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在相控陣技術(shù)中，延時(shí)法則是必不可少的。通過(guò)采用每個(gè)陣元合理的延時(shí)，我們可以實(shí)現(xiàn)電子掃查、聲束偏轉(zhuǎn)、聲束聚焦。本文將著重介紹聚焦。聚焦，顧名思義，讓聲場(chǎng)的能量聚焦在很小的點(diǎn)上。這提高了側(cè)向分辨力，因此能夠分辨兩個(gè)彼此靠近的指示。通過(guò)對(duì)指示處發(fā)射更多的能量，也能提高信噪比。但是，聚焦在正確的位置是非常重要的。為了幫助操作人員處理大多數(shù)情況，M2M相控陣儀器提供了三種聚焦選項(xiàng)，從而不需要使用外部的軟件計(jì)算延時(shí)和/或?qū)刖劢狗▌t：深度聚焦聲程聚焦投影聚焦深度聚焦是最著名的聚焦類(lèi)型，也是大多數(shù)相控陣儀器使用的最典型的聚焦。操作人員只需要規(guī)定聚焦的深度。下圖顯示的就是ASMT2491標(biāo)準(zhǔn)中的試塊，試塊上加工有1mm的一排橫通孔，孔深10mm。聲程聚焦：Gekko儀器能讓聲束聚焦在相同的聲程。ASTM2491試塊中加工了兩個(gè)陣列的橫通孔，分布在R25mm和R50mm的圓弧上。采用扇掃，將聲程聚焦在R25mm和R50mm，獲得橫通孔的影像。我們可以看到聚焦對(duì)橫通孔的影像。如果聚焦點(diǎn)設(shè)置不合理，信噪比相對(duì)很差。投影聚焦：操作員可以規(guī)定距離參考點(diǎn)特定的距離和角度，使得聲束進(jìn)行聚焦。我們可以看到ASTM2491標(biāo)準(zhǔn)中試塊上加工的斜向分布的一排橫通孔。它能很好地聚焦在工件中任意一條線，如坡口面上。所有的延時(shí)法則對(duì)線陣列探頭、矩陣列探頭和雙線陣、雙面陣探頭都適用，它允許操作者在檢測(cè)時(shí)優(yōu)化和調(diào)節(jié)聚焦參數(shù)。同

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