多弧離子鍍調(diào)研報(bào)告

1、多弧離子鍍技術(shù)的現(xiàn)狀調(diào)研引言物理氣相沉積技術(shù)早在20世紀(jì)初已有些應(yīng)用，但在最近30年迅速發(fā)展，成為一門極具廣闊應(yīng)用前景的新技術(shù)，并向著環(huán)保型、清潔型趨勢發(fā) 展。20世紀(jì)90年代初至今，在鐘表行業(yè)，尤其是高檔手表金屬外觀件的表 面處理方面得到越來越為廣泛的應(yīng)用。離子鍍技術(shù)是在真空蒸鍍和真空濺射的基礎(chǔ)上于 20世紀(jì)60年代初發(fā)展起來 的新型薄膜制備技術(shù)，于 1963年由D. M Mattox提出，1971年Chamber等 發(fā)表了電子束離子鍍技術(shù)，1972年又出現(xiàn)了反應(yīng)蒸發(fā)鍍（ARE技術(shù)，并制作了 TIN及TIC超硬膜。同年，MOLEYffi SMITH將空心陰極技術(shù)應(yīng)用于鍍膜。 多弧離子鍍屬于離

2、子鍍的一種改進(jìn)方法， 是離子鍍技術(shù)中的皎皎者。最早由蘇聯(lián) 人開發(fā)，80年代初，美國的Multi-Arc公司首先把這種技術(shù)實(shí)用化，至此離子 鍍達(dá)到工業(yè)應(yīng)用水平。離子鍍種類很多，蒸發(fā)遠(yuǎn)加熱方式有電阻加熱、電子束加熱、等離子 電子束加熱、高頻感應(yīng)加熱等然而多弧離子鍍與一般的離子鍍有著很大的區(qū)別。多弧離子鍍采用的 是弧光放電，而并不是傳統(tǒng)離子鍍的輝光放電進(jìn)行沉積。簡單的說，多弧 離子鍍的原理就是把陰極靶作為蒸發(fā)源，通過靶與陽極殼體之間的弧光放 電，使靶材蒸發(fā)，從而在空間中形成等離子體，對基體進(jìn)行沉積。由于多弧 離子鍍技術(shù)具有鍍膜速度高，膜層的致密度大，膜的附著力好等特點(diǎn)，使多弧離 子鍍鍍層在工具、模具

3、的超硬鍍膜、裝飾鍍膜等領(lǐng)域的應(yīng)用越來越廣泛， 并將占 據(jù)越來越重要的地位。離子鍍技術(shù)是當(dāng)前使用面最為廣泛、最為先進(jìn)的表面處理技術(shù)之一， 而多弧離子鍍更是其中的佼佼者。據(jù)不完全統(tǒng)計(jì)，國內(nèi)外有近一半以上表 面處理使用多弧離子鍍技術(shù)，尤其是那些需要耐磨、耐蝕及特殊要求的場合。隨著社會(huì)的進(jìn)步，科學(xué)的發(fā)展，離子鍍技術(shù)必將加完善。目錄1物理氣相沉積技術(shù)物理氣相沉積技術(shù)種類物理氣相沉積（Physical Vapor Deposition , PVD）技術(shù)是在真空條件下，采 用物理方法，將材料源一一固體或液體表面氣化成氣態(tài)原子、分子或部分電離成 離子，并通過低壓氣體（或）過程，在基體表面沉積具有某種特殊功能的

4、薄膜的 技術(shù)。物理氣相沉積的主要方法有（1）真空蒸鍍；（2）濺射鍍膜；（3）離子 鍍膜。發(fā)展到目前，物理氣相沉積技術(shù)不僅可沉積金屬膜、 合金膜、還可以沉積化 合物、陶瓷、聚合物膜等。真空蒸鍍真空蒸鍍基本原理是在真空條件下， 使金屬、金屬合金或化合物蒸發(fā)，然后 沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，高頻感應(yīng)加熱，電子束、激光束、 離子束高能轟擊鍍料，使其蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，歷史上真空蒸鍍 是PVD法中使用最早的技術(shù)。濺射鍍膜濺射鍍膜基本原理是充氮?dú)獾恼婵諚l件下，使氮?dú)膺M(jìn)行輝光放電，這時(shí)氮原子電離成氮離子，氮離子在電場力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材， 靶材會(huì)被濺射出來而沉

5、積到工件表面。如果采用直流輝光放電，稱直流（Qc）濺射， 射頻（RF）輝光放電引起的稱射頻濺射。磁控（M）輝光放電引起的稱磁控濺射。 離子鍍膜離子鍍基本原理是在真空條件下，采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子 部分電離成離子，同時(shí)產(chǎn)生許多高能量的中性原子， 在被鍍基體上加負(fù)偏壓。這 樣在深度負(fù)偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。物理氣相沉積技術(shù)主要廠商PLATIT涂層設(shè)備公司PLATIT公司總部位于瑞士，屬于 BCI集團(tuán)旗下企業(yè)。該公司是目前唯一只 做設(shè)備不做涂層服務(wù)的公司。目前在國內(nèi)的市場主要由代理商科匯負(fù)責(zé)， 科匯最 早在香港開了涂層中心，于2006年在深圳成立分廠，但現(xiàn)在基本都轉(zhuǎn)移

6、到深圳。 PLATIT的最大優(yōu)點(diǎn)是開發(fā)納米結(jié)構(gòu)涂層，而且宣傳的非常好，PLATIT的設(shè)備是 目前在國內(nèi)銷售的最多的外國涂層設(shè)備。賽利涂層技術(shù)有限公司？ ？賽利涂層技術(shù)有限公司原是大威賽利涂層技術(shù)有限公司，由大威集團(tuán)與德國CemeCon AG共同投資成立。公司成立于200孫09月。2005年04月，天威賽利成 功通過德國TuV （萊茵公司）的ISO9001:200吸量認(rèn)證，2008年06月順利完成 了由德國CemeCon獨(dú)資的股權(quán)變更，公司名稱變更為：保定賽利涂層技術(shù)有限 公司。公司主營業(yè)務(wù)為：PVD （物理氣相沉積）與金剛石涂層產(chǎn)品、涂層設(shè)備、 配件與耗材的制造、銷售與售后服務(wù)。歐瑞康巴爾查斯

7、有限公司？ ？歐瑞康巴爾查斯涂層（蘇州）有限公司是瑞士獨(dú)資公司，注冊成立于 2003年， 目前全國有7個(gè)涂層中心，分別位于天津、江蘇蘇州、浙江溫嶺、陜西漢中和西 安、四川成都、廣州東莞。目前我們正在建設(shè)兩個(gè)新的涂層中心，分別位于在重 慶市和山東濟(jì)南市。歐瑞康已涉足六大領(lǐng)域：涂層、真空、光學(xué)和航空元件、紡 織品、推進(jìn)系統(tǒng)、半導(dǎo)體等。歐瑞康巴爾查斯產(chǎn)品在國市場的占有份額約為 15% 20%,這一份額已經(jīng)是國內(nèi)最大的PVD涂層公司，比其它涂層公司要高出很多， 目前巴爾查斯在全球市場所占份額約為三分之一。德國PVT涂層有限公司德國PVT涂層有限公司，是由德國 PVT公司在中國投資設(shè)立的涂層加工中 心，

8、公司總部在德國的本斯海姆，目前該公司自己在國內(nèi)有四個(gè)涂層中心：黑龍江哈爾濱、江蘇常州、浙江溫嶺、廣東東莞。德國 PVT公司是當(dāng)今世界上最先 進(jìn)的超硬涂層技術(shù)研發(fā)和設(shè)備制造公司之一，是專門開發(fā)設(shè)計(jì)具有世界領(lǐng)先水平 的離子和等離子真空鍍膜設(shè)備的高科技公司，主要集涂層設(shè)備制造，涂層新工藝 研發(fā)及涂層加工于一體。特別是其動(dòng)態(tài)磁場設(shè)計(jì)，電弧運(yùn)動(dòng)速度快，而且遍布整 個(gè)靶面，能夠提高膜層均勻性、提高靶材利用率、減小液滴等特點(diǎn)。瑞士 Sulzer瑞士 Sulzer公司成立于1984#, 1987年在德國Bevgisch Gladbach建立獨(dú)立 的涂層中心，主要以MAXIT耐磨涂層為主。1992年開始生產(chǎn)制造

9、設(shè)備，并擴(kuò)大 了涂層服務(wù)，1997年兼并了 Klocknev Ionon GmbH公司，業(yè)務(wù)范圍擴(kuò)展到等離子滲氮領(lǐng)域，即IONIT R耐磨保護(hù)，1999r展到裝飾涂層領(lǐng)域。2001年該公司被瑞士 Sulzer公司收購，2002年擴(kuò)大了 Bergisch Gladbach 的 IONIT 和 IONIT OX的生產(chǎn)規(guī)模，成為最大的工業(yè)等離子表面處理制造商。200孫兼并了美國前DB薄膜公司，開始從事 MAXIT、IONIT、IONITOX生產(chǎn)服務(wù)。亞特梯爾鍍層科技有限公司亞特梯爾鍍層科技有限公司是由香港 Art Technology Development LTD與英 國Teer Coating

10、LTD共同投資組建的外資企業(yè)。Teer coating主要強(qiáng)項(xiàng)是非平衡磁 控濺射，公司位于東莞市鳳崗鎮(zhèn)塘瀝村福民工業(yè)區(qū)，主要從事機(jī)械加工用的刀、 模具的鍍層處理，目前主要生產(chǎn) CrAlTiN、Graphit-iC和MoST三種高性能的鍍 層。愛恩邦德技術(shù)有限公司愛恩邦德技術(shù)有限公司于2005年由IonbondAG集團(tuán)投資140萬美金成立了 愛恩邦德涂層（蘇州）有限公司，公司下設(shè)蘇州、昆山兩個(gè)工廠分別位于蘇州工 業(yè)園區(qū)和昆山經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)。IonbondAG集團(tuán)中國總部一-愛恩邦德（無錫） 技術(shù)有限公司設(shè)于無錫市高新科技技術(shù)區(qū)，IonbondAG集團(tuán)致力于CVD（化學(xué)氣 相沉積）、PVD（物理氣

11、相沉積）、PACVD離子加強(qiáng)化學(xué)氣相沉積）以及CVA（鋁 化學(xué)氣相沉積）等多種表面膜層技術(shù)及其設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)。豪澤（Hauzer）技術(shù)鍍層公司豪澤（Hauzer）技術(shù)鍍層公司是PVD技術(shù)的全球供應(yīng)商，該技術(shù)廣泛應(yīng)用 于切削刀具、汽車零部件及衛(wèi)浴五金件。母公司易普森國際是市場上領(lǐng)先的真空 熱處理技術(shù)供應(yīng)商，易普森工業(yè)爐（上海）有限公司是其在中國的生產(chǎn)基地。豪 澤公司以易普森上海為其在中國的基地，為豪澤公司先進(jìn)的鍍層和PVD系統(tǒng)的用戶提供本地化的服務(wù)支持。除了為切削刀具提供一流的硬鍍層外，豪澤公司也 為硬質(zhì)鋼的干式高速加工以及鋁、不銹鋼和鈦合金的切削刀具提供最優(yōu)化的工具 鍍層技術(shù)和減磨鍍層技術(shù)。

12、Hauzer在汽車發(fā)動(dòng)機(jī)零部件涂層上的市場份額是全 球第一的，另外他最突出的涂層技術(shù)是在 DLC膜上，這幾年刀具涂層方面的業(yè)務(wù) 發(fā)展迅速。北京丹普表面技術(shù)有限公司北京丹普表面技術(shù)有限公司是由北京丹鵬表面技術(shù)研究中心和意大利普羅 泰克表面技術(shù)有限公司于20034月共同投資興建的中意股份合作企業(yè)。主要從 事物理氣相沉積（PVD技術(shù)的研究和開發(fā)。主營產(chǎn)品為陰極電弧離子蒸發(fā)系統(tǒng) 和非平衡磁控濺射系統(tǒng)， AS系列和Propower（簡稱PP）系列計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制 離子鍍膜設(shè)備是其主打產(chǎn)品。物理氣相沉積技術(shù)總結(jié)磁控濺射技術(shù)和電弧技術(shù)在工具涂層領(lǐng)域各有優(yōu)勢， 到目前為止還很難說哪 種技術(shù)更好。磁控濺射技術(shù)這

13、幾年發(fā)展很快，世界涂層領(lǐng)域在工具涂層上濺射技 術(shù)做的最好的還是德國的 Cemecon公司，而且涂層的產(chǎn)品幾乎全是刀具。在刀具涂層領(lǐng)域，涂層設(shè)備的設(shè)計(jì)制造也有一些新的趨勢。 一些知名的國外 涂層設(shè)備制造商紛紛推出電弧加濺射的涂層設(shè)備，例如Sulzer的Domino系列涂層設(shè)備，Balzers的Innova,以及豪澤公司的涂層設(shè)備。因此濺射技術(shù)還是存在 電弧技術(shù)代替不了的優(yōu)勢的。最近兩年來，高能脈沖磁控濺射技術(shù)炒的很熱。以 Cemecon和Hauzer公司 為代表，已經(jīng)推出了采用這種技術(shù)的涂層設(shè)備。 從原理上講，這確實(shí)是一種能夠 結(jié)合電弧和濺射技術(shù)所有優(yōu)點(diǎn)的涂層技術(shù)。 如果發(fā)展的順利，高能脈沖磁控

14、濺射 技術(shù)將代表工具涂層技術(shù)未來的發(fā)展方向。在國內(nèi)物理氣相沉積鍍膜設(shè)備主要是以進(jìn)口為主，目前國內(nèi)在物理氣相沉積技術(shù)方面還屬于引進(jìn)的階段，缺少自主知名品牌，在市場上沒有競爭力，這也同 時(shí)預(yù)示著國內(nèi)物理氣相沉積技術(shù)的發(fā)展空間。 總體技術(shù)的差距導(dǎo)致國外公司的壟 斷，在這方面應(yīng)該加大投資，研發(fā)具有自主知識產(chǎn)權(quán)的高性能設(shè)備與產(chǎn)品提高競 爭力。2多弧離子鍍多弧離子鍍原理及工藝多弧離子鍍的蒸發(fā)源結(jié)構(gòu)由水冷陰極、磁場線圈、引弧電極等組成。陰極材 料即是鍍膜材料，在10-1 10 Pa真空條件下，接通電源并使引弧電極與陰極瞬 間接觸，在引弧電極離開的瞬間，由于導(dǎo)電面積的迅速縮小，電阻增大，局部區(qū)域溫度迅速升高，

15、致使陰極材料熔化，形成液橋?qū)щ姡罱K形成爆發(fā)性的金屬蒸 發(fā)，在陰極表面形成局部的高溫區(qū)，產(chǎn)生等離子體，將電弧引燃，低壓大電流的 電源維持弧光放電的持續(xù)進(jìn)行。在陰極表面形成許多明亮的移動(dòng)變化的小點(diǎn)，即 陰極弧斑。陰極孤斑是存在于極小空間的高電流密度、高速變化的現(xiàn)象。陰極弧斑的尺寸極小，有關(guān)資料測定為1 100 口；電流密度可高達(dá)105 10 7A / cm2。 每個(gè)弧斑存在的時(shí)間很短，在其爆發(fā)性地離化發(fā)射離子和電子，將陰極材料蒸發(fā) 后，在陰極表面附近，金屬離子形成空間電荷，又建立起弧斑產(chǎn)生的條件，產(chǎn)生 新的弧斑，眾多的弧斑持續(xù)產(chǎn)生，保持了電弧總電流的穩(wěn)定。陰極材料以每一個(gè) 弧斑60% 90%的離

16、化率蒸發(fā)沉積于基片表面形成膜層。 陰極弧斑的運(yùn)動(dòng)方向和 速度受磁場的控制，適當(dāng)?shù)拇艌鰪?qiáng)度可以使弧斑細(xì)小分散， 對陰極表面實(shí)現(xiàn)均勻 刻蝕。多弧離子鍍的基本原理就是把金屬蒸發(fā)源 （靶源）作為陰極，通過它與陽極 殼體之間的弧光放電，使靶材蒸發(fā)并離化，形成空間等離子體，對工件進(jìn)行沉積 鍍覆。多弧離子鍍工藝特點(diǎn)多弧離子鍍是20世紀(jì)70年代開始研究的一種新的物理氣相沉積工藝， 這種 工藝的特點(diǎn)如下：1）陰極電弧蒸發(fā)源不產(chǎn)生溶池，可以任意設(shè)置于鍍膜室適當(dāng)?shù)奈恢?，也?以采用多個(gè)電弧蒸發(fā)源，提高沉積速率使膜層厚度均勻，并可簡化基片轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)。2）金屬離化率高，可達(dá) 80%Z上，因此鍍膜速率高，有利于提高膜基附著

17、 性和膜層的性能。3） 一弧多用。電弧既是蒸發(fā)源和離化源又是加熱源和離子濺射清洗的離子 源。4）沉積速度快，繞鍍性好。5）入射粒子能量高，膜的致密度高，強(qiáng)度和耐磨性好。工件和膜界面有原 子擴(kuò)散，因而膜的附著力高。多弧離子鍍膜設(shè)備多弧離子鍍膜設(shè)備構(gòu)成多弧離子鍍設(shè)備一般比較簡單，整個(gè)設(shè)備主要由真空鍍膜室、弧源、真空獲得系 統(tǒng)、偏壓源等幾大部分組成?；≡词嵌嗷‰x子鍍設(shè)備的關(guān)鍵部件， 現(xiàn)在國內(nèi)一般 使用小弧源，直徑為6080mm厚度為直徑的1/2。少數(shù)離子鍍膜機(jī)采用柱狀 弧源設(shè)計(jì)，一臺鍍膜機(jī)只裝一個(gè)柱狀弧源于真空室中央， 工件置于四周。國外有 些離子鍍膜機(jī)使用大弧源，直徑達(dá) 100 mm 厚度約為直徑

18、的1/4, 一臺鍍膜機(jī) 上裝有1232個(gè)弧源，待鍍工件置于真空室中央。多弧離子鍍膜設(shè)備廠家1、目前國際上一流的PVD設(shè)備制造商有歐瑞康巴爾查斯、豪澤、蘇爾壽等歐瑞康巴爾查斯研發(fā)出擁有專利的新工藝，使用該工藝可以制備具有高硬度、熱穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性的氧化鋁涂層，支持層和氧化鋁層都是在低于600c的溫度下通過單一渠道生成。豪澤公司在電弧蒸發(fā)與磁控濺射技術(shù)的基礎(chǔ)上研制出系統(tǒng)設(shè)備（電弧蒸發(fā)+磁控濺射）是一款多功能研發(fā)生產(chǎn)型設(shè)備，使用該設(shè)備可制備結(jié)合強(qiáng)度高、表面 光滑致密的涂層，且可制備滲金屬 DLC涂層。蘇爾壽公司開發(fā)出具有專利的 AEGD （電弧增強(qiáng)輝光放電）技術(shù)，涂層前使 用該技術(shù)對工件表面進(jìn)行清

19、理，涂層后可獲得極好的涂層與基體結(jié)合強(qiáng)度。2、國內(nèi)比較知名的多弧離子鍍膜設(shè)備廠家表1廠家明細(xì)序號公司名稱地址1上海法德機(jī)械設(shè)備有限公司上海2上海沃家真空設(shè)備有限公司3北京丹普表面技術(shù)有限公司北京4北京德泰隆科技發(fā)展有限公司5北京隆冠科技有限公司6東莞匯成真空科技公司7東莞至成真空有限公司）東東完8東莞發(fā)加真空科技公司9溫州市佳能真空電鍍設(shè)備科技有限公司浙江溫州1011肇慶市振華真空機(jī)械有限公司 肇慶市華泰真空設(shè)備制造有限公司廣東肇慶12常州翔宇設(shè)備公司江蘇常州3、目前國內(nèi)廠家提供的國產(chǎn)多弧離子鍍膜設(shè)備與國外廠家相比雖然具有價(jià) 格優(yōu)勢，但是技術(shù)差距還是比較明顯的，現(xiàn)在國內(nèi)的主要市場還是被進(jìn)口 設(shè)

20、備控制，有實(shí)力的鍍膜生產(chǎn)廠家還是使用進(jìn)口設(shè)備，鍍膜效果好于國產(chǎn), 這也是以后國產(chǎn)設(shè)備努力的方向。隨著真空鍍膜技術(shù)的發(fā)展，對設(shè)備的要求也越來越高，中國市場容量 巨大，研制高性能鍍膜設(shè)備以及工藝對中國真空鍍膜技術(shù)的發(fā)展有很大的 幫助。3多弧離子鍍技術(shù)制備銀膜多弧離子鍍設(shè)備制備銀膜的特點(diǎn)Ag具有較好的真空摩擦學(xué)性能、良好的導(dǎo)電性和對光的高反射率，因此Ag 薄膜在空間技術(shù)具有較多應(yīng)用，被用作精密運(yùn)動(dòng)部件的固體潤滑劑、太陽能電 池板組件間的互聯(lián)片和反射鏡面等。破壞銀膜的主要因素在某些空間環(huán)境條件下，Ag薄膜可能會(huì)面臨原子氧 (Atomic Oxygen, AO) 的輻照，研究表明原子氧輻照可引起 Ag薄

21、膜的氧化，氧化層的開裂和剝落會(huì)導(dǎo) 致Ag薄膜的結(jié)構(gòu)破壞和摩擦學(xué)性能的惡化。因此，改善 Ag薄膜的耐原子氧性 能，對其在空間環(huán)境的可靠應(yīng)用具有重要意義。多弧離子鍍設(shè)備制備銀膜的改善采用多弧離子鍍膜技術(shù)可以很好的改善銀膜的特性，研究表明，薄膜的結(jié)構(gòu)對其耐氧化性能和摩擦學(xué)性能均具有明顯的影響，致密的薄膜結(jié)構(gòu)有利于提高 其耐氧化和耐磨損性能。采取低溫多弧離子鍍膜技術(shù)鍍銀薄膜，可明顯改變單 相薄膜的組織結(jié)構(gòu)，導(dǎo)致薄膜結(jié)構(gòu)由柱狀晶向細(xì)密球型晶的轉(zhuǎn)變。采取低溫多 弧離子鍍膜技術(shù)可以增加銀膜的附著力、銀膜的結(jié)構(gòu)密度、銀膜的均勻性，從 而能夠改善氧原子對銀膜的破壞。4生產(chǎn)成本分析成本分析的目的成本分析報(bào)告是企業(yè)

22、在生產(chǎn)經(jīng)營活動(dòng)中， 對構(gòu)成產(chǎn)品(商品)成本的諸多因 素進(jìn)行量化分析，即按一定的方法，利用、和其他有關(guān)資料，揭示成本計(jì)劃完成情況，查明成本升降的原因，尋求降低成本的途徑和方法，以求控制實(shí)際成本支 出，以實(shí)現(xiàn)用最少的消耗取得最大經(jīng)濟(jì)效益的研究分析報(bào)告。成本分析是成本管 理的重要組成部分，是尋求降低成本途徑的重要的手段。 成本分析可以大大提高 企業(yè)的管理水平，從而為降低生產(chǎn)成本、提高企業(yè)經(jīng)濟(jì)效益。成本分析的根本任務(wù)成本分析報(bào)告的根本任務(wù)是為了挖掘降低成本潛力，促使企業(yè)以較少的勞動(dòng) 消耗生產(chǎn)出更多更好的使用價(jià)值，實(shí)現(xiàn)更快的價(jià)值增值。因而，成本分析的核心 就是圍繞著提高經(jīng)濟(jì)效益，不斷挖掘降低成本的潛力，

23、充分認(rèn)識未被利用的勞動(dòng) 和物資資源，尋找利用不完善的部分和原因，發(fā)現(xiàn)進(jìn)一步提高利用效率的可能性， 以便從各方面揭露矛盾，找出差距，制定措施，使企業(yè)經(jīng)濟(jì)效益愈來愈好。影響產(chǎn)品成本的主要因素：建廠時(shí)帶來的固有因素1、廠房建設(shè)的固定投資；2、設(shè)備購買的固定投資；3、生產(chǎn)保障配套設(shè)施的固定投資；4、支付周邊生產(chǎn)服務(wù)單位的投入；宏觀經(jīng)濟(jì)因素1、直接原材、輔助材料成本的浮動(dòng)；2、直接人工成本的變動(dòng)；3、生產(chǎn)運(yùn)營制造費(fèi)用的改變；4、產(chǎn)品市場價(jià)格變動(dòng)；企業(yè)經(jīng)營管理因素1、的支出；2、的支出；3、支出；生產(chǎn)因素1、最大生產(chǎn)力資源利用的比例；2、生產(chǎn)設(shè)備維護(hù)、更新的費(fèi)用支出;3、生產(chǎn)不良品的費(fèi)用消耗；4、生產(chǎn)技術(shù)

24、成本的投入；其他影響因素5多弧離子鍍工藝問題分析和改進(jìn)方向由于影響涂層質(zhì)量的因素多而復(fù)雜，因此研究工藝參數(shù)與涂層性能指標(biāo)之間 的關(guān)系，以實(shí)現(xiàn)涂層性能預(yù)測與工藝優(yōu)化設(shè)計(jì)，始終是研究人員致力的目標(biāo)。 國內(nèi)外研究表明多弧離子鍍的主要工藝參數(shù)有：基體沉積溫度、反應(yīng)氣體壓強(qiáng) 與流量、靶源電流、基體負(fù)偏壓、基體沉積時(shí)間等?；w沉積溫度基體沉積溫度對涂層的生成、生長及涂層的性能產(chǎn)生直接的影響。根據(jù)吉布斯 的吸附原理可知，溫度越高基體對氣體雜質(zhì)的吸附越少。因此，一般說來，基 體沉積溫度高，有利于涂層的生成、生長，增大沉積速率；也有利于提高涂層 與基體的附著力，使涂層晶粒長大，表面平整光亮。但溫度太高，會(huì)引起晶

25、粒粗大，強(qiáng)度和硬度下降。反應(yīng)氣體壓強(qiáng)與流量反應(yīng)氣體的壓強(qiáng)與流量大小直接影響涂層的化學(xué)成分、組織結(jié)構(gòu)及性能。靶源電流弧斑的數(shù)目與靶源電流成正比，陰極斑點(diǎn)的數(shù)目隨著靶源電流的增大而增加，較 多的弧斑可以使燃燒的穩(wěn)定性增加。在一定的靶源電流范圍內(nèi)，薄膜厚度隨靶源 電流的升高而增加，通過對靶源電流大小的控制可以實(shí)現(xiàn)對薄膜制備厚度的控 制。但是對于一定的靶材，增加靶源電流意味著靶材整體溫度的升高，產(chǎn)生的液 滴會(huì)隨之增多，而且液滴的尺寸也會(huì)增大，這些液滴大大降低了涂層的各種性能。一般而言，用于裝飾涂層時(shí)靶源電流應(yīng)小些，而對刀具進(jìn)行涂層時(shí)靶源電流可稍 微大些。基體負(fù)偏壓基體負(fù)偏壓是多弧離子鍍在涂層時(shí)的一個(gè)不