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1、.1IC常用術(shù)語(yǔ)園片：硅片芯片(Chip, Die)：6、8 ：硅（園）片直徑：1 25.4mm6150mm; 8200mm; 12300mm; 亞微米1m的設(shè)計(jì)規(guī)范深亞微米 0反型層 溝道源（Source）S漏（Drain）D柵（Gate）G柵氧化層厚度：50埃1000埃（5nm100nm）VT閾值電壓電壓控制N N溝溝MOSMOS（NMOSNMOS） P型襯底，受主雜質(zhì)； 柵上加正電壓，表面吸引電子，反型，電子通道； 漏加正電壓，電子從源區(qū)經(jīng)N溝道到達(dá)漏區(qū)，器件開(kāi)通。.6N襯底p+p+漏源柵柵氧化層場(chǎng)氧化層溝道P P溝溝MOSMOS（PMOSPMOS）GDSVTVGSID+-VDS 0 N

2、型襯底，施主雜質(zhì)，電子導(dǎo)電； 柵上加負(fù)電壓，表面吸引空穴，反型，空穴通道； 漏加負(fù)電壓，空穴從源區(qū)經(jīng)P溝道到達(dá)漏區(qū)，器件開(kāi)通。.7CMOS CMOS：Complementary Symmetry Metal Oxide Semiconductor 互補(bǔ)對(duì)稱(chēng)金屬氧化物半導(dǎo)體特點(diǎn)：低功耗VSSVDDVoViCMOS倒相器PMOSNMOSI/OI/OVDDVSSCCCMOS傳輸門(mén).8N-SiP+P+n+n+P-阱DDVoVGVSSSSVDDCMOS倒相器截面圖CMOS倒相器版圖.9pwellactivepolyN+ implantP+ implantomicontactmetalA NMOS Exa

3、mple.10pwellPwellActivePolyN+ implantP+ implantOmicontactMetal.11Ntype SiSiO2光刻膠光刻膠光光MASK Pwell.12Ntype SiSiO2光刻膠光刻膠光刻膠光刻膠MASK Pwell.13Ntype SiSiO2光刻膠光刻膠光刻膠光刻膠SiO2.14Ntype SiSiO2SiO2Pwell.15pwellactivePwellActivePolyN+ implantP+ implantOmicontactMetal.16Ntype SiSiO2PwellSiO2光刻膠光刻膠MASK activeMASK Act

4、iveSi3N4.17Ntype SiSiO2PwellSiO2光刻膠光刻膠光刻膠光刻膠MASK activeMASK ActiveSi3N4.18Ntype SiSiO2PwellSiO2光刻膠光刻膠光刻膠光刻膠Si3N4.19Ntype SiSiO2PwellSiO2場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧PwellSi3N4.20Ntype SiSiO2Pwell場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧Pwell.21Ntype SiSiO2PwellSiO2場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧Pwellpoly.22activepwellpolyPwellActivePolyN+ implantP+ implantOmicont

5、actMetal.23Ntype SiSiO2PwellSiO2MASK poly場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧Pwellpoly光刻膠光刻膠.24Ntype SiSiO2PwellSiO2MASK poly場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧Pwell光刻膠光刻膠poly.25Ntype SiSiO2PwellSiO2場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧Pwellpoly.26Ntype SiSiO2PwellSiO2場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧Pwellpoly.27activepwellpolyN+ implantPwellActivePolyN+ implantP+ implantOmicontactMetal.28Ntype SiSiO2PwellSiO2MASK N+場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧Pwellpoly光刻膠光刻膠.29Ntype SiSiO2PwellSiO2場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧場(chǎng)氧Pwell光刻膠光刻膠polyN+ implantS/D.30activepwellpolyP+ implantPwellActivePolyN+ implantP

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