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文檔簡介
1、.11(P32)設(shè)晶格常數(shù)為a的一維晶格,導(dǎo)帶極小值附近能量Ec(k)和價帶極大值附近能量Ev(k)分別為:Ec(k)=+和Ev(k)= ;m0為電子慣性質(zhì)量,k11/2a;a0.314nm。試求:禁帶寬度;導(dǎo)帶底電子有效質(zhì)量;價帶頂電子有效質(zhì)量;價帶頂電子躍遷到導(dǎo)帶底時準(zhǔn)動量的變化。解 禁帶寬度Eg根據(jù)0;可求出對應(yīng)導(dǎo)帶能量極小值Emin的k值:kmin,由題中EC式可得:EminEC(K)|k=kmin=;由題中EV式可看出,對應(yīng)價帶能量極大值Emax的k值為:kmax0;并且EminEV(k)|k=kmax;EgEminEmax0.64eV導(dǎo)帶底電子有效質(zhì)量mn; mn價帶頂電子有效質(zhì)量
2、m,準(zhǔn)動量的改變量k(kmin-kmax)= 12(P33)晶格常數(shù)為0.25nm的一維晶格,當(dāng)外加102V/m,107V/m的電場時,試分別計算電子自能帶底運動到能帶頂所需的時間。解 設(shè)電場強度為E,F(xiàn)=h=qE(取絕對值) dt=dk t=dk= 代入數(shù)據(jù)得:t(s)當(dāng)E102 V/m時,t8.3108(s);E107V/m時,t8.31013(s)。 314(P82)計算含有施主雜質(zhì)濃度ND91015cm-3及受主雜質(zhì)濃度為1.11016cm-3的硅在300k時的電子和空穴濃度以及費米能級的位置。解對于硅材料:ND=91015cm-3;NA1.11016cm-3;T300k時 ni=1.
3、51010cm-3:;且318(P82)摻磷的n型硅,已知磷的電離能為0.04eV,求室溫下雜質(zhì)一半電離時費米能級的位置和磷的濃度。解n型硅,ED0.044eV,依題意得:42(P113)試計算本征Si在室溫時的電導(dǎo)率,設(shè)電子和空穴遷移率分別為1350cm2/VS和500cm2/VS。當(dāng)摻入百萬分之一的As后,設(shè)雜質(zhì)全部電離,試計算其電導(dǎo)率。比本征Si的電導(dǎo)率增大了多少倍?解T=300K,,n1350cm2/VS,p500 cm2/VS摻入As濃度為ND5.00102210-65.001016cm-3雜質(zhì)全部電離,查P89頁,圖414可查此時n900cm2/VS畢413(P114)摻有1.11
4、016 cm-3硼原子和91015 cm-3磷原子的Si樣品,試計算室溫時多數(shù)載流子和少數(shù)載流子濃度及樣品的電阻率。解NA1.11016 cm-3,ND91015 cm-3可查圖415得到cm(根據(jù),查圖414得,然后計算可得。)畢415(P114)施主濃度分別為1013和1017cm-3的兩個Si樣品,設(shè)雜質(zhì)全部電離,分別計算:室溫時的電導(dǎo)率。解n11013 cm-3,T300K,n21017cm-3時,查圖可得55(P144)n型硅中,摻雜濃度ND1016cm-3,光注入的非平衡載流子濃度np1014cm-3。計算無光照和有光照時的電導(dǎo)率。解n-Si,ND1016cm-3,np1014cm-3,查表414得到:無光照:npND,為小注入:有光照:57(P144)摻施主雜質(zhì)的ND1015cm-3n型硅,由于光的照射產(chǎn)生了非平衡載流子np1014cm-3。試計算這種情況下準(zhǔn)費米能級的位置,并和原來的費米能級做比較。解n-Si,ND1015cm-3,np1014cm-3,光照后的半導(dǎo)體處于非平衡狀態(tài):室溫下,EgSi1.
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