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文檔簡介

1、Ti 對 Sn0.7Cu 無鉛釬料潤濕性和界面的影響高洪永 1,2,衛(wèi)國強(qiáng) 1,羅道軍 2,賀光輝 2(1.華南理工大學(xué) 機(jī)械與汽車廣州 510640;2.工信部電子第五廣州 510610),可靠性研究分析中心,摘要:研究了 Ti 的加入對Sn0.7Cu 無鉛釬料潤濕性能以及釬料/Cu 界面微觀組織的影響。結(jié)果表明:在 Sn0.7Cu 中添加微量 Ti,提高了釬料的潤濕性能,可使鋪展面積提高 5%左右,釬焊時(shí)間為 3s 時(shí),界面金屬間化合物(IMC) 形貌由原來的扇貝狀變?yōu)殇忼X狀;隨著釬焊時(shí)間延長,Sn0.7Cu/Cu 和Sn0.7Cu0.008Ti/Cu 界面IMC 層厚度不斷增厚,其形狀逐

2、漸變?yōu)榘鍡l狀,并可觀察到 IMC 在釬料中的溶解、斷裂。同等條件下,Ti 的加入使界面 IMC 平均厚度減小約 10%25%;晶粒平均增加 20%75%,且釬焊時(shí)間越長,平均增加越小。:Sn0.7Cu 釬料;Ti;潤濕性;金屬間化合物號:TG425文獻(xiàn)標(biāo)識碼:A文章編號:Effect of Ti on wettability and interface of sn0.7cu lead-free solderGAO Hongyong1,2,WEI Guoqiang1,LUO Daojun2,HE Guanghui2(1.School of Mechanical and Automotive En

3、gineering, South China University of Technology, Guangzhou 510640, China ;2.The Research and Analysis Center, The 5th Electronics Institute of Industry and Information Technology, MIIT,Guangzhou 510610, China)Abstract: The effect on wettability and solders/Cu interfacial microstructures of Sn0.7Cu l

4、ead-free solder by adding Tiwas investigated. Results show that the wettability is improved, the spreading area increased by 5%, the morphologies ofinterfacial intermlic compound (IMC) change from scallop-shaped to serration at 3s of soldering duration. With theincrease of soldering time, the thickn

5、esses of Sn0.7Cu/Cu and Sn0.7Cu0.008Ti/Cu interfacial IMC layers increase accordingly, the pattern of IMC changes to lath-shaped, and IMC can be observed dissolving and fracturing into solder alloys. At the same condition, with the addition of Ti, the average thickness of interfacial IMC reduces by

6、10%25%; the averagesize of IMC grain increases by 20%75%, the longer soldering time, the smaller the average size increases.Key Worlds: Sn0.7Cu solder; Ti; wettability; intermlic compound由于 Pb 及其化合物的毒性,世界各國紛紛立法限制含鉛釬料的使用,無鉛化已經(jīng)成為電子的必然趨勢1-2。目前無鉛釬料的研制主要以 Sn 為基體,添加 Ag、Cu、Bi、Zn 等元素,通過合金化方法, Sn-Ag、Sn-Cu、Sn

7、-Bi 以及 Sn-Zn 等系列合金,其中 Sn-Ag、Sn-Cu 系釬料是目前公認(rèn)的最有可能替代 SnPb 釬料的合金3-4。而 Sn-0.7Cu 系的主要原材料 Sn、Cu 的儲量豐富,價(jià)格低廉,無毒副作用,并且容易生產(chǎn)、回收、雜質(zhì)敏感度低、綜合力學(xué)性能好等優(yōu)點(diǎn),因此 Sn-0.7Cu 系釬料在釬焊溫度對元器件影響較低的波峰焊中得到廣泛應(yīng)用,并且在倒裝焊時(shí)能更好代替共晶 Sn-Pb 釬料5。但是,Sn-Cu 系無鉛釬料在應(yīng)用中還有一些問題:(1)Sn-Cu 合金在波峰焊時(shí)容易發(fā)生氧化,產(chǎn)生錫渣,這會增加焊點(diǎn)形成缺陷的幾率,影響焊點(diǎn)的可靠性,并且造成浪費(fèi)。(2)Sn-Cu 釬料性不夠,熔融釬

8、料不能充分填充焊點(diǎn)間隙,從而產(chǎn)生焊點(diǎn)橋連,導(dǎo)致短路。研究表明添加第三元素 Bi、Ag、Ni 等可以優(yōu)化 Sn0.7Cu 無鉛釬料的綜合性能6-7。其中 Sn0.7CuNi 無鉛釬料在波峰焊中已經(jīng)得到一定程度的推廣,Ni 的加入可以提高 Sn0.7Cu 釬料的潤濕性,并且 Ni 可以溶入 Cu6Sn5 相,在界面處形成的生長8-10。而(Cu, Ni)6Sn5,抑制界面 IMCIMC的成分、形狀、厚度將會直接影響焊點(diǎn)的性能,若收稿日期:2011-08-08通訊作者:衛(wèi)國強(qiáng)基金項(xiàng)目:自然科學(xué)基金(NSFC-)重點(diǎn)資助項(xiàng)目(No:U0734006)作者簡介:衛(wèi)國強(qiáng)(1960),男,廣州人,副教授,主

9、要從事釬焊、電子封裝及激光高洪永(1987),男,山東臨沂人,研究方向?yàn)殡娮咏M裝可靠性,技術(shù)的研究,: gqweiscut ;: gaoyiyong2008163 com 。IMC 太薄或形狀不均勻,會使焊點(diǎn)結(jié)合強(qiáng)度不足, 使焊點(diǎn)在服役過程中容易失效;若界面 IMC 太厚或出現(xiàn) Cu3Sn、Ag3Sn 等脆硬的化合物,會使焊點(diǎn)的抗跌落、抗振動性能變差,同樣易造成焊點(diǎn)失效。蔡等11研究了 Ti 的加入對 Sn0.7Cu 釬料影響,得出Ti 的加入可以提高Sn0.7Cu 釬料的潤濕性和抗氧化性,但并沒有對界面 IMC 生長進(jìn)行詳細(xì)研究,鑒于此,筆者通過在 Sn-0.7Cu 合金中加入一定量的 Ti

10、, 研究了 Sn0.7CuTi 和 Sn0.7Cu 無鉛釬料在銅基板上的潤濕性能以及釬料/銅在不同釬焊時(shí)間后界面組 織的變化,為獲綜合性能良好,成本低廉的無鉛釬料提供依據(jù)。性,在某種程度上也反映了釬料可焊性的好壞,通過測量焊料的鋪展面積可以評估焊料對基板材料的可焊性。由圖 1 可知:兩種釬料都在釬焊時(shí)間為 10s 左右時(shí),鋪展面積達(dá)到穩(wěn)定,之后隨著釬焊時(shí)間的增加,鋪展面積無明顯變化;同等釬焊時(shí)間下,Sn0.7Cu0.008Ti 釬料鋪展面積比 Sn0.7Cu 釬料鋪展面積高 5%左右,這表明 Ti 的加入釬料的可焊性。了 Sn0.7Cu504948471 實(shí)驗(yàn)1.1 試樣實(shí)驗(yàn)中所用釬料由廣州瀚

11、源電子科技有限公司提供,釬料成分為 Sn0.7Cu 和 Sn0.7Cu0.008Ti。用分析天平準(zhǔn)確稱取釬料顆粒每份(0.2±0.001 )g。46454443420102030Solder Time/s405060基板選用為 20.0mm×20 .0mm×0.2mm ,純度為圖 1 不同焊接時(shí)間時(shí)釬料合金的鋪展面積Fig.1 Spreading areas of solder alloys at different solder times2.2 顯微組織分析圖 2 和圖 3 分別為 260不同釬焊時(shí)間對應(yīng)Sn0.7Cu/Cu 和 Sn0.7Cu0.008Ti/

12、Cu 界面 IMC 形貌。由圖 2 可以看出 Sn0.7Cu 釬料在 Cu 基板上形成的IMC 成扇貝狀,隨著釬焊時(shí)間的增加,界面 IMC 的厚度不斷增加,且 IMC 與釬料界面的 -Cu6Sn5 的不平整度增加,其形貌由扁平的貝狀向陡峭的貝狀轉(zhuǎn)變,更進(jìn)一步轉(zhuǎn)化成板條狀,同時(shí) 相晶粒變大,晶粒數(shù)減少。釬料加入 Ti 后,同等釬焊時(shí)間下Sn0.7Cu0.008Ti/Cu 界面 IMC 嵌入釬料內(nèi)部的峰形比較,如圖 3 所示。隨著釬焊時(shí)間增加,IMC 厚度不斷增厚,由 EDX分析可知, Sn0.7Cu0.008Ti/Cu 界面 IMC 只有 Cu、Sn 兩種原子,且原子數(shù)比例接近 6:5,可以推斷

13、該化合物為Cu6Sn5,表明 Ti 并沒有參與界面 IMC 生長,如圖 4 和表 1 所示。當(dāng)釬焊時(shí)間達(dá)到 60s 后,已經(jīng)明顯可以看到有 -Cu6Sn5 相溶解、斷裂而進(jìn)入釬料內(nèi),如圖 2(c)和圖 3(c)所示。圖 5 為 260下不同釬焊時(shí)間對Sn0.7Cu/Cu 和Sn0.7Cu0.008Ti/Cu 界面 IMC 厚度影響。由圖 5 可以看出:隨著釬焊時(shí)間的增加,IMC 厚度不斷增加; 同等條件下,Sn0.7Cu0.008Ti/Cu 界面 IMC 平均厚度要小于 Sn0.7Cu/Cu 界面 IMC 厚度,這是由于 Ti 元素的化學(xué)活性很高,因此 Sn 和 Ti 之間具有很大的親和力,降

14、低了 Sn 的活度,使 IMC 厚度減小。99.95%的紫銅板。先用#800 砂紙粗磨基板表面,去除表面氧化物,再用#2000 砂紙精細(xì)打磨,使其表面粗糙度一致,然后分別在質(zhì)量分?jǐn)?shù)為 5% HCI 溶液、去離子水、無水乙醇中浸泡并吹干。將釬料放在基板,滴加適量中等活性的松香型助焊劑(MRA)進(jìn)行釬焊,釬焊溫度 260,釬焊時(shí)間分為 3,10,30 和 60s,為盡可能減小誤差,每種參數(shù)下均重復(fù)三次。1.2 實(shí)驗(yàn)方法為了觀察釬焊界面的 IMC,將焊點(diǎn)用環(huán)氧樹脂進(jìn)行鑲嵌,然后用砂紙進(jìn)行打磨,并用 1m 的 Al2O3 拋光膏進(jìn)行拋光,將拋光好的試樣用體積比為 1:1 的 NH3·H 2O

15、(質(zhì)量分?jǐn)?shù)為 25%30%)與 H2O2(質(zhì)量分?jǐn)?shù)為 3%5%)混合液進(jìn)行腐蝕,在腐蝕好的試樣表面鍍一層金,然后利用掃描電鏡和能譜分析儀進(jìn)行分析。用 CH3OH+2.2%HCI+5%HNO3 的腐蝕液將表面的釬料腐蝕完畢之后觀察 IMC 立體形貌。實(shí)驗(yàn)中用 Image-Pro Plus 圖形分析軟件進(jìn)行潤濕鋪展面積和 IMC 面積的測量,IMC 面積除以總的長度, 得到 IMC 的平均厚度。2 結(jié)果與討論2.1 潤濕性能圖 1 為Sn0.7Cu 和Sn0.7Cu0.008Ti 兩種無鉛釬料在 260下不同釬焊時(shí)間時(shí)的鋪展面積。焊料的鋪展性能反應(yīng)焊料在一定條件下對某種基板的潤濕Spreading

16、 area/mm2Sn0.7CuSn0.7CuTi另外,Ti 元素的加入一定程度上改變了界面處化學(xué)位梯度,降低了界面層生成 IMC 的長大驅(qū)動力,起到抑制 IMC 生長的作用。根據(jù) Dabykov12的分析, 當(dāng)一個(gè)固態(tài)金屬在液態(tài)金屬中溶解、并在這兩個(gè)金屬間形成 IMC 時(shí),其界面 IMC 的生長動力學(xué)受三個(gè)因素,在本合金反應(yīng)體系中為:其一是 Sn 原子通過晶界擴(kuò)散穿過 相和Cu 基體反應(yīng)生成IMC 使 相增厚;其二為 Cu 原子通過晶界擴(kuò)散穿過 相和焊點(diǎn)中的 Sn 反應(yīng)生成 IMC 使 相增厚;最后就是由于當(dāng)層狀的 相形成以后, 相和液態(tài)焊料接觸, 相要溶解進(jìn)入焊點(diǎn)內(nèi),這三個(gè)因素決定了界面I

17、MC 的生長動力學(xué)。因(a) 3s(b) 30s圖 2 不同釬焊時(shí)間時(shí)Sn0.7Cu/Cu 界面IMC 形貌Fig.2 IMC morphologies of Sn0.7Cu/Cu interface at different solder times(c) 60s(a) 3s(b) 30s圖 3 不同釬焊時(shí)間時(shí)Sn0.7Cu0.008Ti/Cu 界面IMC 形貌(c) 60sFig.3 IMC morphologies of Sn0.7Cu0.008Ti/Cu interfaces at different solder times圖 4 Sn0.7Cu0.008Ti/Cu 界面 IMC 能

18、譜分析Fig.4 EDX analysis of IMC ofSn0.7Cu0.008Ti/Cu interface此,釬焊時(shí)間較短時(shí),IMC 生長速率較大,隨著釬焊時(shí)間的延長,Sn、Cu 不斷消耗以及 IMC 的厚度增加阻礙了原子的擴(kuò)散,使 IMC 的生長速率變慢。表 1能譜分析數(shù)據(jù)Tab.1 Data of EDX analysisIMC 內(nèi)部的晶粒不斷增大;同等釬焊條件下,Sn0.7Cu0.008Ti/Cu界面 IMC 晶粒要大于Sn0.7Cu/Cu 的,圖 8 所示為不同釬焊時(shí)間對應(yīng)Sn0.7Cu/Cu 和Sn0.7Cu0.008Ti/Cu 界面 IMC 晶粒平2.4均,Sn0.7Cu

19、/Cu 界面IMC 在釬焊時(shí)間 3,30,2.260s 時(shí),晶粒平均分別為 0.81,0.97,1.60m,2.0而 Sn0.7Cu0.008Ti/Cu 界面 IMC 在釬焊時(shí)間 3,30,1.860s 時(shí),晶粒平均分別為 1.42,1.54,1.88m。1.6根據(jù)晶粒生長的曲率作用原理可知,曲率半徑小的晶體,其固液界面前沿富集的液相溶質(zhì)濃度要比曲率半徑大的晶體小。從而,在凝固過程中,在先形成的不同曲率半徑的 IMC 晶粒之間存在著溶質(zhì) Cu的濃度梯度,Cu 原子會從曲率半徑小的地方向曲率1.41.21.00.80102030Solder time/s405060圖 5 不同釬焊時(shí)間時(shí)IMC

20、厚度變化曲線Fig 5 Thickness changing curves of IMC at different solder times圖 6 和圖 7 分別為 260不同釬焊時(shí)間對應(yīng)Sn0.7Cu/Cu 和Sn0.7Cu0.008Ti/Cu 界面 IMC 三維形貌。從圖 6 和圖 7 可知:隨著釬焊時(shí)間增加,界面半徑大的地方擴(kuò)散,這就使得大的晶粒更快的生長,小的晶粒生長的相對變慢。由文獻(xiàn)11可知 Ti 的加入提高了 Sn0.7Cu 的抗氧化性,使得焊接過程中焊點(diǎn)表面 Sn 的氧化減少,相對豐富的 SnThickness of IMC layer/umSn0.7CuSn0.7CuTi5m5

21、m5m(c)(b)(a)5m5m5m(c)(b)(a)元素為 IMC 晶粒初期的快速長大提供了條件,所以在同等條件凝固過程中 Sn0.7Cu0.008Ti 釬料界面時(shí)間內(nèi) Sn、Cu 原子的擴(kuò)散量減小,因此隨著釬焊時(shí)間的延長,Sn0.7Cu0.008Ti/Cu 界面 IMC 晶粒生長速率小于 Sn0.7Cu/Cu 界面 IMC 晶粒生長速率。IMC 晶粒要大于 Sn0.7Cu 釬料,但是隨著 IMC晶粒的變大,晶界將會減少,致使擴(kuò)散通道變少,(a) 3s(b) 30s圖 6 不同釬焊時(shí)間時(shí)Sn0.7Cu/Cu 界面 IMC 三維形貌(c) 60sFig.6 Three-dimensional

22、morphologies of Sn0.7Cu/Cu interfacial IMC at different solder times(a) 3s(b) 30s圖 7 不同釬焊時(shí)間時(shí)Sn0.7Cu0.008Ti/Cu 界面IMC 三維形貌(c) 60sFig.7 Three-dimensional morphologies of Sn0.7Cu0.008Ti/Cu interfacial IMC at different solder times2.0IMC 晶粒大小分布大體上都符合正態(tài)分布的規(guī)律。其中,釬料/Cu 界面 IMC 在釬焊時(shí)間為 3,30,60s1.81.6時(shí),晶粒集中的范圍當(dāng)

23、釬料為 Sn0.7Cu 時(shí)分別1.4為 0.5 0.9m、0.7 1.1m、1.3 1.9m,見圖 9(a、b、c);Sn0.7Cu0.008Ti 釬料分別為 1.1 1.6m、1.31.7m、1.5 2.1m,圖 9(d、e、f)所示。從以上分析可知:和 Sn0.7Cu 釬料相比,SnCuTi 和SnCuNi 釬料在和 Cu 基體界面反應(yīng)時(shí)都可使界面IMC 的生長速率降低,但其作用機(jī)理是不一樣的。SnCuTi 釬料是由于界面 IMC 晶粒較大,導(dǎo)致晶界面積減少,晶界擴(kuò)散的原子數(shù)減少,從而降低界面IMC 的生長速率。而 SnCuNi 釬料則是由于界面形1.21.00.80.60102030So

24、lder time/s405060圖 8 不同釬焊時(shí)間IMC 晶粒平均Fig.8Average sizes of IMC grain at different solder times圖 9 為 260時(shí)不同釬焊時(shí)間對應(yīng) Sn0.7Cu/Cu和 Sn0.7Cu0.008Ti/Cu 界面 IMC 晶粒大小分布。從圖 9 可以看出:兩種釬料在不同釬焊溫度時(shí),界面成的 IMC 為(Cu, Ni)6Sn5,從而IMC 的生長。40(c)(a)(b)303540253030252020152015101010550000.40.50.6 0.7 0.80.9 1.0 1.1 1.2 1.3 1.41.0

25、1.21.41.61.82.02.20.20.40.60.81.01.21.4IMC晶粒大小/umIMC晶粒大小/umIMC晶粒大小/umThe average size of IMC grain/umIMC晶粒所占比例/%IMC晶粒所占比例/%IMC晶粒所占比例/%Sn0.7Cu 30sSn0.7Cu 60sSn0.7Cu, 3sSn0.7CuSn0.7CuTi10m10m10m(c)(b)(a)10m10m10m(c)(b)(a)25(e)50(d)(f)25Sn0.7CuTi, 60s20402015301510201051050001.01.21.41.61.82.02.22.41.2

26、1.41.61.82.02.22.42.60.4 0.6 0.8 1.0 1.2 1.4 1.6 1.8 2.0 2.2IMC晶粒大小/umIMC晶粒大小/umIMC晶粒大小/um圖 9 不同釬焊時(shí)間時(shí)IMC 晶粒分布Fig.9 The sizes distribution of IMC grains at different solder timesphosphorus on microstructure and fluidity of Sn-0.7Cu-0.05Ni lead-free solder J.J Mater Trans, 2008, 49(3):443-448.LIN C H,

27、 CHEN S W, WANG C H. Phase Equilibria and Solidification Properties of Sn-Cu-Ni AlloysJ.J Electron Mater, 2002, 31(9): 907-915.蔡烈松,陳明漢,陳湘平,等.一種改進(jìn)型 Sn-0.7wt%Cu無鉛焊料:中國,200410051200.6P. 2005-03-02.DYBKOV V R. Reaction diffusion and solid state chemical kineticsM. Kyiv, Ukraine:IPMS,2002.(編輯:陳渝生)3 結(jié)論(1)

28、微量 Ti 的加入了 Sn0.7Cu 無鉛釬料10的潤濕性,可使釬料的鋪展面積提高 5%左右。(2) 添加微量 Ti 后,在釬焊時(shí)間較短時(shí), Sn0.7Cu/Cu 界面 IMC 形貌由原來的扇貝狀變?yōu)殇忼X狀。隨著釬焊時(shí)間的延長,兩種釬料界面 IMC 都逐漸生長為板條狀,同時(shí)可觀察到 IMC 在釬料內(nèi)的溶解、斷裂。(3) 添加 Ti 后,同等焊接條件下,釬料與 Cu基板界面的 IMC 平均厚度減小,但是 IMC 的晶粒變大,并且呈現(xiàn)正態(tài)分布狀。1112參考文獻(xiàn)1KATSUAKI S. Advance in lead-free electronics soldering J.J Curr Opin Solid State Mater Sci, 2001, 5 (1): 55 -64. LAURILA T, VUORINEN V, KIVILAHTI J K. Interfacialreactions between lead-free solders and common base materialsJ. J Mater Sci Eng, 2005, 49(1/2): 1-60.HU Z T, XU D R. Curr

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