ECD-真空鍍膜專用測溫儀

1、ECD-真空鍍膜專用測溫儀目錄1、真空鍍膜介紹11.1、真空的定義11.2、什么是真空鍍膜技術11.3、真空鍍膜技術的分類11.4、鍍膜技術介紹11.4.1真空蒸鍍11.4.2濺射鍍膜21.4.3離子鍍膜21.5鍍膜材料22真空鍍膜設備22.1常見真空鍍膜機（外形）22.2常用真空鍍膜機32.3各國鍍膜機現(xiàn)狀32.4真空鍍膜機設備參數(shù)32.5 真空鍍工藝參數(shù)33、鍍膜工藝流程44、真空鍍膜溫度監(jiān)測的必要性55、某客戶AKT鍍膜機介紹55.1 AKT鍍膜機55.2 針對智能手機與平板電腦觸屏的鍍膜設備AKT Aristo Twin55.3 某客戶AKT鍍膜機工藝參數(shù)65.4某客戶測溫方案65.5

2、某客戶鍍膜機溫度測試曲線75.5.1 打靶75.5.2未進行打靶的溫度曲線85.5.3 進行打靶的溫度曲線91、真空鍍膜介紹1.1、真空的定義真空指低于該地區(qū)大氣壓的稀薄氣體狀態(tài)。處于真空狀態(tài)下的氣體稀薄程度通常用“真空度高”和“真空度低”來表示。真空度高表示真空度“好”的意思。真空度低表示真空度“差”的意思。低真空（一般在76010托）中真空（一般在1010 3托）高真空（一般在10 - 310 -8托）超高真空（一般在10-810 -12 ）注：1標準大氣壓=760mmHg=760Torr1標準大氣壓=101325Pa1Torr=133Pa1.2、什么是真空鍍膜技術在真空條件下利用某種方法

3、，在固體表面上鍍一層與基體材料不同的薄層材料，也可以利用固體本身生成一層與基體不同的薄層材料。這就是真空鍍膜技術。在固體表面上鍍上一層薄膜，就能使該基體材料具有許多新的物理和化學性能。因此，真空鍍膜技術又稱表面改性技術。1.3、真空鍍膜技術的分類主要分為濕式鍍膜法和干式鍍膜法。濕式鍍膜法可分電鍍法、化學鍍法；干式鍍膜法常稱真空鍍膜法、氣相沉積物理氣相沉積(Physical Vapor DepositionPVD)和化學氣相沉積（Chemical Vapor DepositionCVD)。1.4、鍍膜技術介紹這里主要介紹一下物理氣相沉積(Physical Vapor DepositionPVD)

4、鍍膜技術，主要有以下三種鍍膜方法：·真空蒸鍍·濺射鍍膜·電弧離子鍍1.4.1真空蒸鍍同液體一樣，固體在任何溫度下都會或多或少的氣化（升華），形成該物質的蒸汽。在高真空中，將鍍料加熱到高溫，相應溫度下的飽和蒸汽向上散發(fā)，蒸發(fā)原子在各個方向的通量并不相等?；O在蒸汽源的上方阻擋蒸汽流，蒸汽則在其上形成凝固膜。為了彌補凝固的蒸汽，蒸發(fā)源要以一定的比例供給蒸汽。1.4.2濺射鍍膜濺射鍍膜是指在真空室中，利用荷能粒子轟擊鍍料表面，使被轟擊出的粒子在基片上沉積的技術。濺射鍍膜有三種：一種是在真空室中，利用離子束轟擊靶表面，使濺射出的粒子在基片表面成膜，這稱為離子束濺射。離子

5、束要由特制的離子源產(chǎn)生，離子源結構較為復雜，價格較貴，只是在用于分析技術和制取特殊的薄膜時才采用離子束濺射。一種是在真空室中，利用低壓氣體放電現(xiàn)象，使處于等離子狀態(tài)下的離子轟擊靶表面，并使濺射出的粒子堆積在基片上。最后一種是磁控濺射法，又稱高速低溫濺射法。目前磁控濺射法已在電學膜、光學膜和塑料金屬化等領域得到廣泛應用。磁控濺射法是在1.3×10-1pa(10-3Torr)左右的真空中充入惰性氣體，并在塑料基材(陽極)和金屬靶材(陰極)之間加上高壓直流電，由于輝光放電產(chǎn)生的電子激發(fā)惰性氣體，產(chǎn)生等離子體。等離子體將金屬靶材的原子轟出，沉積在塑料基材上。1.4.3離子鍍膜就是在鍍膜的同時

6、，采用帶能離子轟擊基片表面和膜層的鍍膜技術。離子轟擊的目的在于改善膜層的性能。離子鍍是鍍膜與離子轟擊改性同時進行的鍍膜過程。1.5鍍膜材料真空鍍膜材料即是通過真空鍍膜技術鍍到基材上的成膜材料，以金屬和金屬氧化物為主。鍍膜材料的性質直接關系到真空鍍膜的質量和性能，鍍膜材料不同，厚度不同，所得鍍膜層性能和色澤也不一樣。如鍍鋁層的連續(xù)性好于銀、銅鍍膜層，鍍層厚度達到0.9nm即可導電，達到30nm時，其性能就和固態(tài)鋁材相同。銀鍍層小于5nm時不能導電，銅鍍層對基材附著力較差，且容易被氧化。真空鍍膜材料品種繁多，單金屬型鍍膜材料有：鋁、錫、銦、鈷、鎳、銅、鋅、銀、金、鈦、鉻、鉬、鎢等。合金型的鍍膜材料

7、有鎳-鉻，鎳-鐵，鐵-鈷，金-銀-金等。金屬化合物型的鍍膜材料有：SiO2 、 Ti3O5 、 SnO2 、MgF2 、 ZnS等。在眾多鍍膜材料中，以鋁材的應用最多，這是因為鋁在真空條件下，蒸發(fā)濕度較低，易操作。鋁鍍膜層對塑料的附著力強，富有金屬光澤；鋁鍍膜層還能夠遮蔽紫外線，對氣體阻隔性也很好。另外，高純度的鋁價格比較便宜，這是其他鍍膜材料所不及的。鋁的反射率高，厚度40nm鋁鍍膜層的反射率達90%。2真空鍍膜設備2.1常見真空鍍膜機（外形）·電鍍法、化學鍍法一般是以槽體流水線的形式進行的，設備較為大型，昂貴 ·箱式真空鍍膜機（立式）：單門、雙門·卷繞式真空鍍

8、膜機（臥式）·間歇式鍍膜機（立式）：兩箱、三箱·大型鍍膜流水線：根據(jù)客戶要求進行設計2.2常用真空鍍膜機·電阻蒸發(fā)鍍膜機（立式雙門、立式鐘罩、臥式滾筒、臥式卷繞）·電子束蒸發(fā)鍍膜機（箱式單門，精密度高）·離子束輔助蒸發(fā)鍍膜機（箱式單門，電子束，精密度高，致密性好）·磁控濺射鍍膜機（立式單雙門、臥式）2.3各國鍍膜機現(xiàn)狀·德國、美國：歷史久，制造技術最強，穩(wěn)定性最好，價格最高 （LEYBOLD、VECOO、AKT）·日本：制造技術強，穩(wěn)定性好，價格偏高（新科隆、SHOWA、光馳）·韓國、臺灣：制造技術較強，

9、穩(wěn)定性一般，價格略高（因泰卡、韓一、韓國真空、 龍翩）·中國：制造技術逐漸加強，制造廠家較多，穩(wěn)定性不好，價格便宜，鍍膜的領域正在擴大，鍍膜廠家快速增加，主要應用于飾品、包裝、工具、光學、汽車（南光、北儀、蘭州真空、上海曙光、沈陽百樂、廣東三束、中環(huán)）2.4真空鍍膜機設備參數(shù)以下以真空蒸鍍鍍膜機為例，介紹一下其相關參數(shù)：·真空室尺寸·最高加熱溫度·高、低真空泵抽速·膜厚控制精度·蒸發(fā)器的參數(shù)·離子源的參數(shù)·連續(xù)鍍層和時間·充氣系統(tǒng)的參數(shù)·深冷的參數(shù)·操作系統(tǒng)、軟件2.5 真空鍍工藝參數(shù)

10、·真空度·溫度·蒸發(fā)速率·膜厚（光控、晶控）·充氣量·工件架轉速·蒸發(fā)能量·冷卻水溫、水壓·料的純度、填料高度·離子源相關參數(shù)（時間、能量）·腔內(nèi)潔凈度·均勻性·重復性（穩(wěn)定性）·膜系層數(shù)、穩(wěn)定性3、鍍膜工藝流程真空鍍膜的工藝流程大致可用以下的方框圖表示：·表面處理：通常,鍍膜之前,應對基材（鍍件）進行除油、除塵等預處理,以保證鍍件的整潔、干燥,避免底涂層出現(xiàn)麻點、附著力差等缺點。對于特殊材料,如PE（聚乙烯）料等,還應對其進行改性,以達到鍍膜的

11、預期效果。·底涂：底涂施工時,可以采用噴涂,也可采用浸涂,具體應視鍍件大小、形狀、結構及用戶設備等具體情況及客戶的質量要求而定。采用噴涂方法,可采用SZ-97T鍍膜油；采用浸涂方法,可采用SZ-97、SZ-97+1等油,具體應視鍍件材料而定。·底涂烘干：SZ-97鍍膜油系列均為自干型漆，烘干的目的是為了提高生產(chǎn)效率。通常烘干的溫度為60-70oC,時間約2小時。烘干完成的要求是漆膜完全干燥。·鍍膜：鍍膜時,應保證鍍膜機的真空度達到要求后,再加熱鎢絲,并嚴格控制加熱時間。同時,應掌握好鍍膜用金屬（如鋁線)的量,太少可能導致金屬膜遮蓋不住底材,太多則除了浪費外,還會影

12、響鎢絲壽命和鍍膜質量。·面涂：通常面涂的目的有以下兩個方面：A、提高鍍件的耐水性、耐腐蝕性、耐磨耗性；B、為水染著色提供可能。SZ-97油系列產(chǎn)品均可用于面涂，若鍍件不需著色,視客戶要求,可選用911、911-1啞光油、889透明油、910啞光油等面油涂裝。·面涂烘干：通常面涂層較底涂層薄,故烘干溫度較低,約50-60oC,時間約12小時,用戶可根據(jù)實際情況靈活把握，最終應保證面涂層徹底干燥。如果鍍件不需著色,則工序進行到此已經(jīng)結束。·水染著色：如果鍍件需要進行水染著色,則可將面漆已經(jīng)烘干的鍍件放進染缸里,染上所需顏色,之后沖洗晾干即可。染色時要注意控制水的溫度,

13、通常在6080oC左右,同時應控制好水染的時間。水染著色的缺點是容易褪色,但成本較低。·油染著色：若鍍件需進行油染著色,則鍍膜后視客戶要求,直接用SZ-啞光色油、SZ-透明色油浸涂或噴涂,干燥后即可。油染的色澤經(jīng)久不褪,成本較水染略高。4、真空鍍膜溫度監(jiān)測的必要性為了達到優(yōu)良的真空鍍膜效果，使其不僅擁有良好的性能和附著力，還能達到良好的視覺效果。有必要監(jiān)控其鍍膜溫度，保證鍍膜機的性能，提高生產(chǎn)效率和直通率。 測試系統(tǒng)監(jiān)測鍍膜溫度曲線，在出現(xiàn)偏差時及時調(diào)整，確保鍍膜工藝所需要的溫度和溫差，可避免因：基材放氣和蒸發(fā)速率偏差造成真空鍍膜出現(xiàn)藍色、黃色或黑色等雜色蒸發(fā)速率偏差造成鍍鋁膜光亮度

14、不好鋁液滴飛濺、蒸發(fā)鍍膜時功率過大等造成的局部灼傷面漆溫度太高等造成彩虹，底漆菱形扭曲因過度受熱造成的膜厚、固化后變黃等5、某客戶AKT鍍膜機介紹5.1 AKT鍍膜機美國應用材料公司（Applied Materials,Inc. Display Group）則是平板顯示器（FPD）制造設備的龍頭供應商。迄今為止、在全世界范圍已有超過1100臺量產(chǎn)設備交付使用的業(yè)績。其中化學氣相沉積（CVD）設備與用于彩色濾光片的濺射設備幾乎在所有主要薄膜晶體管液晶顯示器（TFT-LCD）的工廠中予以采用。如今、AKT顯示事業(yè)部將積極配合中國FPD產(chǎn)業(yè)發(fā)展、進一步強化公司在本地的服務體系。AKT顯示事業(yè)部始建于

15、1991年、原是美國應用材料公司麾下負責開發(fā)與生產(chǎn)TFT-LCD制造設備的子公司。此后于1993年、同日本大型工程機械生產(chǎn)商小松制作所合資成立了應用小松科技公司（Applied Komatsu Technology、簡稱AKT）、現(xiàn)在成為美國應用材料公司專供FPD相關設備的事業(yè)部門。公司在成立伊始、以領先的PECVD設備在國際市場奠定了龍頭供應商的地位?，F(xiàn)在、除了PECVD設備之外、該公司還提供陣列檢測設備、TFT陣列物理氣相濺射設備、彩色濾光片以及觸摸屏鍍膜設備。5.2 針對智能手機與平板電腦觸屏的鍍膜設備AKT Aristo Twin針對智能手機與平板電腦中必不可缺的觸摸屏的制造,2011

16、年4月、顯示事業(yè)部推出了“AKT Aristo Twin”鍍膜設備。該設備在單一的系統(tǒng)平臺上、配置了兩邊各自獨立的鍍膜工藝通道、可以同時沉積兩種不同的薄膜。這種別具一格的特點既節(jié)約了無塵室內(nèi)設備的安裝面積、又避免了購買多臺設備的需求?！癆KT Aristo Twin”機臺是以成熟的“AKT New Aristo PVD”平臺為基礎、Aristo機臺在全世界已有大于175臺裝機量、 被稱為LCD 彩色濾光片以及觸摸屏行業(yè)的標準鍍膜設備。 最新的“AKT Aristo Twin”鍍膜設備支持多種玻璃基板尺寸、最大可以對應5.7平方米（2200mm x 2500mm）的基板。（5.3 某客戶AKT鍍膜機工藝參數(shù)某客戶所用的AKT鍍膜機類似以下這款，即第8.5代TFT 陣列濺射設備AKT-PiVot 55KV PVD某客戶采用的是槽體流水線的形式的鍍膜機，共分為5個溫區(qū)，溫度設置分別為135、230、3