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1、1,第七章 特征操作,特征操作是對(duì)已創(chuàng)建特征模型進(jìn)行局部修改,從而對(duì)模型進(jìn)行細(xì)化,即在特征建模的基礎(chǔ)上增加一些細(xì)節(jié)的表現(xiàn),因此有時(shí)也叫細(xì)節(jié)特征。通過特征操作,可以用簡(jiǎn)單的特征創(chuàng)建比較復(fù)雜的特征實(shí)體。,2,常用特征操作,細(xì)節(jié)特征: 邊緣倒圓、邊緣倒角、面倒圓、軟倒圓和拔錐等。 相關(guān)復(fù)制:WAVE幾何鏈接器、抽取、合成曲線、特征引用陣列、鏡像特征、鏡像體、幾何體引用陣列和提升體等。 組合體:布爾求和、求差與求交;縫合與補(bǔ)片體等。 修剪:修剪體、修剪片、修剪與延伸等。 偏置與比例:偏置面、比例體與殼(挖空)等。,3,邊倒圓,邊倒圓操作功能就是按照用戶指定的半徑值對(duì)預(yù)選的實(shí)體邊進(jìn)行倒圓操作,以產(chǎn)生平滑
2、過渡。 在【特征操作】工具欄中單擊按鈕或選擇菜單命令【插入】/【細(xì)節(jié)特征】/【邊倒圓】。UG NX 6共提供了3種邊倒圓的方式。,4,邊倒圓,5,思考練習(xí),【練習(xí)7-1】邊倒圓edge_blend_1.prt,Tangent Curves,Face Edges,6,思考練習(xí),【練習(xí)7-2】編輯邊倒圓blend_edit_dryer.prt,Edge Blend (24),Edge Blend (25),Edge Blend (26),7,邊倒角,邊倒角功能是在選定的兩組面之間進(jìn)行倒角操作,并可對(duì)面進(jìn)行裁剪操作。 在【特征操作】工具欄中單擊按鈕或選擇菜單命令【插入】/【細(xì)節(jié)特征】/【倒斜角】。,
3、對(duì)稱,非對(duì)稱,偏置和角度,8,思考練習(xí),【練習(xí)7-3】建立倒角chamfer_1.prt,Offset and Angle Offset =1.75 Angle = 30,Asymmetric Distance 1 = .25 Distance 2 = .5,9,拔模,拔模是將指定特征模型的表面或邊沿指定的方向傾斜一定的角度。 在【特征操作】工具欄中單擊按鈕或選擇菜單命令【插入】/【細(xì)節(jié)特征】/【拔?!?。,10,拔模,從平面拔錐,從邊緣拔錐,11,拔模,相切到面,到分模邊緣,12,思考練習(xí),【練習(xí)7-4】拔模draft.prt,設(shè)計(jì)意圖是: 當(dāng)前部件底部(1)和凸墊頂部(2)的尺寸必須維持不變
4、。 在所有外部表面上作用一10度拔錐。 拔模方向必須關(guān)聯(lián)到部件底部(1)和凸墊頂部(2)。 圓形凸臺(tái)(3)的外頂端點(diǎn)須保持在當(dāng)前位置不變。 作用一5度拔錐到內(nèi)部孔。維持開口(4)的尺寸,Angle =10,13,思考練習(xí),14,面倒圓,面倒圓操作功能就是在用戶選取的表面之間創(chuàng)建一個(gè)相切于選取表面的倒圓特征。 在【特征操作】工具欄中單擊或選擇菜單命令【插入】/【細(xì)節(jié)特征】/【面倒圓】。,15,軟倒圓,軟倒圓與面倒圓的操作基本相同,不同之處在于面倒圓可指定圓角類型及半徑方式,而軟倒圓則需要根據(jù)兩相切曲線以及圓角形狀控制參數(shù)來決定倒圓面的形狀。 在【特征操作】工具欄中單擊按鈕或選擇菜單命令【插入】/
5、【細(xì)節(jié)特征】/【軟倒圓】。,16,實(shí)例特征,實(shí)例特征操作可以是對(duì)已有特征產(chǎn)生陣列(矩形陣列或環(huán)形陣列)、圖樣面等操作。實(shí)例操作產(chǎn)生的特征實(shí)際上是按照用戶設(shè)置的特征分布位置實(shí)現(xiàn)對(duì)已有特征的復(fù)制,這些實(shí)例特征對(duì)象稱為特征的成員,當(dāng)修改其中任何一個(gè)成員特征的參數(shù)時(shí),所有成員特征的參數(shù)均會(huì)得到更新。 注意: 1、有布爾操作的特征的引用陣列必須與父實(shí)體保持相交。 2、不能建立下列特征的引用:殼(控空)、倒圓、倒角、偏置片體、基準(zhǔn)、修剪的片體、拔錐、修剪體等特征與自由形狀特征。,17,實(shí)例特征,在【特征操作】工具欄中單擊按鈕或選擇菜單命令【插入】/【關(guān)聯(lián)復(fù)制】/【實(shí)例特征】。在其中通過選擇不同的實(shí)例方式,
6、可以完成特征不同的實(shí)例操作。系統(tǒng)共提供了3種不同的實(shí)例操作方式。,18,矩形引用陣列,矩形引用陣列用于從一個(gè)或多個(gè)選擇的特征建立一線性的引用陣列。 矩形引用陣列或是建立在XC和YC中的兩維(幾行特征)中 或是建立在XC或YC中的一維(一行特征)中, 這些引用陣列基于加入的數(shù)和偏置距離、平行于XC和/或YC軸生成。 1. XC和YC方向的引用數(shù)必須是大于零的整數(shù)。 2. 偏置值可以是正或負(fù)。,19,矩形引用陣列,20,思考練習(xí),【練習(xí)7-5】矩形引用陣列instance_arrary_1.prt,Orient,Method = General Number Along XC = 2 XC Off
7、set = 1.25 Number Along YC= 3 YC Offset = 0.687,21,圓形引用陣列,1. 引用數(shù)必須是大于零的整數(shù)。 2. 角度值可以是正或負(fù)。,22,思考練習(xí),【練習(xí)7-6】圓形引用陣列instance_array_2.prt,Extrude (5) Boss (6) Boss (7) Extrude (9) Simple Hole (12),Method = General Number = 3 Angle = 120,Edit Parameters: Number = 4 Angle = 90,Cross Section = Symmetric Dista
8、nce = 1.5 Chamfer All Instance = ON,23,鏡像體,該功能用于以用戶選取的基準(zhǔn)平面來鏡像所選的實(shí)體特征。 如果在原來體中的特征參數(shù)改變, 引起原來體改變, 這些改變也將反映在鏡像體中。 如果編緝相關(guān)基準(zhǔn)面參數(shù),鏡像體會(huì)相應(yīng)改變。 如果刪除原物體或基準(zhǔn)面, 鏡像體也被刪除。 如果移動(dòng)原來體, 鏡像體也會(huì)移動(dòng)。 可以添加特征到鏡像體。 可以利用Unite操作來組合原物體和鏡像體以建立一對(duì)稱的模型。,24,鏡像體,在【特征操作】工具欄中單擊按鈕或選擇菜單命令【插入】/【關(guān)聯(lián)復(fù)制】/【鏡像體】。 如果勾選“固定于當(dāng)前時(shí)間戳記”,那么在鏡像體之后,對(duì)原來體做的任何修改都
9、不反映在鏡像體中,該選項(xiàng)默認(rèn)設(shè)置為勾選。,25,思考練習(xí),【練習(xí)7-7】鏡像體mirror_hair_dryer.prt,26,修剪體,利用一個(gè)表面、基準(zhǔn)面或其它幾何體去修剪一個(gè)或多個(gè)目標(biāo)體,被修剪的體取得修剪幾何體的形狀。 所有參數(shù)化信息被保留。 必須選擇至少一個(gè)的目標(biāo)體,即使只有一個(gè)可能的目標(biāo)體時(shí)。 可以選擇單個(gè)面、同一實(shí)體的多個(gè)面或基準(zhǔn)面去修剪目標(biāo)體。 在【特征操作】工具欄中單擊按鈕或選擇菜單命令【插入】/【修剪】/【修剪體】。,27,修剪體,28,思考練習(xí),【練習(xí)7-8】修剪體trim_body.prt,29,殼,利用殼命令按照用戶指定的厚度對(duì)一個(gè)實(shí)體進(jìn)行挖空操作或圍繞它建立一殼體。 在【特征操作】工具欄中單擊圖標(biāo)或選擇菜單命令【插入】/【偏置/縮放】/【抽殼】。,30,思考練習(xí),【練習(xí)7-9】 建立一殼體shell_hair_dryer.prt,31,思考練習(xí),【練習(xí)7-10】 建立殼與編輯方向shell_face_selection.prt,32,思考練習(xí),【練習(xí)7-11】 具有不同壁厚的殼體shell_alternate_thickness.prt,Tangent Faces,Alternate Thickness,33,思考練習(xí),【練習(xí)
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