光學(xué)鏡片加工工藝.doc

1、光學(xué)鏡片加工工藝目錄光學(xué)冷加工工序 -2玻璃鏡片拋光工藝 -3鏡片拋光 -4光學(xué)冷加工工藝資料的詳細描述-5模具機械拋光基本程序（對比）-7光學(xué)清洗工藝 -10鍍膜過程中噴點、潮斑 (花斑 )的成因及消除方法 -12拋光常見疵病產(chǎn)生原因及克服方法-23光學(xué)冷卻液在光學(xué)加工中的作用-25光學(xué)冷加工工序第 1道：銑磨 ,是去除鏡片表面凹凸不平的氣泡和雜質(zhì),(約 0.05-0.08) 起到成型作用 .第 2道就是精磨工序 ,是將銑磨出來的鏡片將其的破壞層給消除掉,固定 R 值.第 3道就是拋光工序 ,是將精磨鏡片在一次拋光 ,這道工序主要是把外觀做的更好。第 4道就是清洗 ,是將拋光過后的鏡片將起表

2、面的拋光粉清洗干凈.防止壓克 .第 5 道就是磨邊 ,是將原有鏡片外徑將其磨削到指定外徑。第 6 道就是鍍膜 ,是將有需要鍍膜鏡片表面鍍上一層或多層的有色膜或其他膜第 7道就是涂墨 ,是將有需要鏡片防止反光在其外袁涂上一層黑墨.第 8道就是膠合 ,是將有 2 個 R 值相反大小和外徑材質(zhì)一樣的鏡片用膠將其聯(lián)合.特殊工序 :多片加工 (成盤加工 )和小球面加工 (20 跟軸 )線切割根據(jù)不同的生產(chǎn)工藝，工序也會稍有出入，如涂墨和膠合的先后次序。玻璃鏡片拋光工藝用拋光機和拋光粉或拋光液一起下進行拋光要設(shè)定拋光時間,壓力等參數(shù) . 拋光后要立即進行清洗可浸泡 ,否則拋光粉會固化在玻璃上,會留有痕跡的

3、 .1.拋光粉的材料拋光粉通常由氧化鈰、氧化鋁、氧化硅、氧化鐵、氧化鋯、氧化鉻等組份組成，不同的 材料的硬度不同，在水中的化學(xué)性質(zhì)也不同，因此使用場合各不相同。氧化鋁和氧化鉻的莫氏硬度為9，氧化鈰和氧化鋯為7，氧化鐵更低。 氧化鈰與硅酸鹽玻璃的化學(xué)活性較高，硬度也相當(dāng)，因此廣泛用于玻璃的拋光。為了增加氧化鈰的拋光速度，通常在氧化鈰拋光粉加入氟以增加磨削率。鈰含量較低的混合稀土拋光粉通常摻有3 8 的氟；純氧化鈰拋光粉通常不摻氟。對 ZF 或 F 系列的玻璃來說，因為本身硬度較小，而且材料本身的氟含量較高，因此因選用不含氟的拋光粉為好。2.氧化鈰的顆粒度粒度越大的氧化鈰，磨削力越大， 越適合于較

4、硬的材料，ZF 玻璃應(yīng)該用偏細的拋光粉。要注意的是， 所有的氧化鈰的顆粒度都有一個分布問題， 平均粒徑 或中位徑 D50 決定了拋光速度的快慢， 而最大粒徑 Dmax 決定了拋光精度 光學(xué)冷加工生產(chǎn)操作的大小只3 的高低。因此，要得到高精度要求，必須控制拋光粉的最大顆粒。3.拋光粉的硬度拋光粉的真實硬度與材料有關(guān)，如氧化鈰的硬度就是莫氏硬度7 左右，各種氧化鈰都差 不多。但不同的氧化鈰體給人感覺硬度不同，是因為氧化鈰拋光粉通常為團聚體。 當(dāng)然，有的拋光粉中加入氧化鋁等較硬的材料，表現(xiàn)出來的磨削率和耐磨性都會提高。4.拋光漿料的濃度拋光過程中漿料的濃度決定了拋光速度時 ，漿料濃度因適當(dāng)調(diào)低。,濃

5、度越大拋光速度越高。使用小顆粒拋光粉鏡片拋光光學(xué)鏡片經(jīng)過研磨液細磨后，其表面尚有厚約23 m 的裂痕層， 要消除此裂痕層的方法即為拋光。拋光與研磨的機制一樣，唯其所使用的工具材質(zhì)與拋光液(slurry)不同，拋光所使用的材料有絨布(cloth) 、 拋光皮(polyurethane) 及 瀝青(pitch) ，通常要達到高精度的拋光面， 最常使用的材料為高級拋光瀝青。利用瀝青來拋光，是藉由瀝青細致的表面，帶動拋光液研磨鏡片表面生熱，使玻璃熔化流動，熔去粗糙的頂點并填平裂痕的谷底，逐漸把裂痕層除去。目前拋光玻璃鏡片所使用的拋光粉以氧化鈰(CeO2) 為主， 拋光液調(diào)配的比例依鏡片拋光時期不同而有

6、所不同，一般拋光初期與和拋光模合模時使用濃度較高的拋光液，鏡片表面光亮后，則改用濃度較稀的拋光液，以避免鏡面產(chǎn)生橘皮現(xiàn)象(鏡片表面霧化 ) 。拋光與研磨所用的運動機構(gòu)相同，除了拋光的工具與工作液體不一樣外，拋光時所需環(huán)境條件亦較研磨時嚴苛。一般拋光時要注意的事項如下：拋光瀝青的表面與拋光液中不可有雜質(zhì)，不然會造成鏡面刮傷。拋光瀝青表面要與鏡片表面吻合，否則拋光時會產(chǎn)生跳動，因而咬持拋光粉而刮傷鏡片表面。拋光前必須確定鏡片表面是否有研磨后所留下的刮傷或刺孔。拋光工具的大小與材質(zhì)是否適當(dāng)。瀝青的軟硬度與厚度是否適當(dāng)。拋光的過程中必須隨時注意鏡片表面的狀況及精度檢查。透鏡表面瑕疵的檢查，因為檢測的過

7、程是憑個人視覺及方法來判斷，所以檢驗者應(yīng)對刮傷及砂孔的規(guī)范有深刻的認知，要經(jīng)常比對刮傷與砂孔的標準樣版，以確保檢驗的正確性。光學(xué)冷加工工藝資料的詳細描述（工藝過程老化）1. 拋光粉1.1 對拋光粉的要求 a. b. c. d. e.顆粒度應(yīng)均勻， 硬度一般應(yīng)比被拋光材料稍硬；拋光粉應(yīng)純潔，不含有可能引起劃痕的雜質(zhì)；應(yīng)具有一定的晶格形態(tài)和缺陷， 并有適當(dāng)?shù)淖凿J性；應(yīng)具有良好的分散性和吸附性；化學(xué)穩(wěn)定性好，不致腐蝕工件。1.2 拋光粉的種類和性能常用的拋光粉有氧化鈰（CeO2）和氧化鐵（ FeO3） 。a. 氧化鈰拋光粉 顆粒呈多邊形，棱角明顯，平均直徑約2 微米，莫氏硬度7 8級， 比重約為 7

8、.3。由于制造工藝和氧化鈰含量的不同，氧化鈰拋光粉有 白色（含量達到98%以上） 、淡黃色、棕黃色等。b. 氧化鐵拋光粉俗稱紅粉， 顆粒呈球形， 顆粒大小約為0.5 1 微米，莫氏硬度4 7 級，比重約為5.2。顏色有從黃紅色到深紅色若干種。綜上所述，氧化鈰比紅粉具有更高的拋光效率，但是對表面光潔度要求高的零件，還是使用紅粉拋光效果較好。2. 拋光模層（下墊）材料) 常用的拋光模層材料有拋光膠和纖維材料。2.1 拋光膠拋光膠又名拋光柏油，是由松香、瀝青以不同的組成比例配制而成，用于光拋光。學(xué)零件的精密2.2 纖維材料在光學(xué)工件的拋光中，若對拋光面的面形精度（光圈）要求不高時，長采用其它纖維物質(zhì)

9、作為拋光模層的材料。呢絨、毛氈及3. 常用測試儀器光學(xué)零件的某些質(zhì)量指標，如透鏡的曲率半徑、棱鏡的角度，需要用專門的測試儀器來測量。常用的儀器有：光學(xué)比較側(cè)角儀、激光平面干涉儀、球徑儀和刀口儀等。5. 拋光在拋光過程中添加拋光液要適當(dāng)。太少了參與作用能夠的拋光粉顆粒減少，降低拋光效率。太多了，有些拋光粉顆粒并不參與工作，同時也帶來大量液體使玻璃邊面的溫度下降，影響拋光效率。拋光液的濃度也要適當(dāng)，濃度太低，即水 分太多， 參與工作的拋光粉顆粒減少并使玻璃表面溫度降低，因此降低拋光效率。濃度太高，即水分帶少，影響拋光壓力，拋光粉不能迅速散步均勻，導(dǎo)致各部壓力不等，造成局部多磨，對拋光的光圈（條紋）

10、質(zhì)量有影響。而且單位面積壓力減少，效率降低，拋光過程中產(chǎn)生的碎屑也不能順利排除，使工件表面粗糙。一般是開始拋光時拋光液稍濃些，快完工時，拋光液淡些，添加次數(shù)少些，這有利 于提高拋光效率和光潔度。另外，一般認為拋光液的酸度 （ pH 值）應(yīng)控制在 68 之間，否則玻璃表面會被腐蝕，影響表面光潔度。模具機械拋光基本程序（對比）模具要想獲得高質(zhì)量的拋光效果，最重要的是要具備有高質(zhì)量的油石、砂紙和鉆石研磨膏等拋光工具和輔助品。而拋光程序的選擇取決于前期加工后的表面狀況，如機械加工、電火花加工，磨加工等等。機械拋光的一般過程如下：（1） 粗拋 經(jīng)銑、 電火花、 磨等工藝后的表面可以選擇轉(zhuǎn)速在35 000

11、 40 000 rpm 的旋轉(zhuǎn)表面拋光機或超聲波研磨機進行拋光。常用的方法有利用直徑3mm、 WA # 400 的輪子去除白色電火花層。然后是手工油石研磨，條狀油石加煤油作為潤滑劑或冷卻劑。一般的使用順序為 #180 #240 #320 #400 #600 #800 #1000 。許多模具制造商為了節(jié)約時間而選擇從 #400 開始。（2）半精拋 半精拋主要使用砂紙和煤油。砂紙的號數(shù)依次為：#400 #600 #800 #1000 #1200 #1500 。 實際上 #1500 砂紙只用適于淬硬的模具鋼（ 52HRC 以上） ，而不適用于預(yù)硬鋼，因為這樣可能會導(dǎo)致預(yù)硬鋼件表面燒傷。（3）精拋 精

12、拋主要使用鉆石研磨膏。若用拋光布輪混合鉆石研磨粉或研磨膏進行研磨的話，則通常的研磨順序是9m（ #1800） 6 m（ #3000） 3m（ #8000） 。9m 的鉆石研磨膏和拋光布輪可用來去除#1200 和 #1500 號砂紙留下 的發(fā)狀磨痕。接著用粘氈和鉆石研磨膏進行拋光，順序為1m（ #14000） 1/2 m（#60000） 1/4 m（ #100000） 。 精度要求在 1m 以上（包括1m）的拋光工藝在模具加工車間中一個清潔的拋光室內(nèi)即可進行。若進行更加精密的拋光則必需一個絕對潔凈的空間?；覊m、 煙霧，頭皮屑和口水沫都有可能報廢數(shù)個小時工作后得到的高精密拋光表面。光學(xué)清洗工藝影響

13、清洗的因素：A ， 清洗工藝的技術(shù)關(guān)鍵：光學(xué)玻璃經(jīng)過清洗后能否達到表面不留任何油污，污光滑，水膜完好！跡，表面B，影響清洗后玻璃質(zhì)量的因素及相應(yīng)的解決方法：（1）玻璃本身的質(zhì)量及被污染的情況，主要為：表面有霉點，氣泡，劃傷等， 在機械處理中，如：研磨，搽試，測應(yīng)力時，人為導(dǎo)致的污染情況不一；（2）清洗劑的選擇其能動及溫度， 水質(zhì)； 國際上應(yīng)用最廣的清洗劑為 CFC-113 ，四氯化炭， 1-1-1 三氯乙烷（簡稱 ODS ）等， 此類清 洗劑對臭氧層有破壞，屬于非環(huán)保性清洗劑；我們采用非ODS 的水類堿性清洗劑，主要由水，堿，表面活性劑，防銹材料組成，化學(xué)式C3H8 ，具有側(cè)鏈的環(huán)狀烯烴，具有

14、較強的溶油能力；特點：低毒，不燃，清洗成本低等特點；（3）溶液的濃度直接影響清洗度的大??；通常清洗液的 PH 值一般在 8.5-12之間，若 PH值大于 10，側(cè)表面活性物質(zhì)作用要削弱，當(dāng) PH值大于 12 時，側(cè)清潔度下降。在實際使用中發(fā)現(xiàn)當(dāng)溶液濃度過大，超過15%，清 洗效果不好，不易漂洗，而濃度約為4%-7% 時，側(cè)清洗效果較佳。（4）溶液溫度及浸泡時間也同樣影響去污效率；當(dāng)溫度上升， 溶液的反應(yīng)速度也上升， 污染物的粘度下降， 便于污染物脫離， 但 溶液的穩(wěn)定光學(xué)冷加工生產(chǎn)操作10 度下降。 實際發(fā)現(xiàn)溶液溫度 50 度，浸泡30 分鐘后，清洗效果最好！（5）在清洗過程中， 還應(yīng)注意必須

15、使用純水或去離子水，若使用自來水等硬水側(cè)很難除去玻璃上的油污，且水中所含的Ca,Na 離子等雜質(zhì)會在烘干后的玻璃表面形成一層白色霧狀膜，污染玻璃；（6）玻璃經(jīng)清洗后需漂洗，漂洗后的清潔度， 除與清潔劑的漂洗性和清洗液中的清潔劑濃度有關(guān)外，還與漂洗工序的多少，漂洗供水量的大小，溫度及循環(huán)使用的純水是否干凈有關(guān)；（ 7）清洗環(huán)境的清潔程度；（ 8）清洗后的干燥工藝及溫度：應(yīng)盡量保證玻璃垂直，可在玻璃下墊陶瓷柱，避免烘干后玻璃下沿有水??；烘箱 溫度控制在 70 度左右，時間在 20 分鐘左右。若溫度過高，會在玻璃邊角上產(chǎn)生花 紋。鍍膜過程中噴點、潮斑 (花斑 )的成因及消除方法真空鍍膜的過程中有時會

16、產(chǎn)生噴點及潮斑(花斑 )，這些噴點、 潮斑 (花斑 )極 大的影響了薄膜的品質(zhì)，降低產(chǎn)品的合格率。本文將對噴點、潮斑 (花斑 )的形成 原因以及消除方法作一探討。一噴點形成的原因鍍膜過程中產(chǎn)生噴點主要有以下幾種原因:1. 鍍膜材料純度不高，含雜質(zhì)較多 ,預(yù)熔過程中無法將這些雜質(zhì)去除 ,蒸鍍過程 中雜質(zhì)濺上工件表面形成噴點。2. 材料較為潮濕,預(yù)熔時電子槍光斑不能將表面的材料全部熔化噴點 (這種情況在用國產(chǎn)電子槍鍍制MgF2及一些直接升華的材料,在蒸鍍過程中時較易發(fā)生也容易產(chǎn)生)。3. 鍍膜前對材料進行預(yù)熔時不夠充分,蒸鍍過程中材料里的細小顆粒濺上工件表面形成噴點。4. 鍍膜過程中 ,電子槍束流

17、過大引起的材料飛濺產(chǎn)生的噴點。二潮斑形成的原因 :1. 清洗液配比不好 ,含有較多水份 ,清洗后工件表面留有殘跡 ,鍍膜后形成花斑。2. 鍍制兩個面以上的工件時 ,一面鍍制完成 ,清洗第二面時 , 鍍制完的一面受到 污染 ,在第二面鍍膜后形成花斑。3.工件本身含有的水份（工件白片制作過程細解）,在蒸鍍前的烘烤過程中逸出, 蒸鍍后形成潮斑。4.鍍膜夾具在烘烤過程中會有水汽以及其它廢氣排出,蒸鍍后在工件表面形成潮斑且對鍍膜后的光學(xué)特性產(chǎn)生影響。針對以上噴點、潮斑 (花斑 )的成因 ,在生產(chǎn)中采取了以下一些措施以消除噴點、潮斑 (花斑 ):1.選擇可靠的材料供應(yīng)商,并對購買的每批材料在投入使用前先做

18、一測試,判定材料的可靠性。2. 規(guī)范材料的領(lǐng)用、保管 ,(干燥缸 ,干燥劑 )保證材料不受潮 ,材料性質(zhì)無變化。3. 規(guī)范鍍膜操作 ,嚴格執(zhí)行預(yù)熔、蒸鍍的操作規(guī)程。蒸鍍前的材料預(yù)熔一定要徹 底 ,鍍制某些較厚的膜層時可以采用多次預(yù)熔的方法消除噴點。4. 規(guī)范清洗操作 ,加強清洗后的檢查 ,提高清洗質(zhì)量 ,消除因清洗而產(chǎn)生的潮斑(花斑 )。5. 調(diào)整烘烤溫度 ,消除烘烤原因產(chǎn)生的潮斑。6. 規(guī)范鍍膜夾具的管理。每次投入使用前,夾具需要先經(jīng)過清洗、烘烤 (300 度 ,3 小時以上) 才能投入生產(chǎn)。7. 設(shè)計鍍膜夾具時,盡量采用在真空室內(nèi)放氣量小的材料,同時可采取夾具表面鍍 Ni 的方法降低夾具的

19、放氣量,消除由此產(chǎn)生的潮斑(花斑 )。 通過以上這些措施,鍍膜過程中產(chǎn)生的噴點、潮斑 (花斑 ) 可以得到非常有效的控制。研磨或拋光對光學(xué)鏡片腐蝕的影響光學(xué)玻璃腐蝕是伴隨著光學(xué)玻璃拋光及拋光下盤以后的全過程,它受拋光粉及拋光用水的酸堿度以及拋光液使用時間延續(xù)趨于呈堿性及周圍環(huán)境中潮濕空氣、酸性氣體等因素影響而產(chǎn)生的一種化學(xué)腐蝕。 因此 ,可以認為光學(xué)玻璃腐蝕是一個化學(xué)過程 ,如果僅僅停留在拋光下盤以后 ,采用若干防護措施 ,顯然是不夠的。應(yīng)在拋光過程中就采取必要的防護措施。、等光學(xué)玻璃在拋光過程中及拋光下盤以后的腐蝕問題 ,長期以來一直影響著這些光學(xué)玻璃零件的加工質(zhì)量和生產(chǎn)效率。通過對光學(xué)玻璃

20、在拋光過程中穩(wěn)定性課題的研究和生產(chǎn)實驗,研制并篩選出比較理想的光學(xué)玻璃拋光添加劑 ; 即在這些化學(xué)穩(wěn)定性差的光學(xué)玻璃拋光液中,添加適當(dāng)?shù)闹嫡{(diào)節(jié)劑及表面穩(wěn)定劑,減少了、等系列化學(xué)穩(wěn)定性差的光學(xué)玻璃在拋光過程中的腐蝕問題,顯著提高了拋光表面質(zhì)量和合格率, 并進一步提高了光學(xué)玻璃零件加工的效率和效益及其工藝技術(shù)水平 .五、結(jié)束語 從玻璃的腐蝕機理出發(fā) ,依照光學(xué)玻璃在拋光過程中的化學(xué)作用,對、 、 等化學(xué)穩(wěn)定性差的光學(xué)玻璃在其拋光液中添加適當(dāng)?shù)闹嫡{(diào)節(jié)劑及表面穩(wěn)定劑 ,在拋光過程中抑制玻璃腐蝕的可能性。使這幾種光學(xué)玻璃拋光表面一次合格率從 0% 10%左右分別提高到75% 85%左右。即使在高溫高濕條

21、件下 ,其一次合格率也能穩(wěn)定在75%以上。同時提高拋光速率近2倍 ;并提高玻璃拋光表面的粗糙度及“亮度” 。拋光下盤以后 ,可存放數(shù)天或10 多天時間 ,便于零件運轉(zhuǎn)和下道工序加工。在拋光下盤以后 ,再作若干補充防護措施,更為可 靠。這項有理論、 有實踐、 可操作的對化學(xué)穩(wěn)定性差光學(xué)玻璃拋光過程中的防護措施 ,進一步提高了光學(xué)冷加工的效率和效益及其工藝技術(shù)水平。拋光常見疵病產(chǎn)生原因及克服方法印跡1)拋光模與鏡盤吻合不好出現(xiàn)油斑痕跡2)玻璃化學(xué)穩(wěn)定性不好3)水珠、拋光液、口水沫等未及時擦拭干凈克服方法1)選用合適的拋光膠,修刮或?qū)Ω?(聚胺脂 )拋光模使之吻合2)拋光中產(chǎn)生的印跡可以選用適當(dāng)?shù)奶?/p>

22、加劑;而完工后產(chǎn)生的印跡可以保護3） 避免對著工件講話 ,如下盤擦不干 ,應(yīng)擦凈 ,對化學(xué)穩(wěn)定性不好玻璃還應(yīng)烘光圈變形1)粘結(jié)膠粘結(jié)力不適2)光圈未穩(wěn)定既下盤3)剛性盤加工時 ,剛盤使用時間較長未檢測(沉孔臟或變形 )4)剛性盤加工時被加工工件外圓偏大,上盤方法不當(dāng)?shù)瓤朔椒?)光圈變形主要發(fā)生在較薄的零件或不規(guī)則的零件,應(yīng)采用適當(dāng)?shù)纳媳P方法2)應(yīng)按工件大小給予一定的光圈穩(wěn)定時間3)剛盤定期進行檢測和修正4）嚴格按工藝和上盤操作規(guī)程加工麻點產(chǎn)生原因1) 精細磨、拋光時間不夠2) 精細磨面立不均勻或中間與邊緣相差大3)有粗劃痕拋斷后的殘跡4)方形或長方形細磨后塌角5)零件在鏡盤上由于加工造成走動

23、6) 精細磨面形誤差太大 ,尤其是偏高 ,易造成邊緣拋光不充分7) 拋光模加工時間過長或拋光液使用時間長而影響拋光效率克服方法1) 精細磨應(yīng)除去上道粗砂眼 , 拋光時間應(yīng)足夠2) 精細磨光圈匹配得當(dāng) ,應(yīng)從邊緣向中間加工3)發(fā)現(xiàn)后應(yīng)作出標識單獨擺放或重拋4)用開槽平模細模、添加砂要均勻5)選用適當(dāng)?shù)恼辰Y(jié)膠，控制工序溫度和鏡盤忽冷忽熱, 粘結(jié)膠厚度應(yīng)符合標6)精細磨各道光圈匹配應(yīng)嚴格按工藝操作指導(dǎo)卡操作7)更換拋光皮及拋光液的各項指標( 比重、 PH 值等 )周期性管理準劃痕產(chǎn)生原因1)拋光粉粒度不均勻或混有大顆粒機械雜質(zhì)2)工房環(huán)境不潔凈3)拋光材料 (拋光膠或聚胺脂及粘貼膠等4)擦布不潔及操

24、作者帶入灰塵)不潔5)精細磨遺留劃痕未拋掉或清洗不徹底6)檢查光圈工件或樣板不干凈、方法不當(dāng)7)拋光材料 (拋光膠或聚胺脂)偏硬、使用時間長表面起硬殼或邊緣有干硬堆積物8)拋光模與鏡盤不吻合9)輔助工序（下盤、清洗、周轉(zhuǎn)、保護漆未干等）造成克服方法1)選用粒度均勻和與玻璃材料對應(yīng)拋光粉2)做好 “ 5S工”作3)保管好所需用品4)擦布清洗保管及操作者穿戴好工作服和帽子5)應(yīng)自檢6)正確使用樣板7)選用合適拋光材料(拋光膠或聚胺脂)，周期更換，對改或修刮拋光模8)對改或修刮、重新制作拋光模9)按各輔助工序操作規(guī)程加工光學(xué)冷卻液在光學(xué)加工中的作用在光學(xué)冷加工中， 使用冷卻液的目的是對金剛石磨削工具

25、進行冷卻， 以帶走 光學(xué)玻璃加工過程中的熱量，保證光學(xué)冷加工的順利進行，但對這一目的，在使 用水或其它有機液體作為冷卻介質(zhì)后，基本上都可以達到要求，尤其是使用水介 質(zhì)，成本低廉，冷卻效果也十分理想。 但是如果在光學(xué)冷加工中用自來水來冷 卻，可以肯定地說， 其加工是低效率的，因為金剛石工具無法發(fā)揮其最大的工作 效率，因此冷卻液的核心作用是與金剛石工具協(xié)調(diào)作用，保證金剛石工具能將自 身的磨削效能發(fā)揮到極至，同時較高質(zhì)量的冷卻液還能帶來高質(zhì)量的加工表面， 減少對光學(xué)玻璃的浸蝕，降低拋光后水印和霉菌的產(chǎn)生。當(dāng)然好的冷卻液還應(yīng)該具有較好的緩蝕性能，沒有氣味和不污染環(huán)境及其它影響健康的不利因素。1 光學(xué)冷

26、卻液的緩蝕性能水與光學(xué)冷加工設(shè)備接觸后，將直接導(dǎo)致設(shè)備的銹蝕，因此冷卻液的緩蝕性能是冷卻液最基本的技術(shù)要求。根據(jù)光學(xué)冷加工設(shè)備常用的材料，應(yīng)該對鑄鐵、普通鋼板、鋁件或銅件具有緩蝕作用。 質(zhì)量較差的冷卻液往往會加速設(shè)備腐蝕， 降低冷加工設(shè)備的使用壽命，從而增加生產(chǎn)成本。2 光學(xué)冷卻液對金剛石工具的致銳性能為了使光學(xué)冷卻液具有我們所需要的性能，我們在自來水中加入了某些特性物質(zhì)，比如一定量的金屬緩蝕劑，表面活性劑，適宜的潤滑劑等物來組成冷卻液的配方，它們的引入往往會帶來我們不需要的一些現(xiàn)象，比如：泡沫、氣味、對皮膚的過敏或刺激、對設(shè)備的腐蝕、毒性等，這些現(xiàn)象的強弱或大小，直接影響了冷卻液的綜合性能。

27、2.1 光學(xué)冷卻液在冷加工中與金剛石磨具的協(xié)調(diào)作用高效光學(xué)冷加工一般分為銑磨（粗磨），精磨，和拋光三個階段，各階段所采用的工藝參數(shù)、輔料直接影響了光學(xué)加工的效能。在銑磨（粗磨），精磨或超精磨過程中，冷卻液的作用不可小覷。用金剛石銑磨輪或鉆石粒（丸片）加工光學(xué)玻璃一般分為三個階段，即預(yù)磨、主磨削和光刀階段。根據(jù)各個階段的目的，冷加工設(shè)備由繼電器控制調(diào)壓閥來調(diào)節(jié)氣壓的大小和磨削時間。在預(yù)磨階段，由于磨具與玻璃之間吻合不好，施與低壓可防止沖擊而使金剛石磨盤的丸片脫落或使鏡盤工件打壞。在這一階段，由于金剛石工具與被加工光學(xué)元件處于低壓接觸磨削狀態(tài)，此時金剛石對光學(xué)玻璃的磨削量很小， 而同時， 粗糙的玻璃表面對金剛石工具基體也產(chǎn)生磨削，作用的結(jié)果就是在金剛石工具的工作面上形成一個破壞層，這個破壞層由鑲嵌在基體中的金剛石小顆粒、合金基體的小突起和被吸附的基體粉末、金剛石粉、玻璃粉等。 此階段是金剛石工具被致銳的階段，也是冷卻液發(fā)揮作用的主要階段，在此階段，冷卻液的作用是使吸附在工具表面的金屬基體微小顆粒和玻璃粉脫離工作面，從 而增加了金