創(chuàng)新。圖 7：ASML 的戰(zhàn)略并購線路圖資料來源：公司官網(wǎng)， 2001L收購美國光刻機巨頭硅谷集團GL尚未掌握新一代 157nm 成熟的 157nm 光學(xué)技術(shù)，于是 2007 年，ASML 收購了美國 Brion 公司，這是一家專門從事計算光刻集成電路的公司，成為 ASML 整體光刻產(chǎn)品戰(zhàn)略的基石。2013 L 收購了全球領(lǐng)先的準(zhǔn)分子激光器廠商yerV 光源技術(shù)的發(fā)展，Cymer 193nm HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。波長的光刻

28、應(yīng)用而設(shè)計的 ArF 光源；2001 年推出業(yè)界首款光刻光源專用電子診斷和性能監(jiān)控軟件 Cymer 193nm ArF 光源 ，之后 Cymer 2009 yer 提供了首個生產(chǎn)就緒的激光產(chǎn)生的等離子EV源。 對 Cymer 的收購，加速了 半導(dǎo)體光刻技術(shù)的發(fā)展。圖 8：Cymer 的新技術(shù)發(fā)布情況一覽資料來源：Cymer 公司官網(wǎng)， 2016 收購了臺灣領(lǐng)先的電子束晶圓檢測設(shè)備的半導(dǎo)體設(shè)備廠商 市占率高達 85%進一步拓展了 電子光束解決方案業(yè)務(wù)，自收購 MI （ef5 ，為客戶提供了檢測模式缺陷2017 收購德國卡爾蔡司子公司 24.9%股權(quán)(據(jù)公司年報披露2019 又收購了競爭對手 開放

29、創(chuàng)新：建立開放研究網(wǎng)絡(luò)，合理共享研發(fā)成果ASML 與研究機構(gòu)、學(xué)院、外部技術(shù)合作伙伴建立巨大開放式研究網(wǎng)絡(luò)，共同研發(fā)與改進。 依托自身的資源和技術(shù)積累，主導(dǎo)打造了囊括研究機構(gòu)、高等院校、合作伙伴的巨大 圖 9：ASML 與研究機構(gòu)、學(xué)院、外部技術(shù)合作伙伴建立巨大開放式研究網(wǎng)絡(luò)資料來源：公司官網(wǎng)， HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。與納米光刻技術(shù)高級研究中心、塔塔鋼鐵和阿姆斯特丹 大學(xué)的研究人員合作開與卡爾蔡司公司和 Cadence 和世界著名的研究和創(chuàng)新中心的合作伙伴還包括加州勞倫斯利弗莫LCC 等。開放式創(chuàng)新在 ASM

30、L 的崛起中發(fā)揮了巨大作用，開放式創(chuàng)新促成 ASML 的兩次轉(zhuǎn)折，由此ASML 建立起技術(shù)領(lǐng)先優(yōu)勢，促成 領(lǐng)域技術(shù)壟斷局面。其中與臺積電成功研發(fā)“浸沒LLC 組織共同研發(fā) 歷史上的兩次重要轉(zhuǎn)折，第一次使得 ASML 市場占有率位居全球第一，第二次使得成為 領(lǐng)域的獨家壟斷者。70市場份額直至上世紀(jì) 90 193nm 波長縮短到 157nm1.4132n。其他廠商基本都拒絕合作，此時 2003 和臺積電共同研發(fā)成功全球第一臺浸沒式微影機，一時成為市場上最為先2009 年 的凈銷售收入已達到 22.90 億美元，據(jù)芯思想研究院統(tǒng)計，其市場份額已達 左右，躍居世界第一。轉(zhuǎn)折二：加入 LLC，成功推出

31、光刻機，成為超高端市場的獨家壟斷者1997 年ntel 和美國能源部共同發(fā)起成立EV LLC光刻技術(shù)。英特爾邀請 ASML 和尼康一起加入該組ASML 成功加入 LLC，能夠享受其基礎(chǔ)研究成果，尼康卻沒能加入。圖 10：世界 EUV 光刻機的發(fā)展歷程資料來源：公司官網(wǎng)， HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。1997 加入 LLC 的研究成果大大加快了其 的研發(fā)速度。2005 年前后，摩爾定律的延續(xù)再度陷入停滯。極紫外光刻技術(shù)雖被認(rèn)為是制程突破10nm 仍堅持投入研發(fā)，并積極向外尋求研發(fā)支持。在政府經(jīng)費方面，阿斯麥從歐盟第六

32、框架研發(fā)計劃中獲得 235 L 53 億歐元研發(fā)資金，并向股東提供設(shè)備的優(yōu)先使用3 15 More Moore” EV 2010 SL 推出第一臺EV光刻機： 3100。2013 年收購美國準(zhǔn)分子激光源企業(yè) Cymer，進一步打通了極紫外光刻機的生產(chǎn)產(chǎn)業(yè)鏈，并于同年推出第二款 光刻機 。2017 推出第三款 光刻機 NXE：3400B。自此，ASML 成為全球唯一一家能夠設(shè)計和制造 光刻機設(shè)備的廠（工信論壇）圖 11：ASML 的 EUV 光刻機研制歷程：已成功發(fā)布三款資料來源：公司官網(wǎng)， 細看產(chǎn)品信息，論ASML?光刻歷史：從 g-Line到 EUV7nm工藝節(jié)點隨著光源的改進和工藝的不斷創(chuàng)

33、新，光刻機經(jīng)歷了五代產(chǎn)品的發(fā)展，每一代在光源、波長、設(shè)備、最小工藝節(jié)點上都實現(xiàn)了較大突破。第一代光刻機光源是 g-Line，波長為 436nm，可以滿足 0.8-0.35 微米制程芯片的生產(chǎn)，對i-Line，波長為 足 0.8-0.25 微米制程芯片的生產(chǎn)。第三代光刻機光源是 ，波長為 248nm，最小工藝節(jié)點提升至 180-130nm 22nm 13.5nm。光刻機使用的則是波長 13.5nm 的極紫外光。從第一代到第四代光刻機的波長不斷減短，工藝節(jié)點不斷提高，光刻機技術(shù)由落后逐步邁向成熟，目前該技術(shù)已至爐火純青。第一代光刻機（g-Line ）由于工藝較為5 納米。圖 12：光刻機的發(fā)展史資

34、料來源：公司官網(wǎng)， HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。產(chǎn)品組合：以三種光刻機為核心，輔之以應(yīng)用組合 5500 的超紫外光 DUV 光刻系統(tǒng)占 6 圖 13：ASML 公司的產(chǎn)品情況資料來源：公司官網(wǎng)， 核心產(chǎn)品：光刻機產(chǎn)品種類豐富，同時涉及低、中、高、超高端市場5500 光刻機、光刻機，同時涉及低、中、高、超高端市場。5500 到 再 HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。到 90nm 到 10nm 到 5nm是最具價格優(yōu)勢的系列，到 光刻機的價格昂貴

35、，單價到達 1.2 億美元。表 2：ASML 光刻機產(chǎn)品差異性列表系統(tǒng)分辨率制成節(jié)點光源波長型號（種類）PAS 550090 nm90 nmi-Line、g-Line、KrF、ArF193-365 nm8 種DUV38 nm10nmi-Line、g-Line、KrF、ArF193-365 nm8 種EUV13 nm5nmEUV13.5 nm3 種資料來源：公司官網(wǎng)， 翻新的 5500 光刻機：價格較低，將逐步被市場淘汰ASML 已經(jīng)停止生產(chǎn) 5500，該系列未來將逐步被市場淘汰。表 3：ASML 提供的翻新光刻機系統(tǒng)規(guī)格列表PAS 5500-1150CPAS 5500- 8TFH-APAS 5

36、500-850CPAS 5500-750FPAS 5500-450FPAS 5500-350CPAS 5500-275CPAS 5500-100D資料來源：公司官網(wǎng)， DUV光刻機：浸沒式光刻機突破 193nm10nm制程節(jié)點提供的 光刻機的突破性在于將波長縮短到 134nm，最高可以實現(xiàn) 10nm 制程節(jié)點，規(guī)格主要有四種。圖 14：ASML 的浸沒式 DUV 系統(tǒng)設(shè)備圖資料來源：公司官網(wǎng)， 其中 TWINSCAN NXT：2000i 是最先進的浸沒式光刻系統(tǒng)，正在大規(guī)模制造 7 納米邏輯和高級 節(jié)點，該系統(tǒng)提高了投產(chǎn)時間，在 15 周內(nèi)達到了平均中斷時間) 小NXT1980i 快了近 TW

37、INSCAN 于 2015 年推出，具有高生產(chǎn)率和高可靠性，是一種高效的雙級浸入式光刻工具，可用于在低于 10 納米的節(jié)點上批量生產(chǎn) 毫米硅片。TWINSCAN NXT：1970Ci 和 1965Ci 均采用雙階段概念，有較高生產(chǎn)率和出色的圖像分辨率。圖 15：TWINSCAN NXT:2000i 浸入式系統(tǒng)性能提升示意圖資料來源：公司官網(wǎng)，Matched Machine Overlay， HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。DUV光刻機：干燥式光刻機技術(shù)位于落后水平干燥式光刻機系統(tǒng)，一直無法突破 193nm 的波長，最高

38、可到達 55nm 的制程節(jié)點，技術(shù)較為落后。TANT14601060860400LTANT：1460K是最新一代的雙級 ArF 30%的生產(chǎn)率提升。TWINSCAN XT：1060K 是 最先進的 KrF 激光光刻系TWINSCAN XT：860M 是雙級 步進掃描光刻系統(tǒng)，用于在 110nm 分辨率和低于 分辨率下生產(chǎn) 200mm 和 300mm 的晶片。TWINSCAN XT：400L 是 最新一代的 雙級光刻系統(tǒng)，可用于 和 晶圓生產(chǎn)。圖 16：ASML 的干燥式 DUV 系統(tǒng)設(shè)備圖資料來源：公司官網(wǎng)， 光刻機：高度技術(shù)壟斷，價格昂貴，單價高達上億美元光刻機是最為先進的一代光刻機， 光刻

39、機采用波長為 13.5nm 的極外紫光做光源, 最高制程節(jié)點目前可達 5nm。TWINSCAN NXE：3400B 是 最新一代的 光刻系生產(chǎn)該設(shè)備，在 光刻機領(lǐng)域 掌握了獨家壟斷權(quán)。 HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。圖 17：ASML 的 TWINSCAN NXE:3400B 型號 EUV 設(shè)備圖資料來源：公司官網(wǎng)， EUV 光刻機使得流程得到簡化，設(shè)備性能得到提高。EUV 光刻機擁有一流的疊加性能和聚焦性能，與多模式方案相比，EUV 光刻機使成本降低 15%至 50%，周期時間縮短了 3 到 6 倍，并且 EUV

40、光刻機擁有極高的分辨率。圖 18：EUV 技術(shù)性能提升示意圖資料來源：公司官網(wǎng)， 目前 正在開發(fā)下一代的 4 月已收到了下一代系 系統(tǒng)，總共訂購了 4 8 個卷系統(tǒng)的選項；計劃在 2021 年開始發(fā)貨。有了這項技術(shù)，半導(dǎo)體行業(yè)將能夠以更低的成本前 系統(tǒng)的光學(xué)系統(tǒng)數(shù)值孔徑為 0.33，而新光學(xué)系統(tǒng)的數(shù)值孔徑為 0.55，可以實現(xiàn)幾代幾何芯片縮放。其他產(chǎn)品：通過收購與整合，拓展電子光束解決方案等應(yīng)用組合ASML 不斷走向整體光刻道路，通過收購與整合，ASML 拓展了計量和檢測、計算光刻和軟件等產(chǎn)品組合，涵蓋從研發(fā)到批量生產(chǎn)的每一步制造流程。圖 19：ASML 產(chǎn)品組合流程圖資料來源：公司官網(wǎng)， H

41、YPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。 光學(xué)計量解決方案主要提供三種規(guī)格的 375F380G1375F2018 在所425-880 Yieldstar 350E 50%之后，內(nèi)存制造商的覆蓋性能得到顯著改進。表4：ASML的YieldStar光學(xué)計量解決方案系統(tǒng)性能YieldStar 375F425-880 波長采集移動獲取測量時間比Yieldstar 350E 提高了 50%。YieldStar380G具有更高的吞吐量和精度，并且總批量處理時間比YieldStar 375F 快了 50%。YieldStar1375FS-37

42、5F 長采集移動采集時間，并提高了測量信號。資料來源：公司官網(wǎng)，信證券研究中心圖 20：ASML 的 YieldStar 光學(xué)計量解決方案資料來源：公司官網(wǎng)， HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。電子束計量和檢測解決方案2016 通過收購領(lǐng)先的電子束測量工具 電子光束解決方案業(yè)務(wù)。自收購 HMI 以來，ASML 提供了多個 系統(tǒng)，這是一種模式保真度計量的計量技術(shù)和 Brion 的計量軟2018 在多波束技術(shù)上也取得圖 21：電子束計量和檢測解決方案資料來源：公司官網(wǎng)， 圖 22：ASML 的應(yīng)用層級產(chǎn)品示意圖資料來源：公司

43、官網(wǎng)， 銷售情況：、EUV占據(jù)近八成銷售收入，EUVi從出貨量上看，2019 年第二季度出貨 48 臺光刻機，與第一季度持平。圖 23：2018-2019 年 ASML 光刻機季度出貨量（臺）7060總出貨量臺）總出貨量同比變動64530-2.04 -249485040302010-17.240-4-6-8201820182018201820192019資料來源：公司官網(wǎng)， 年前兩季度出貨量最高的仍然是 ii 光刻取代；EUV 光刻機出貨量則出現(xiàn)高速增長趨勢， 2019 年前兩季度共出貨 臺，較去年同期增長 。圖 24：2018-2019 年 ASML 光刻機季度出貨量（臺）EUVArF iA

44、rF KrFi-Line19 192122242219181719141378895555557461334319 192122242219181719141378895555557461334325151050201820182018201820192019資料來源：公司官網(wǎng)， 從凈銷售收入占比上看，占比最大的是 ArF i、光刻機，共占據(jù)近八成的銷售收入額， 其中 ArF i 光刻機凈銷售收入占比則穩(wěn)中有升，2019 ArF i、光刻機的凈銷售收入基本持平。隨 光刻技術(shù)逐漸成熟，未來 光刻機對凈銷售收入的貢獻率仍有望提高。圖 25：2018-2019 年 ASML 凈銷售收入占比情況100

45、%計量和監(jiān)測系統(tǒng)i-LineKrFArF ArF iEUV80%60%40%20%0%49%41%58%57%60%72%32%41%25%24%22%7%2018 Q12018 Q22018 Q32018 Q42019 Q12019 Q249%41%58%57%60%72%32%41%25%24%22%7% HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。資料來源：公司官網(wǎng)， ?業(yè)績情況：季度業(yè)績呈現(xiàn)周期性波動，1993-2018年度情況：二十五年來營收實現(xiàn)近 71 倍的增長，凈利潤實現(xiàn)了近 208 倍的增長從年度指標(biāo)上看，自 19

46、93 年以來 ASML 的凈銷售收入和凈利潤雖有波動，但總體呈明顯的上升趨勢。從銷售凈收入上看，可以分為六個階段，第一階段：1993-2003 年，是緩慢增長期，凈銷售收入在十年內(nèi)幾乎沒有大幅度的增長。第二階段：2003-2007 年，是兩倍增長期，這一階段凈銷售收入急速增長，從 2003 年的 17億增長到 2007 年的 52 億美元，實現(xiàn)了近兩倍的增長。第三階段：2007-2009 年，急速下滑期，經(jīng)歷了五年的急速增長后，ASML 進入急速下滑的兩年，到 2009 年凈銷售收入幾乎回到了 2003 年的水平，只有 20 億美元左右。第四階段：跨越兩連增，2009-2011，這兩年是具有跨

47、越意義的兩年，2010 年凈銷售收入到達近 60 億美元，2011 年到達近 80 億美元，從此ASML 的營業(yè)收入進入一個新的體量。第五階段：2011-2016，緩慢增長期，在這五年內(nèi)凈銷售收入基本維持在 80 億元左右，有緩慢增長趨勢。第六階段：2016-2018，百億新階段，這兩年內(nèi) ASML 又實現(xiàn)了快速增長，且在 2017 年凈銷售收入首次突破一百億美元，進入一個新的體量。經(jīng)歷了六個階段，2018 年 實現(xiàn)年凈銷售收入 129.26 億美元，同比增長 22.1%， 1993-2018 年復(fù)合增速 19%。2018 年實現(xiàn)凈利潤 31.94 億美元，同比增長 36.21%，1993-2

48、018 年復(fù)合增速 24%。圖 26：ASML 1993-2018 年度凈銷售收入情況：五個增長階段0FY 1993FY 1995FY 1997FY 1999FY 2001FY 2003FY 2005FY 2007FY 2009FY 2011FY 2013FY 2015FY 2017營業(yè)收入(百萬美元)緩慢增長期兩倍增 長期營業(yè)收入增長率（%）營業(yè)收入(百萬美元)緩慢增長期兩倍增 長期營業(yè)收入增長率（%）百億階段跨 越急速下滑期性 兩連增緩慢 增長期500-100 HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。資料來源：Bloomberg， HYPERLI

49、NK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。圖 27：ASML 1993-2018 年度凈利潤情況0凈利潤百萬美元)凈利潤增長率FYFYFYFYFYFYFYFYFYFYFYFYFYFYFYFY 1993 1995 1997 1999 2001 2003 2005 2007 2009 2011 2013 2015 2017800.00%600.00%400.00%200.00%0.00%資料來源：Bloomberg， 70%左右來源于服務(wù)和現(xiàn)場期權(quán)的銷2018 5.8%50%，而邏輯部門是 ASML 系統(tǒng)的最大消費者。從銷售市場來看，凈銷售收入三大來源地是臺灣、韓國、美

50、國，共占比70%左右。圖28：ASML年度凈銷售收入來源情況圖 29：ASML年度凈銷售收入地區(qū)分布情況100%90%80%70%60%50%40%30%20%10%0%服務(wù)和現(xiàn)場期權(quán)銷售系統(tǒng)銷售100%80%60%40%20%0%ofAsiaUnitedFYFYFYFYFYFY20052007200920112013FY2017FYFYFYFYFYFYFYFY 2004 2006 2008 2010 2012 2014 2016 2018 HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。資料來源：Bloomberg，資料來源：Bloomberg， HYPE

51、RLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。2001 2009 年前后出現(xiàn)較大波動外，毛利率和凈利率總體呈現(xiàn)小幅上升趨勢，從 1993 年到 2018 年毛利率由 25.8% 上漲到 8.5%24.7%2017 上升到 2018 46.0%， 圖 30：ASML 1993-2018 年度利潤率情況毛利率（%）凈利率（%）FYFYFYFYFYFYFYFYFYFYFYFYFYFYFYFY 1993 2005 403020100資料來源：Bloomberg， 季度情況：凈銷售收入和凈利潤呈現(xiàn)周期性波動 2014 2018 2019 的情況來看， 2019 25.31

52、4.06、5.36 億美元。圖31：ASML季度凈銷售收入情況圖 32：ASML 季度凈利潤情況0營業(yè)收入百萬美元)營業(yè)收入增長率0120010000凈利潤百萬美元)凈利潤增長率200.00%150.00%100.00%50.00%0.00%-50.00%-100.00%Q1 Q1 Q1 Q1 Q1 Q1 Q1 Q1 Q1 Q12010 2011 2012 2013 2014 2015 2016 2017 2018 20192010 2011 2012 2013 2014 2015 2016 2017 2018 2019資料來源：Bloomberg，資料來源：Bloomberg，從季度利潤率上

53、看，ASML 的毛利率和凈利率相對較為穩(wěn)定，毛利率在 40%的水平上下波動，凈利率在 20%的水平上下波動。圖 33：ASML 2010Q1-2019Q2 季度利潤率情況毛利率（%）凈利率（%）503020100Q1 Q3 Q1Q3 Q1 Q3 Q1Q3 Q1Q3 Q1Q3 Q1Q3 Q1Q3 Q1 Q3 Q1 HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。 HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。研發(fā)情況：研發(fā)投入高達 17.46萬項2018 年 的研發(fā)費高達 億美元， 占凈銷售收入的比重為 14.4%2018

54、 年 月 在全球主要設(shè)備和芯片制造國擁有約 12000 項專利和專利申請，新專利申請大約有 300 項。圖 34：ASML 2014-2018 年研發(fā)情況02014研發(fā)費用百萬美元）研發(fā)占比（%）20152016201720.00%18.00%16.00%14.00%12.00%10.00%8.00%6.00%4.00%2.00%0.00%資料來源：公司官網(wǎng)， 費用情況：費用支出占比呈下降趨勢，20184.46%的銷售成本、綜合開銷及行政管理費用及占銷售收入的比例較低，并且占比呈現(xiàn)下降趨勢，從 2014 財年的 5.48%下降到 2018 財年的 。2018 年銷售成本、綜合開銷及行政管理費用

55、僅 5.41 億美元，占凈銷售收入的比例只有 4.46%。圖 35：ASML 近五年費用情況600（%)6.00%5005.00%4004.00%3003.00%2002.00%1001.00%0201420152016201720180.00% HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。資料來源：公司官網(wǎng)， 競爭格局：穩(wěn)居光刻機市場第一，是超高端領(lǐng)域獨家壟斷者ASML 無論是產(chǎn)品、年代 市場份額不達 5%，尼康、GCA 各占 30%，到 1980 年代末期尼康占據(jù)近 50%70%的光刻機市場份額。 HYPERLINK / HY

56、PERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。圖 36：全球光刻機市場競爭格局演變1980-1990 的市場份額80 年代初尼康發(fā)布首臺商用的 Stepper NSR-1010G,并1984 GCV 各占據(jù)了近 30%的市場，Ultratech 占 10%的市場，其余每家都不到 5%；接著 80 年代末期 GCA 資金匱乏被收購，尼康占據(jù)了全球近 50%的市場，坐上第一的寶座，并在接下來的 10 年里一直保持領(lǐng)先地位。圖 37：1984 年全球光刻機市場競爭格局圖 38：1980 年代末期全球光刻機市場競爭格局其他，尼康30%Ultratech 10%尼康其他

57、資料來源：東方財富網(wǎng)， 資料來源：東方財富網(wǎng)， HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。2000 年代：ASML躍居第一，占據(jù) 市場份額1990 年代，干式微影技術(shù)遇到了瓶頸：光刻光源無法從 193nm 波長縮短到 157nm。此時， 擔(dān)任臺積電研發(fā)副總經(jīng)理的林本堅提出可以把透鏡和硅片之間的介質(zhì)從空氣換成水，波長可縮短為 132nm，其他廠商基本都拒絕合作， ASML 決定和臺積電合作研究“浸沒式”方解決方案。2003 和臺積電共同研發(fā)成功全球第一臺浸沒式微影機，一時成為市場上最為先2009年 ASML 的市場份額已達 70%

58、左右，躍居世界第一。2010 年代：ASML穩(wěn)居第一，占據(jù) 的市場份額2005 年前后，摩爾定律的延續(xù)再度陷入停滯，10 堅持大量資金投入研發(fā) 光刻機，終于在 2010 年 ASML 推出第一臺 光刻機 NXE：3100， 2013 V 光刻機 E3300EV 光刻機 E3400。由此，ASML 成為全球唯一一家能夠設(shè)計和制造 EUV 光刻機設(shè)備的廠商，成為了超高端市場的獨家壟斷者，技術(shù)上極大領(lǐng)先于尼康、佳能。 7 光刻機設(shè)備的市場占有率達 100%。尼康銷售的光刻機涉及低、中、高端市場，尼康的 系列與 ASML 的 ArF 浸ASML5納米、7 納米領(lǐng)域無力與之抗衡；而佳能只能生產(chǎn)低端的光刻

59、機，制程節(jié)點只能達到 90 納米，與 技術(shù)水平差距較大。圖 39：ASML、尼康、佳能生產(chǎn)的光刻機情況資料來源：ASML 官網(wǎng)，知芯人， 制圖ASML HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。圖 40：尼康集團業(yè)務(wù)情況圖 41：佳能公司業(yè)務(wù)情況資料來源：尼康官網(wǎng)， 資料來源：佳能官網(wǎng)， 據(jù) 10 等創(chuàng)新的驅(qū)動下，芯片制造商的業(yè)績將加速增長，低、中、高、超高端光刻機市場規(guī)模有望持續(xù)增長。L 預(yù)計 2020 10 （約 14 205150 （約 16 ，高端市場凈銷售收入有望達 240 億歐元（約 266 億美元。圖 42：ASM

60、L 對市場增長的預(yù)測情況資料來源：公司官網(wǎng)， 內(nèi)存和邏輯芯片需求預(yù)期增長，推動光刻機需求增長和 IDM)，第二組由代工廠制造商組成，代工制造商不設(shè)計芯片，而是為其他公司生產(chǎn)芯片。內(nèi)存和邏輯芯片的需求增長驅(qū)動光刻機需求的增長。ASML 預(yù)計未來芯片需求將持續(xù)增長， 據(jù)公司官網(wǎng)介紹，在過去的 20 年里，芯片市場以每年 5%的平均速度增長，但是隨著時間的 HYPERLINK / HYPERLINK / 本報告版權(quán)屬于安信證券股份有限公司。各項聲明請參見報告尾頁。 和 市場的短缺，內(nèi)存制造商經(jīng)歷了價格水平的上升，在過去的幾個月里，價格有所下降，盡管仍處于高利潤水平。明年，節(jié)點遷移和庫存削減可能足以滿