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文檔簡(jiǎn)介

1、1、頜位關(guān)系記錄:是指用禾托來(lái)確定并記錄在患者面部下1/3的適宜高度和兩側(cè)牌突在下頜關(guān)節(jié)凹生理位置時(shí)的上下頜位置關(guān)系,以便在這個(gè)上下頜骨的位置關(guān)系上,用全口義齒來(lái)重建無(wú)牙頜患者的正中禾關(guān)系。2、全口義齒的平衡禾:全口義齒的平衡禾是指下頜在正中禾及前伸、側(cè)方運(yùn)動(dòng)時(shí),上下頜相關(guān)的牙齒都是能同時(shí)接觸的一種咬合關(guān)系。3、無(wú)牙頜印模:是用可塑性印模材料取得的無(wú)牙上、下頜牙槽崎和周圍軟硬組織的陰模。一、填空:1 .全口義齒是為牙列缺失患者制作的義齒(修復(fù)體)。2 .全口義齒的修復(fù)對(duì)象是牙列缺失的患者,是為無(wú)牙頜患者解決全部天然牙的缺失和部分軟、硬組織吸收與改變而制作的修復(fù)體。3 .全口義齒由人工牙和基托兩

2、部分組成。4 .牙列缺失是指患者上頜、下頜或上下頜的天然牙全部缺失,是臨床上常見(jiàn)的修復(fù)病例,多見(jiàn)于老年人。牙列缺失的最常見(jiàn)病因是齦病和牙周病。5 .牙列缺失患者的上下頜稱為無(wú)牙頜。6 .在口腔前庭,唇、頰系帶之間區(qū)域?yàn)榍肮瓍^(qū),頰系帶以后為后弓區(qū)。7 .前顫動(dòng)線為硬腭與軟腭腱膜結(jié)合的部位;后顫動(dòng)線又稱為“啊”線,約從一側(cè)翼上頜切跡延伸至對(duì)側(cè)的翼上頜切跡。前后顫動(dòng)線之間的區(qū)域,稱為后堤區(qū)。作為上頜全口義齒后緣的封閉區(qū),義齒基托組織面在此區(qū)域應(yīng)向黏膜方向突起。8 .后堤區(qū)前后向?qū)挾纫螂癫康男螒B(tài)不同可分為以下三種,即硬腭平坦形、硬腭高拱形、中間形。9 .牙列缺失后,會(huì)出現(xiàn)牙槽崎的吸收。吸收在缺失后前3

3、個(gè)月最快,35個(gè)月吸收速度減慢,大約6個(gè)月后吸收速度顯著下降,拔牙后2年吸收速度趨于穩(wěn)定,每年以0.5mm的水平吸收,將終生持續(xù)。因此,全口義齒修復(fù)的時(shí)機(jī)應(yīng)在拔牙后35個(gè)月;確實(shí)急需的,最早也應(yīng)在拔牙后1個(gè)月進(jìn)行。一般情況下,一副普通的全口義齒,使用34年后應(yīng)進(jìn)行必要的調(diào)禾和襯層處理,使用78年后應(yīng)予以重新修復(fù)。10 .牙列缺失后,牙槽崎吸收多少與骨質(zhì)致密度直接關(guān)系,由于上下頜骨內(nèi)外側(cè)骨板的密度不一,結(jié)果上頜牙槽崎吸收方向向上向內(nèi),上頜牙弓逐漸變小;下頜牙槽崎吸收方向向下向外,下頜牙弓逐漸變大。11 .根據(jù)無(wú)牙頜的組織和全口義齒的關(guān)系,將無(wú)牙頜分成四個(gè)區(qū),即主承托區(qū)、副承托區(qū)邊緣封閉區(qū)和緩沖區(qū)

4、12 .義齒有三個(gè)表面,即組織面、磨光面、咬合面,對(duì)義齒的穩(wěn)定和舒適有很大的影響。13 .全口義齒能附著在上下頜骨上是由于大氣壓力和吸附力等物理作用的結(jié)果。14 .吸附力包括附著力和粘著力。附著力是指不同分子之間的吸引力。粘著力是指同分子之間的內(nèi)聚力。全口義齒的基托組織面和黏膜緊密貼合,其間有一薄層的唾液,基托組織面與唾液,唾液與黏膜之間產(chǎn)生附著力,唾液本身分子之間產(chǎn)生粘著力。15 .在全口義齒分類方法中,按牙列缺失情況分為全頜全口義齒和單頜全口義齒;按牙列缺失后開(kāi)始修復(fù)的時(shí)間分為長(zhǎng)期型全口義齒、即刻全口義齒、過(guò)渡性全口義齒;按義齒結(jié)構(gòu)和支持形式分為黏膜支持式全口義齒、混合支持式全口義齒、根支

5、持式全口義齒。16 .獲取無(wú)牙頜的印模有多種方法,主要有:根據(jù)取印模的次數(shù),分為一次印模法和二次印模法;根據(jù)取印模時(shí)患者張口或閉口,分為開(kāi)口式印模和閉口式印模;根據(jù)取印模時(shí)是否對(duì)黏膜造成壓力,分為黏膜靜止式印模和黏膜運(yùn)動(dòng)式印模。臨床上常用的印模方法為一次印模法和二次印模法。17 .托盤(pán)是承載印模材料在口內(nèi)取得印模的工具,主要有成品托盤(pán)和個(gè)別托盤(pán)兩種。上頜托盤(pán)的寬度應(yīng)比上頜牙槽崎寬23mm,周圍邊緣高度應(yīng)離開(kāi)黏膜皺裘約2mm,唇頰系帶處呈切跡,托盤(pán)后緣兩側(cè)需蓋過(guò)翼上頜切跡,后緣連線位應(yīng)超過(guò)顫動(dòng)線34mm;下頜托盤(pán)的高度和寬度應(yīng)與上頜的托盤(pán)相同,后緣兩側(cè)應(yīng)蓋過(guò)磨牙后墊,舌側(cè)沿舌溝前行。18 .印模

6、材料的種類較多,常用的印模材料有藻酸鹽類印模材料、硅橡膠印模材料、印模石膏、印模膏等。目前最常用的是藻酸鹽類印模材料,這種材料目前在國(guó)內(nèi)被廣泛采用。19 .在無(wú)牙頜初印模上灌注石膏形成初模型,用來(lái)制作個(gè)別托盤(pán)。在無(wú)牙頜終印模上灌注石膏或人造石形成終模型(又稱工作模型)。20 .調(diào)拌石膏的方法為旋轉(zhuǎn)調(diào)拌,調(diào)拌速度為每分鐘30轉(zhuǎn)左右,調(diào)拌時(shí)間大約1分鐘,到石膏調(diào)拌均勻細(xì)膩時(shí)開(kāi)始灌注,灌模后靜置約半個(gè)小時(shí),石膏發(fā)熱凝固后可立即脫模。21 .模型形成的方法有圍模灌注法和一般灌注法22 .模型邊緣厚度以35mm為宜,模型最薄處也不能少于10mm。模型后緣應(yīng)在腭小凹后不少于2mm,下頜模型在磨牙后墊自其前

7、緣起向后不少于10mm。模型修整后底面要平,底座部分應(yīng)為工作部分的1/2。23 .當(dāng)天然牙列存在時(shí),上下頜骨的位置關(guān)系由緊密接觸的上下牙列來(lái)保持的。有兩個(gè)穩(wěn)定的參考位,即正中禾位、正中關(guān)系位。當(dāng)天然牙列缺失后,隨之喪失正中禾位,唯一穩(wěn)定參考位就是正中關(guān)系位了。24 .頜位關(guān)系記錄包括了垂直關(guān)系記錄和水平關(guān)系記錄兩部分。25 .禾托由基托與禾堤兩部分組成。26 .確定處置距離的方法有息止頜位法面部比例測(cè)定法面部外形觀察法哥特式弓描記法27 .確定水平頜位關(guān)系的方法很多,一般歸納為以下三類,即直接咬合法、肌監(jiān)控儀法28 .直接咬合法是指利用禾堤及禾間記錄材料,囑患者下頜后退并直接咬合在一起的方法。

8、包括卷舌后舔法、吞咽咬合法、后牙咬合法、鼓腮咬合法。30 .常用的暫基托材料有基托蠟片、自凝材料和光固化基托塑料板。31 .制上禾堤,放入口內(nèi)調(diào)改禾平面。要求禾平面的前部在上唇下緣以下約2mm,且與瞳孔連線平行;禾平面的后部,從側(cè)面觀要與鼻翼耳屏線平行。禾堤的唇面要充分襯托出上唇,使上唇豐滿而自然,禾堤后端整修成斜坡?tīng)睢?2 .檢查正中關(guān)系是否是正確方法有捫測(cè)顆肌法、捫測(cè)牌突動(dòng)度法、面部外形觀察法。33 .禾堤唇面畫(huà)標(biāo)志線包括中線、口角線、唇高線和唇低線。34.禾架的種類有四,分別是簡(jiǎn)單禾架、平均值禾架、半可調(diào)節(jié)禾架、全可調(diào)節(jié)禾架。34 .人工牙根據(jù)所使用的材料主要有兩大類樹(shù)脂牙和瓷牙。根據(jù)后

9、牙禾面形態(tài)分為兩大類解剖式禾面形態(tài)和非解剖式禾面形態(tài)。35 .平衡禾的分類包括正中平衡禾、前伸平衡禾、側(cè)方平衡禾。在非正中平衡禾中,根據(jù)上下牙接觸的數(shù)目,分為三點(diǎn)接觸禾平衡、多點(diǎn)接觸禾平衡、完全接觸的禾平衡。36 .與平衡禾有關(guān)的五因素為牌導(dǎo)斜度、切導(dǎo)斜度、牙尖工作斜面的斜度、補(bǔ)償曲線曲度定位平面斜度39 .在前伸平衡禾的調(diào)整中,前牙切緣接觸而后牙無(wú)禾接觸,表明切導(dǎo)斜度過(guò)大或牙尖斜度過(guò)小,在這種情況下,首先考慮增加補(bǔ)償曲線曲度使牙尖工作斜面斜度加大,其次考慮在不影響美觀和功能的原則之下,適當(dāng)減小前牙的切道斜度;前牙切緣無(wú)接觸而后牙有接觸時(shí),表明切導(dǎo)斜度過(guò)小,或牙尖斜度過(guò)大。一般調(diào)整后牙的遠(yuǎn)近中

10、向傾斜度,以減小補(bǔ)償曲線曲度。40 .在側(cè)向平衡禾的調(diào)整中,工作側(cè)早接觸而平衡側(cè)無(wú)接觸,主要是通過(guò)加大平衡側(cè)橫禾曲線的方法來(lái)調(diào)整;平衡側(cè)早接觸而工作側(cè)無(wú)接觸時(shí),可用減小平衡側(cè)橫禾曲線的方法來(lái)調(diào)整。41 .全口義齒的蠟型塑型包括基托塑形、牙齦、牙根及腭皺裘的塑形。43 .全口義齒的裝盒采用反裝法,即將模型包埋固定于下半型盒內(nèi),人工牙、基托完全暴露,翻到上半盒內(nèi)。44 .型盒由上層型盒、下層型盒和型盒蓋三部分組成。模型距型盒頂部至少應(yīng)有1cm。45 .裝盒前,將完成蠟型的模型從禾架上取下,浸泡在冷水中約10分鐘,使其吸足水分,以免裝盒時(shí)吸收裝盒石膏中的水分加快凝固速度及膨脹,不利于操作,導(dǎo)致裝盒包

11、埋不實(shí)。46 .裝盒時(shí),下層型盒的邊緣應(yīng)完全露出,以便與上層型盒吻合。待石膏結(jié)固(約30分鐘)后,其表面均勻涂一層分離劑。將上層型盒罩在其上檢查,要求上下兩層型盒的邊緣吻合良好,調(diào)石膏注入上層型盒內(nèi),為防止牙頸部和牙間隙處產(chǎn)生氣泡,可用排筆蘸石膏漿在這些部位先涂布一層。47 .上層型盒灌注后約30分鐘,包埋石膏完全硬固,此時(shí)方可進(jìn)行燙盒處理。置入80°C以上熱水中浸泡510分鐘,打開(kāi)型盒,去除軟蠟,用熱水的容器放于高處,用細(xì)水流沖洗干凈。48 .樹(shù)脂充填在20c左右室溫下,樹(shù)脂粉和液調(diào)和后約20分鐘達(dá)到面團(tuán)期,面團(tuán)期約維持5分鐘,此時(shí)進(jìn)行充填。49 .全口義齒的熱處理可采用濕式聚合法

12、(水浴加熱法)和干式聚合法兩種,目前常采用水浴加熱法。50 .出盒時(shí)機(jī),型盒經(jīng)熱處理后在水中自行冷卻,水溫降至50C以下時(shí),出盒最適宜。52.基托組織面是口腔黏膜的真實(shí)反映,除樹(shù)脂瘤、尖銳的凸起、殘留石膏渣以及需緩沖骨突等處外,一般不應(yīng)研磨。53.全口義齒人工牙選磨調(diào)禾的原則注意保護(hù)功能尖,消除咬合時(shí)的早接觸點(diǎn)去除下頜運(yùn)動(dòng)時(shí)的咬合干擾,達(dá)到平衡禾。調(diào)磨順序?yàn)椋赫泻痰倪x磨-側(cè)方禾的選磨f前伸禾的選磨。54 .在正中禾的選磨中,盡量調(diào)磨人工牙的斜面和窩,不降低牙尖高度。牙尖與斜面發(fā)生早接觸時(shí),應(yīng)調(diào)磨斜面;牙尖與窩發(fā)生早接觸時(shí),應(yīng)調(diào)磨與牙尖相對(duì)應(yīng)的窩斜面與斜面發(fā)生早接觸時(shí),兩斜面均可調(diào)磨。55 .

13、在側(cè)方禾的選磨中,工作側(cè)發(fā)生早接觸時(shí),應(yīng)調(diào)磨早接觸的牙尖斜面;平衡側(cè)發(fā)生早接觸時(shí),應(yīng)調(diào)磨上頜后牙舌尖的頰斜面或下頜后牙頰尖的舌斜面。側(cè)方禾上下尖牙禾干擾時(shí),可調(diào)磨上頜尖牙的舌斜面或下頜尖牙的唇斜面。56 .在前伸禾的選磨中,前牙接觸后牙不接觸時(shí),應(yīng)調(diào)磨上前牙的舌窩或下前牙切緣的唇斜面;后牙接觸前牙不接觸時(shí),應(yīng)調(diào)磨上頜后牙牙尖的遠(yuǎn)中斜面或下頜后牙牙尖的近中斜面。自凝軟襯材料重57.基托不密合重襯的方法有:直接重襯法、間接重襯法簡(jiǎn)答題1、簡(jiǎn)述影響全口義齒固位的有關(guān)因素。(1)頜骨的解剖形態(tài);(2)口腔黏膜的性質(zhì);(3)睡液的質(zhì)和量;(4)基托的邊緣。2、簡(jiǎn)述影響全口義齒穩(wěn)定的有關(guān)因素。(1)良好的

14、咬合關(guān)系;(2)合理的排牙;(3)理想的基托磨光面形態(tài)。3、.簡(jiǎn)述圍模灌注法的步驟和方法。在印模的周緣下約2mm處粘著一條約5mm寬的蠟棍,下頜印模的舌側(cè)邊緣間用蠟板封閉空隙;沿蠟棍外面及印模后緣圍繞一層成盒型蠟板,圍板上緣至印模最高處的距離不少于10mm。灌注石膏,完成4、簡(jiǎn)述基托磨光時(shí)需要注意的問(wèn)題(1)磨光需用各種磨具,磨具與義齒直接接觸,其質(zhì)量直接影響到研磨的效果,(2)磨具的工作轉(zhuǎn)速對(duì)研磨有一定影響,工作轉(zhuǎn)速快,研磨效率高,(3)操作時(shí)兩手要拿穩(wěn)義齒,用力得當(dāng),防止義齒在高速拋光下脫手飛出造成損壞。(4)操作時(shí)要遵循由粗磨逐漸到細(xì)磨的原則,細(xì)磨時(shí)要改變方向,使前后磨痕交叉成直角,使研

15、磨均勻。(5)在細(xì)磨時(shí),毛刷、布輪等工具一定要潤(rùn)濕,并不斷加磨光糊劑,不能干磨。否則易因摩擦產(chǎn)熱,造成基托表面焦化,破壞表面形態(tài)。5、.簡(jiǎn)述判斷樹(shù)脂充填是否足夠的標(biāo)志型盒周邊有多余的樹(shù)脂被擠出;玻璃紙較平整,皺褶不明顯;樹(shù)脂致密,顏色較深。A1型題1、上頜后部牙槽崎骨吸收的方向?yàn)锳向上、向后B向上、向外C向上、向內(nèi)D向后、向外E向上、向前2、下頜后部牙槽崎骨吸收的方向?yàn)锳向下、向后B向下、向外C向下、向內(nèi)D向后、向外E向下、向前3、全口義齒修復(fù)應(yīng)在拔牙多少時(shí)間后進(jìn)行A一周B三周C一個(gè)月D三個(gè)月E六個(gè)月4、無(wú)牙頜頜患者下頜下于正中關(guān)系位時(shí)上下頜牙槽崎頂間的距離稱為A開(kāi)口度B息止合間隙C垂直距離D

16、頜間距離E覆合5、全口義齒的固位和支持有利的粘膜情況是A厚、松軟B厚、韌C薄D薄、干燥EB或D6、口腔前庭內(nèi)相當(dāng)于原中切牙近中交界線的延長(zhǎng)線上的是A舌系帶B唇系帶C頰系帶D口輪匝肌的起始部E上頜義齒切跡7、腭小凹位于A切牙乳突前方B腭皺與切牙乳突之間C腭皺后方D上頜牙槽崎后緣E軟硬腭交界處,腭中縫兩側(cè)8、上頜義齒后堤區(qū)位于A磨牙后墊B腭小凹前方C前顫動(dòng)線之前D前后顫動(dòng)線之間E后顫動(dòng)線之后9、后堤區(qū)的作用是A基托后緣定位B邊緣封閉作用C支持作用D排牙標(biāo)志E緩沖作用10、切牙乳突的作用是A排列上頜中切牙的參考標(biāo)志B確定合平面的標(biāo)志C確定基托伸展范圍的標(biāo)志D確定牙槽崎頂?shù)臉?biāo)志E確定后堤區(qū)的標(biāo)志11、

17、上頜中切牙的唇面通常位于切牙乳突中點(diǎn)前A1-4mmB5-7mmC8-10mmD11-15mmE16-20mm12、上頜義齒基托不需要緩沖的部位是A切牙乳突B顫突區(qū)C腭中縫D顫動(dòng)線E上頜隆突13、切牙乳突是排列上牙切牙的解剖標(biāo)志,因?yàn)锳切牙乳突位于上頜腭中縫的前端B切牙乳突與上頜中切牙之間有較穩(wěn)定的關(guān)系C切牙乳突下方為切牙孔,排牙時(shí)要防止此處壓迫D切牙乳突的位置變化較小E兩個(gè)上中切牙的交界線應(yīng)以切牙乳突為準(zhǔn)14、下頜義齒的基托需要緩沖的部位是A磨牙后墊B下頜舌骨崎C頰系帶D頰側(cè)翼緣區(qū)E舌側(cè)翼緣區(qū)15、不利于義齒固位的解剖形態(tài)是A牙槽崎豐滿B牙弓寬大C粘膜厚韌D腭蓋高聳E系帶附著近牙槽崎頂16、不

18、屬于邊緣封閉區(qū)的是A上頜后堤區(qū)B下頜磨牙后墊區(qū)C牙槽崎粘膜與唇頰粘膜的反折處D能承擔(dān)部分咀嚼壓力的區(qū)域E能阻止空氣進(jìn)入基托與所覆蓋組織之間的區(qū)域17、屬于緩沖的部位是A切牙乳突區(qū)B磨牙后墊區(qū)C后堤區(qū)D牙槽崎頂區(qū)E頰側(cè)翼緣區(qū)18、根據(jù)無(wú)牙頜各部分組織結(jié)構(gòu)特點(diǎn)及全口義齒的關(guān)系,無(wú)牙頜被分為以下四區(qū),除了A主承托區(qū)B副承托區(qū)C邊緣封閉區(qū)D后堤區(qū)E緩沖區(qū)19、全口義齒與唇頰肌作用關(guān)系最密切的表面是A禾平面B磨光面C咬合面D組織面E吸附面20、全口義齒的固位是指A咀嚼時(shí)義齒不脫落B大張口時(shí)義齒不脫落C說(shuō)話時(shí)義齒不脫落D抬頭時(shí)義齒不脫落E從口內(nèi)取下義齒時(shí)有阻力21、全口義齒的固位力不包括A吸附力B附著力C

19、粘著力D磨擦力E大氣壓力22、與大氣壓力的產(chǎn)生關(guān)系最密切的是A基托面積B牙槽崎高度C邊緣封閉D后堤區(qū)寬度E粘膜厚度23、與全口義齒固位無(wú)關(guān)的是A基托面積B牙槽崎形態(tài)C粘膜性質(zhì)D唾液性質(zhì)E禾平衡24、與全口義齒穩(wěn)定無(wú)關(guān)的是A咬合關(guān)系B人工牙排列位置C禾平衡D基托密合E磨光面形態(tài)25、適度擴(kuò)大基托面積,可以達(dá)到以下目的,除了A減小單位面積受力B增加義齒強(qiáng)度C增大義齒吸附力D增大大氣壓力的作用E利于組織保健26、選擇上頜無(wú)牙頜印模托盤(pán)的標(biāo)準(zhǔn)包括A中部蓋過(guò)腭小凹后2mmB短于唇頰粘膜皺裘2mmC長(zhǎng)于唇頰粘膜皺裘2mmDA+BEA+C27、無(wú)牙頜的印模方法中錯(cuò)誤的是A用印模膏取一次性印模B用印模膏取初印

20、模C用印模膏做個(gè)別托盤(pán)D用舊義齒做個(gè)別托盤(pán)E用藻酸鹽印模材取終印模28、灌注無(wú)牙頜石膏模型時(shí),基厚度不應(yīng)少于A2mmB4mmC6mmD8mmE10mm29、在石膏模型上制作后堤區(qū)時(shí),深度為A<0.5mmB1-1.5mmC約2mmD4-5mmE6-10mm30、在石膏模型上制作后堤區(qū)時(shí),最寬處的寬度為A1mmB3mmC5mmD8mmE10mm31、符合下頜托盤(pán)選擇要求的是A邊緣應(yīng)與唇頰溝等高B舌側(cè)與口底等高C寬度與下頜牙槽崎等寬D后緣蓋過(guò)磨牙后墊E以上均是32、不符合無(wú)牙頜印模要求的是A印模細(xì)致、清晰B邊緣盡量伸展C邊緣要圓鈍,有一定厚度D組織受壓均勻E采取功能性印模33、制作個(gè)別托盤(pán)適用

21、于以下情況,除了A所有取無(wú)牙頜印模的情況B無(wú)合適成品托盤(pán)時(shí)C牙槽峭低平,兩側(cè)吸收不一致D牙槽崎過(guò)于豐滿E取研究模型時(shí)34、關(guān)于取印模時(shí)邊緣整塑,錯(cuò)誤的是A為了使義齒有良好的邊緣封閉B可用印模膏做C制作個(gè)別托盤(pán)后不需要D可由醫(yī)師牽拉患者面頰部E可以分區(qū)做35、下頜基托一般應(yīng)蓋過(guò)磨牙后墊的A全部B前2/3C前1/3-1/2D前1/4E前緣36、確定確定頜位關(guān)系是指A恢復(fù)面部適宜的垂直距離B確定正確的頜間距離C恢復(fù)面部生理生理形態(tài)D恢復(fù)牌突的生理后位和面部下1/3高度E糾正下頜習(xí)慣性前伸37、垂直距離通常指A眼裂至口角的距離B鼻底至口角的距離C口角至須底的距離D鼻底至須底的距離E上下牙槽崎項(xiàng)間的距離

22、38、垂直距離等于息止頜位垂直距離減去A1mmB2mmC5-6mmD7-8mmE9-10mm39、恢復(fù)適當(dāng)?shù)拇怪本嚯x的作用不包括A避免下頜前伸B面部比例和諧C肌張力正常D發(fā)揮最大咀嚼效能E有益于顆下頜關(guān)節(jié)健康40、確定正中關(guān)系綜合癥不正確的方法是A吞咽法B后牙咬合法C自主咬合法D肌監(jiān)控儀法E卷舌法41、臨床上用于記錄頜位關(guān)系的是A基托B暫基托C禾堤D禾托E蠟基托42、禾堤平面與上唇下緣的關(guān)系是A唇上2mmB與唇平齊C唇下2mmD唇下3mmE唇下4mm43、前牙區(qū)禾堤平面應(yīng)平行于A上唇B瞳孔連線C鼻底D鼻翼耳屏線E眶耳平面44、后牙區(qū)禾堤平面應(yīng)平行于A上唇B瞳孔連線C鼻底D鼻翼耳屏線E眶耳平面4

23、5、在禾堤上畫(huà)出的口角線為A上頜側(cè)切牙遠(yuǎn)中標(biāo)志線B上頜尖牙遠(yuǎn)中標(biāo)志線C下頜尖牙遠(yuǎn)中標(biāo)志線D上頜第一前磨牙遠(yuǎn)中標(biāo)志線E下頜第一前磨牙遠(yuǎn)中標(biāo)志線46、微笑時(shí)的唇高線位于上頜中切牙的A切緣B切1/3C切1/2D切2/3E齦緣47、微笑時(shí)的唇低線位于下頜中切牙的A切緣B切1/3C切1/2D切2/3E齦緣48、塑料牙與瓷牙比較,正確的說(shuō)法是A塑料牙質(zhì)輕,咀嚼效能高B瓷牙耐磨,但咀嚼效能低C瓷牙的塑料基托組合好,但易崩裂D塑料牙調(diào)禾方便E塑料牙不易變色49、解剖式人工牙的牙尖斜度為A45°B40C30D20E0°56、非解剖式人工牙的牙尖斜度為A45°B40°C30

24、°D20°E0°50、全口義齒人工后牙的近遠(yuǎn)中總長(zhǎng)度應(yīng)等于該側(cè)A尖牙近中面至磨牙后墊前緣的距離B尖牙遠(yuǎn)中面至磨牙后墊前緣的距離C尖牙遠(yuǎn)中面至磨牙后墊1/3處的距離D尖牙遠(yuǎn)中面至磨牙后墊1/2的距離E尖牙遠(yuǎn)中面至磨牙后墊后緣的距離51、全口義齒人工牙的排列要兼顧哪三個(gè)方面A美觀,功能和組織保健B美觀,堅(jiān)固和舒適C美觀,衛(wèi)生和舒適D美觀,堅(jiān)固E美觀,切割便利和舒適52、全口義齒的前牙要排列成淺覆合、淺覆蓋的目的是為了A美觀B排牙方便C易于取得前伸合平衡D發(fā)音清晰E與天然牙一致53、人工牙排列要有平衡禾的主要原因是A增大接觸面積B提高咀嚼效率高C有利于義齒穩(wěn)定D使義齒美

25、觀E糾正偏側(cè)咀嚼習(xí)慣54、以下排牙措施中正確的是A上頜后牙頰尖位于牙槽崎頂上B上頜后牙頰尖位于牙槽崎舌側(cè)C上頜后牙舌尖位于牙槽崎舌側(cè)D上頜后牙舌尖位于牙槽崎頂上E上頜后牙舌尖位于牙槽內(nèi)頰側(cè)55、上頜前牙頸部的唇舌向傾斜方向?yàn)锳中切牙向唇側(cè)、側(cè)切牙、尖牙向腭側(cè)B中切牙、側(cè)切牙向唇側(cè),尖牙向腭側(cè)C中切牙、側(cè)切牙向腭側(cè),尖牙向唇側(cè)D中切牙向腭側(cè),側(cè)切牙、尖牙向唇側(cè)E中切牙、側(cè)切牙和尖牙均向腭側(cè)56、上頜前牙的遠(yuǎn)中向傾斜角度為A中切牙=側(cè)切牙=尖牙B中切牙側(cè)切牙尖牙C中切牙尖牙側(cè)切牙D側(cè)切牙尖牙中切牙E尖牙側(cè)切牙中切牙57、上頜第一磨牙舌尖與禾平面的距離是A近中舌尖0mm,遠(yuǎn)中舌尖0.5mmB近中舌尖

26、0mm,遠(yuǎn)中舌尖1mmC近中舌尖0mm,遠(yuǎn)中舌尖1.5mmD近中舌尖1mm,遠(yuǎn)中舌尖0.5mmE近中舌尖1mm,遠(yuǎn)中舌尖2mm58、選擇人工前牙不必考慮的因素是A口角線、笑線的位置B患者面型及合弓型C患者膚色和年齡D患者健康狀況E患者的性別59、解剖式后牙的排列方法中錯(cuò)誤的是A4I4頰尖與禾平面接觸B5I5牙長(zhǎng)軸與禾平面垂直C6I6近中舌尖接觸禾平面D7I7頸部向腭側(cè)和遠(yuǎn)中傾斜E7I7沂中鄰面與6J6遠(yuǎn)中鄰面接觸60、全口義齒試戴的時(shí)間是在A義齒完成后B確定完頜位關(guān)系后C排好人工牙后D排列完前牙后E排列完前后牙后61、試戴時(shí),可采用如下方法判斷垂直距離是否正確,除了A戴入義齒后,是否不敢張口B

27、面部比例是否自然協(xié)調(diào)C鼻唇溝,須唇溝深度是否舒適D說(shuō)話時(shí)上下牙之間是否有碰擊聲E面容是否蒼老62、全口義齒初戴時(shí),如果出現(xiàn)前牙開(kāi)合,其原因不可能是A禾關(guān)系錯(cuò)誤B人工牙變位C上下頜基托遠(yuǎn)端有早接觸D后牙區(qū)咬合高E患者不會(huì)用義齒咬合63、義齒初戴時(shí)出現(xiàn)哪一情況需要返工重作?A就位困難B下頜偏向一側(cè)C發(fā)音不清D粘膜壓痛E基托邊緣過(guò)長(zhǎng)64、義齒初戴時(shí)出現(xiàn)疼痛的原因不包括A組織面有塑料小瘤B垂直距離過(guò)低C骨突處緩沖不夠D基托邊緣過(guò)長(zhǎng)E咬合不平衡65、義齒初戴時(shí),給患者的醫(yī)囑中錯(cuò)誤的是A會(huì)有異物感、發(fā)音不清等,要堅(jiān)持戴用B先進(jìn)食小塊軟食C避免咬硬物D可能有疼痛,要堅(jiān)持戴用E盡量用兩則后牙同時(shí)咀嚼66、義齒

28、正確的使用方法是A白天和晚上睡覺(jué)時(shí)都要戴義齒B初戴義齒后盡量白天和晚上都戴C晚上將義齒取下,浸泡在溫開(kāi)水中D晚上將義齒取下,浸泡在冷水中E晚上盡量戴用或浸泡在冷水中67、選擇后牙牙尖形態(tài)主要考慮:A.對(duì)頜牙的情況B.舊義齒的牙尖高度C.病人的意愿D.支持組織的條件E.價(jià)格因素68、全口義齒適應(yīng)的患者是()A.牙體缺損B.牙體缺失C.牙列缺損D.牙列缺失E.以上都不對(duì)69、全口義齒基托與唾液或黏膜與唾液之間產(chǎn)生的吸力稱為:()。A.大氣壓力B.粘著力C.附著力D.摩擦力E.內(nèi)阻力70、下列哪項(xiàng)不作為排牙的必需條件。A.人工牙排在唇頰肌向內(nèi)的力和舌肌向外的力大體相等的部位B.人工牙盡可能排在牙槽崎

29、頂上C.按一定規(guī)律排列,形成合適的補(bǔ)償曲線,橫禾曲線D.有禾平衡E.根據(jù)患者的要求排牙71、以下對(duì)無(wú)牙頜印模范圍的要求哪項(xiàng)不正確:()A,包括整個(gè)牙槽崎B.邊緣伸展到唇、頰、舌溝處C.上頜后緣伸展到腭小凹處D.上頜兩側(cè)后緣伸展到翼上頜切跡頰側(cè)蓋過(guò)上頜結(jié)節(jié)E.下頜后緣蓋過(guò)磨牙后墊72、全口義齒排牙的原則是:(A.牙臺(tái)平面平分頜間距離B.牙弓與頜弓一致C.前牙排牙淺覆牙合D.后牙排出牙合曲線E.以上都是73、塑料義齒磨光時(shí),正確的操作是。A.打磨從粗到細(xì)、先平后光。B.間斷打磨以免產(chǎn)熱過(guò)多C.不要破壞基托外形D.隨時(shí)變換打磨部位E.以上均是74、以下不是用于膠聯(lián)聚合設(shè)備的是:()A.壓榨器B.浸蠟

30、器C.沖蠟器D.聚合器E.注塑機(jī)75、不是合理的排牙的是()。A.人工牙排在唇頰肌向內(nèi)的力和舌肌向外的力大體相等的部位B.人工牙盡可能排在牙槽崎頂上C.按一定規(guī)律排列,形成合適的補(bǔ)償曲線橫禾曲線D.有禾平衡E.完全根據(jù)患者的要求排牙76、平衡禾是指()。A.正中禾時(shí)有廣泛均勻的接觸B.前伸禾時(shí),前后牙均有接觸C.側(cè)方禾時(shí),工作側(cè)和非工作側(cè)均有接觸D.B與CE.A與B與C77、全口義齒試戴時(shí),發(fā)現(xiàn)()肯定需要重作。A.惡心B.中線不對(duì)C.垂直距離過(guò)高D.發(fā)音不清E.牙色不協(xié)調(diào)78、全口義齒的緩沖區(qū)不包括()。A.切牙乳突區(qū)B.下頜舌骨崎區(qū)C.翼上頜切跡D,上頜硬區(qū)E,額突區(qū)79、全口義齒排牙時(shí)上頜第一磨牙近中舌尖應(yīng)()。A.接觸禾平面B,離開(kāi)禾平面0.5mmC.離開(kāi)禾平面1.0mmD.離開(kāi)禾平面1.5mmE.離開(kāi)禾平面0.1mm80、上頜全口義齒牙槽崎與硬區(qū)之間的區(qū)域是()。A.主承托區(qū)B.副承托區(qū)C.緩沖區(qū)D.邊緣伸展區(qū)E.邊緣封閉區(qū)81、采取印模時(shí)作主動(dòng)肌功能修整的方法是在印模未凝固之前()。A.輕輕拉上唇向上內(nèi)數(shù)次B.輕輕拉下唇向上內(nèi)數(shù)次C.輕輕拉頰部向前下內(nèi)、下頰部向前上內(nèi)數(shù)次E.以上均不對(duì)82、加熱固化型塑料的填塞應(yīng)在塑料調(diào)和后的:A.濕沙期B.稀糊期C.粘絲期D.面團(tuán)期E.橡膠期83、下頜基托一般應(yīng)蓋過(guò)磨牙后墊的()。A.全部B.2/3C.1/31/2

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